The invention discloses a heterojunction solar cell and a preparation method thereof, the heterojunction solar battery comprises a silicon wafer substrate with alumina film substrate with gallium nitride film on alumina film, the formation of GaN/Al2O3/Si heterojunction structure. The preparation method comprises the following steps: polishing, depositing aluminum oxide film, annealing, depositing gallium nitride film, preparing ITO transparent conductive film and silver grid wire electrode. The invention of the heterojunction solar cell, with GaN/Al2O3/Si heterojunction structure, effectively solves the problem between gallium nitride and silicon substrate due to the lattice mismatch induced recombination, greatly improve the lifetime of heterojunction solar cell, its preparation method has the advantages of simple process.
【技术实现步骤摘要】
本专利技术属于太阳能电池器件制造
,具体涉及一种异质结太阳电池及其制备方法。
技术介绍
目前,光伏业内硅基太阳能电池的最高转换效率已达26.33%,已相当接近于硅基太阳能电池的理论效率极限29%。对于现有的硅基太阳能电池而言,其转化效率已很难有进一步的提升空间。
技术实现思路
本专利技术所需解决的技术问题是克服现有技术的不足,提供一种制备工艺简单、转换效率高的异质结太阳电池及其制备方法。为解决上述技术问题,本申请采用的技术方案是:一种异质结太阳电池,所述异质结太阳电池包括硅片基底,所述硅片基底上设有氧化铝薄膜,所述氧化铝薄膜上设有氮化镓薄膜,形成GaN/Al2O3/Si异质结结构。上述的异质结太阳电池中,优选的,所述氧化铝薄膜的厚度为1nm~2nm。上述的异质结太阳电池中,优选的,所述氮化镓薄膜的厚度为100μm~300μm。作为一个总的技术构思,本专利技术还提供了一种上述的异质结太阳电池的制备方法,包括以下步骤:(1)对硅片表面进行抛光;(2)在步骤(1)中经抛光后的硅片表面沉积氧化铝薄膜;(3)对步骤(2)中得到的表面沉积有氧化铝薄膜的硅片进行退火;(4)在步骤(3)中经退火后的氧化铝薄膜表面沉积氮化镓薄膜;(5)在步骤(4)中得到的氮化镓薄膜上制备一层ITO透明导电薄膜和银栅线电极。上述的制备方法中,优选的,所述步骤(2)中,采用原子层沉积法沉积氧化铝薄膜;所述原子层沉积法中,沉积温度为150℃~250℃。上述的制备方法中,优选的,所述步骤(1)中,采用碱溶液进行抛光;所述抛光的温度为70℃~90℃,时间为1min~4min。上述的制备方法中,优 ...
【技术保护点】
一种异质结太阳电池,其特征在于,所述异质结太阳电池包括硅片基底,所述硅片基底上设有氧化铝薄膜,所述氧化铝薄膜上设有氮化镓薄膜,形成GaN/Al2O3/Si异质结结构。
【技术特征摘要】
1.一种异质结太阳电池,其特征在于,所述异质结太阳电池包括硅片基底,所述硅片基底上设有氧化铝薄膜,所述氧化铝薄膜上设有氮化镓薄膜,形成GaN/Al2O3/Si异质结结构。2.根据权利要求1所述的异质结太阳电池,其特征在于,所述氧化铝薄膜的厚度为1nm~2nm。3.根据权利要求1或2所述的异质结太阳电池,其特征在于,所述氮化镓薄膜的厚度为100μm~300μm。4.一种如权利要求1~3中任一项所述的异质结太阳电池的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:(1)对硅片表面进行抛光;(2)在步骤(1)中经抛光后的硅片表面沉积氧化铝薄膜;(3)对步骤(2)中得到的表面沉积有氧化铝薄膜的硅片进行退火;(4)在步骤(3)中经退火后的氧化铝薄膜表面沉积氮化镓薄膜;(5)在步骤(4)中得到的氮化镓薄膜上制备一层ITO透明导电薄膜和银栅线电极。5.根据权利要求4所述的制备方法,其特征在于,所述步骤(2)中,采用原子层沉积法沉积氧化铝薄膜;所述原...
【专利技术属性】
技术研发人员:许烁烁,刘良玉,
申请(专利权)人:中国电子科技集团公司第四十八研究所,
类型:发明
国别省市:湖南;43
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