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一种海棠的栽培基质制造技术

技术编号:15237053 阅读:92 留言:0更新日期:2017-04-28 22:23
本发明专利技术属于植物栽培基质领域,特别是一种海棠的栽培基质领域。一种海棠的栽培基质,其特征是:由品氏4号基质土加珍珠岩加椰糠以以下体积比组成:1~2:2~3:1。本发明专利技术栽培的海棠幼苗壮实,叶多叶大,叶片整齐,也使得基质透气保水,在很大程度上满足了海棠生长的需要,而且栽培基质明显促进了海棠在植株高度、根长度、根数量、以及茎粗方面的明显增加。

Begonia cultivation medium

The invention belongs to the field of plant cultivation substrate, in particular to a field of cultivation medium of begonia. The utility model is characterized in that the utility model is composed of a mass of 4 of the base material of the soil, adding perlite and coir bran to form the following volume ratio: 1~2:2~3:1. The invention of the sturdy seedling cultivation of Begonia, leaf leaf, leaf neatly, also makes the matrix permeability water, to a large extent to meet the needs of Begonia growth, and cultivation medium significantly promoted the increase in Begonia plant height, root length, root number, stem diameter and the Ming dynasty.

【技术实现步骤摘要】

本专利技术属于植物栽培基质领域,特别是一种海棠的栽培基质领域。
技术介绍
海棠为报春花科多年生球根花卉,小枝圆柱形,紫红色,幼时被淡黄色绒毛;树皮片状脱落,落后痕迹显著。叶片椭圆形或椭圆状长圆形,长5-9厘米,宽3-6厘米,先端急尖,基部楔形或近圆形,边缘具刺芒状细锯齿,齿端具腺体,表面无毛,幼时沿叶脉被稀疏柔毛,背面幼时密被黄白色绒毛;叶柄粗壮,长1-1.5厘米,被黄白色绒毛,上面两侧具棒状腺体;托叶膜质,椭圆状披针形,长7-15毫米,先端渐尖,边缘具腺齿,沿叶脉被柔毛。花单生于短枝端,直径2.5-3厘米;海棠喜凉爽、湿润及阳光充足的环境。生长和花芽分化的适温为15~20℃,湿度为70%~75%;冬季花期温度不得低于10℃,若温度过低,则花色暗淡且易凋落;夏季温度若达到28~30℃,则植株休眠,若温度达到35℃以上,则块茎易腐烂。幼苗较老株耐热,性稍强。海棠为中日照植物,生长季节的适宜光照强度为28000lux。如果偏高或偏低,则光合强度明显下降。由于海棠喜湿润的生长环境,故栽培基质要求颗粒度适中,疏松透气,透水性及保水性好。所以常规的基质培养出来的海棠品质不佳,影响成品质量等级。
技术实现思路
针对上述现状和现有技术的不足之处,本专利技术在了解海棠生长规律的基础上,提供一种海棠的栽培基质。一种海棠的栽培基质,其特征是:由品氏4号基质土加珍珠岩加椰糠以以下体积比组成:1~2:2~3:1。所述基质的最佳配比:品氏4号基质土和珍珠岩和椰糠体积比为1.5~2:2.5~3:1。与现有技术相比,本专利技术的优点是:由于海棠喜湿润的生长环境,故栽培基质要求颗粒度适中,疏松透气,透水性及保水性好。本专利技术栽培的海棠幼苗壮实,叶多叶大,叶片整齐,也使得基质透气保水,在很大程度上满足了海棠生长的需要,而且栽培基质明显促进了海棠在植株高度、根长度、根数量、以及茎粗方面的明显增加。具体实施方式本实验分为专利技术组和对照组,每组处理50株海棠。选择海棠的优质品种种子,放入80%的酒精消毒45min。种子消毒后再采用0.2%的高锰酸钾溶液浸泡25h,晾干以后进行播种。播种在穴盘中,每个播种盘播55粒种子。待芽长出6cm后,移栽定植在塑胶盆内,定植后缓苗一周后,进行正常管理:温度控制在20~25℃,湿度控制在750/~75%,光照控制在30000Lx,在栽培过程中施用营养液,其成分为:Ca(N03)2850mg/L,KH2P04300mg/L,KN03850mg/L;MgS04.7H20500mg/L,CaCl2.H2O200mg/L;EDTA-F((螯合铁)4mg/L,FeS04.7H2O260mg/L。其中营养液的电导率EC值为2.28Ms/cm,pH值为5.8~6.2,出苗前只浇清水,出苗后第一次采用上述营养液,1500倍液灌施(重量/体积比,即l克加1500毫升水),第二次采用上述营养液的700倍液灌施(重量/体积比,即1克加700毫升水以后按1000倍液(重量/体积比,即1克加1500毫升水)施用,每隔5天灌施一次,每次全部浸湿苗盘基质,以底部开始渗漏液滴为宜,施用时间为每天早上。另外其中的珍珠岩在用之前,用水浸泡一下,可以起到过滤的作用,除去杂质,也可以发挥珍珠岩的营养特性。例1:(专利技术组):品氏4号基质土和珍珠岩和椰体积比为2:1:1。(对照组):普通园土两组均采用上述方法栽培海棠,经过15天的培养,观测植株,每组处理取平均数后,记录各处理基质的植株高度、根长度、茎粗以及叶片数。例2:(专利技术组):品氏4号基质土和珍珠岩和椰体积比为2:3:1。(对照组):普通园土两组均采用上述方法栽培海棠,经过20天的培养,观测植株,每组处理取平均数后,记录各处理基质的植株高度、根长度、茎粗以及叶片数。例3:(专利技术组):品氏4号基质土和珍珠岩和椰体积比为3.5:2.5:2。(对照组):普通园土两组均采用上述方法栽培海棠,经过15天的培养,观测植株,每组处理取平均数后,记录各处理基赝的植株高度、根长度、茎粗以及叶片数。培养20天后,观测植株,每个处理取平均数后,记录各处理基质的植株高度、根长度、叶片数以及茎粗等,记录结果如下:本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种海棠的栽培基质,其特征是:由品氏4号基质土加珍珠岩加椰糠以以下体积比组成。

【技术特征摘要】
1.一种海棠的栽培基质,其特征是:由品氏4号基质土加珍珠岩加椰糠以以下体积比组成。2.根据权利要求1所述...

【专利技术属性】
技术研发人员:吴明金
申请(专利权)人:吴明金
类型:发明
国别省市:山东;37

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