A hot and cold chamber temperature controlled heating support frame, which mainly solves the existing semiconductor coating equipment, heat exchange efficiency and productivity is low, not enough uniform wafer temperature resulting in membrane failure, provide a kind of hot and cold chamber temperature controlled heating support frame of the invention, the heating support frame comprises a support frame on the heating body, a separating plate, ceramic column. A heating support frame body, a fixed nut. The invention of the temperature controlled heating support frame automatically adjust the temperature by cold cavity by circulation medium in different temperature, automatically adjust the heating temperature of the support frame can be realized, can accurately control the temperature of the heating supporting rack.
【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及一种冷热腔可控温加热支撑架,属于半导体薄膜沉积应用及制造
技术介绍
半导体设备在进行沉积反应时往往需要使晶圆及腔室加热或维持在沉积反应所需要的温度,所以加热盘必需具备加热结构以满足给晶圆预热的目的。大多数半导体薄膜沉积设备,在沉积过程中还会有等离子体参与沉积反应,因等离子体能量的释放以及化学气体间反应的能量释放,加热盘及晶圆的温度会随着射频及工艺时间的增加温度会不断的上升,如果在进行相同温度下的工艺,需要等待加热盘降到相同的温度后才能进行,这样会耗费大量的时间,设备的产能相对比较低。如果晶圆和加热盘的温度升温过快,晶圆和加热盘的温度会超出薄膜所需承受的温度,致使薄膜失败。为了解决工艺过程中加热盘温升过快降温慢的问题,我们需要有能够自动调节加热盘温度的系统,来保证加热盘的温度。
技术实现思路
本专利技术以解决上述问题为目的,提供了一种冷热腔可控温加热支撑架,该加热支撑架采用媒介加热支撑架进行温度控制,每个部件上有不同的结构,形成支撑架的热空腔室和冷腔室,进而控制加热支撑架的温度。本专利技术通过不同温度的循环媒介的自动调节控温,可以实现加热支撑架温度的自动调节,能够精确地控制加热支撑架的温度。为实现上述目的,本专利技术采用下述技术方案:一种冷热腔可控温加热支撑架,该加热支撑架包括加热支撑架上盘体,陶瓷柱,分隔板,加热支撑架下盘体,固定螺母;所述加热支撑架上盘体上设有陶瓷柱孔,加热支撑架上盘体的下盘面边缘设有凸台A,陶瓷柱孔边缘设有凸台B,加热支撑架上盘体的下盘面中央位置设有凸台C,所述凸台C处设有热媒通道进口端,热媒通道出 ...
【技术保护点】
一种冷热腔可控温加热支撑架,其特征在于,该加热支撑架包括加热支撑架上盘体,陶瓷柱,分隔板,加热支撑架下盘体,固定螺母;所述加热支撑架上盘体上设有陶瓷柱孔,加热支撑架上盘体的下盘面边缘设有凸台A,陶瓷柱孔边缘设有凸台B,加热支撑架上盘体的下盘面中央位置设有凸台C,所述凸台C处设有热媒通道进口端,热媒通道出口端与热电偶孔;分隔板上设有分隔板陶瓷柱孔,分隔板媒介进口,分隔板媒介出口与分隔板热电偶孔;加热支撑架下盘体上设有通孔,加热支撑架下盘体上盘面的边缘设有凸台D,通孔的边缘设有凸台E,加热支撑架下盘体上盘面的中央位置设有凸台F,凸台F处设有下盘体媒介进口,下盘体媒介出口,热电偶螺纹孔,冷媒进口与冷媒出口;所述分隔板和加热支撑架下盘体通过焊接后中间形成一个空腔,用以进行冷循环媒介循环,为冷腔;然后再将加热支撑架上盘体与其焊接,形成另一个空腔,用以进行热循环媒介循环,为热腔;然后将陶瓷柱穿过陶瓷柱孔、分隔板陶瓷柱孔与通孔内,通过固定螺母对陶瓷柱进行固定。
【技术特征摘要】
1.一种冷热腔可控温加热支撑架,其特征在于,该加热支撑架包括加热支撑架上盘体,陶瓷柱,分隔板,加热支撑架下盘体,固定螺母;所述加热支撑架上盘体上设有陶瓷柱孔,加热支撑架上盘体的下盘面边缘设有凸台A,陶瓷柱孔边缘设有凸台B,加热支撑架上盘体的下盘面中央位置设有凸台C,所述凸台C处设有热媒通道进口端,热媒通道出口端与热电偶孔;分隔板上设有分隔板陶瓷柱孔,分隔板媒介进口,分隔板媒介出口与分隔板热电偶孔;加热支撑架下盘体上设有通孔,加热支撑架下盘体上盘面的边缘设有凸台D,通孔的边缘设有凸台E,加热支撑架下盘体上盘面的中央位置设有凸台F,凸台F处设有下盘体媒介进口,下盘体媒介出口,热电偶螺纹孔,冷媒进口与冷媒出口;所述分隔板...
【专利技术属性】
技术研发人员:吕光泉,吴凤丽,郑英杰,张建,
申请(专利权)人:沈阳拓荆科技有限公司,
类型:发明
国别省市:辽宁;21
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