一种光照强度调节装置、系统和方法制造方法及图纸

本申请实施例提供了一种光照强度调节装置、系统和方法，所述系统包括光照强度测量单元，信号转换单元，以及，光照强度调节装置；其中，光照强度测量单元，用于测量每个像素单元的光照强度；信号转换单元，用于将每个像素单元的光照强度转换为电压信号；光照强度调节装置，包括多个像素单元以及对应设置的多个调节电路，其中，像素单元包括第一透明电极和电致变色层，每个调节电路分别与每个像素单元的第一透明电极对应连接；通过控制第一透明电极上的电压大小，改变电致变色层的透光状态，以调节相应的像素单元的光照强度。本申请实施例通过调节电路控制每一个像素元素的透光情况，控制透过透光区域的光照强度的大小，实现了光照强度的自动调节。

【技术实现步骤摘要】

本申请涉及半导体
，特别是涉及一种光照强度调节装置、一种光照强度调节系统和一种光照强度调节方法。
技术介绍
在半导体显示制造过程中，光刻工序至关重要。光刻工序的原理是利用掩膜版(mask)上的几何图形，通过曝光和光化学反应，将mask上的图形转移到基板上。其中，曝光机的曝光强度和均一性是极其重要的管控参数，对基板上图案的形成有着决定性的影响，特别是采用4MASK工艺时，对光照强度和均一性要求更为严格，一旦出现偏差，将会造成信号线线宽差异、断线、短路的情况。目前，业内普遍采用手动调节的方式控制曝光机的光照强度大小和均一性，通过定期测量光照强度大小和均一性，如果对应区域的光照强度大小和均一性不符合要求，则通过调整狭缝调节旋钮进行修正，然后再次进行测量，重复以上步骤，直至每个狭缝调节旋钮对应区域的光照强度大小和均一性均在规格范围内。反复调整和测量一般都需要人为进行5-6次才会完成。但是，上述手动调节程序繁琐复杂，难以控制旋钮调节的精度，需要调试人员多次调节和测量，效率低下；而且，手动调节需要调试人员进入曝光机内部完成，多次的调节也就需要多次的进出曝光机，容易破坏曝光机内高洁净度、恒温、恒湿的环境，影响光学元件的寿命和质量，缩短设备的使用寿命。
技术实现思路
鉴于上述问题，提出了本申请实施例以便提供一种克服上述问题或者至少部分地解决上述问题的一种光照强度调节装置、一种光照强度调节系统和相应的一种光照强度调节方法。为了解决上述问题，本申请实施例公开了一种光照强度调节装置，包括：多个像素单元，所述像素单元包括第一透明电极和电致变色层；与所述像素单元对应设置的多个调节电路，其中，每个调节电路分别与每个像素单元的第一透明电极对应连接；通过控制所述第一透明电极上的电压大小，改变所述电致变色层的透光状态，以调节相应的像素单元的光照强度。可选地，所述像素单元还包括透明基板和第二透明电极，其中，所述透明基板、第一透明电极、电致变色层和第二透明电极按照由下至上的顺序构成所述像素单元。可选地，所述调节电路包括栅极、源极和漏极，所述漏极复用所述像素单元的第一透明电极。为了解决上述问题，本申请实施例公开了一种光照强度调节系统，所述光照强度调节系统包括光照强度测量单元，信号转换单元，以及，光照强度调节装置；其中，所述光照强度测量单元，用于测量每个像素单元的光照强度；所述信号转换单元，用于将所述每个像素单元的光照强度转换为电压信号；所述光照强度调节装置，包括多个像素单元以及对应设置的多个调节电路，其中，所述像素单元包括第一透明电极和电致变色层，每个调节电路分别与每个像素单元的第一透明电极对应连接；通过控制所述第一透明电极上的电压大小，改变所述电致变色层的透光状态，以调节相应的像素单元的光照强度。可选地，所述像素单元还包括透明基板和第二透明电极，其中，所述透明基板、第一透明电极、电致变色层和第二透明电极按照由下至上的顺序构成所述像素单元。可选地，所述调节电路包括栅极、源极和漏极，所述漏极复用所述像素单元的第一透明电极。为了解决上述问题，本申请实施例公开了一种光照强度调节方法，包括：分别测量每个像素单元的光照强度；将所述光照强度转换为电压信号；依据所述电压信号，调节相应的像素单元的光照强度。可选地，所述像素单元包括第一透明电极，所述第一透明电极与对应设置的一个调节电路连接，在所述将所述光照强度转换为电压信号的步骤后，还包括：将所述电压信号输入所述调节电路。可选地，所述像素单元还包括电致变色层，所述依据所述电压信号，调节相应的像素单元的光照强度的步骤包括：依据所述电压信号，控制所述第一透明电极上的电压大小，改变所述电致变色层的透光状态，以调节相应的像素单元的光照强度。可选地，所述依据所述电压信号，控制所述第一透明电极上的电压大小的步骤包括：当所述调节电路接收到的电压信号的大小小于预设阈值时，增大相应的像素单元的第一透明电极上的电压值；当所述调节电路接收到的电压信号的大小小于预设阈值时，降低相应的像素单元的第一透明电极上的电压值。与
技术介绍
相比，本申请实施例包括以下优点：本申请实施例，可以将曝光机中透光区域划分为多个像素单元，并将每个像素单元分别与对应设置的调节电路相连接，通过调节电路控制每一个像素元素的透光情况，从而控制透过透光区域的光照强度的大小，进而实现了曝光机的光照强度的自动调节。附图说明图1是本申请的一种光照强度调节装置实施例的结构框图；图2是本申请的调节电路的连接示意图；图3是本申请的一种光照强度调节系统实施例的结构框图；图4是本申请的一种光照强度调节方法实施例的步骤流程图。具体实施方式为使本申请的上述目的、特征和优点能够更加明显易懂，下面结合附图和具体实施方式对本申请作进一步详细的说明。参照图1，示出了本申请的一种光照强度调节装置实施例的结构框图，具体可以包括如下部分：多个像素单元10，所述像素单元10包括第一透明电极102和电致变色层103；与所述像素单元10对应设置的多个调节电路20，其中，每个调节电路20分别与每个像素单元10的第一透明电极102对应连接。在本申请实施例中，可以通过控制所述第一透明电极102上的电压大小，进而改变所述电致变色层103的透光状态，以调节相应的像素单元10的光照强度。在本申请实施例中，所述光照强度调节装置可以应用于曝光机中。曝光机是一种集电子光学、电气、机械、真空、计算机等技术于一体的复杂的半导体加工设备，可以在计算机的控制下，利用聚焦电子束对有机聚合物(通常称为电子抗蚀剂或光刻胶)进行曝光，受电子束辐照后的光刻胶，其物理化学性质发生变化，在一定的溶剂中形成良溶或非良溶区域，从而在抗蚀剂上形成精细图形。曝光机在半导体、微电子、LCD(LiquidCrystalDisplay，液晶显示器)以及PCB(PrintedCircuitBoard，印制电路板)等产品的生产过程中应用广泛。通常，曝光机具有一透光区域，所述透光区域内包括有多个像素单元10，通过控制每一个像素单元10的透光情况，可以实现对对应的透光区域的光照强度大小的调节。具体地，曝光机的透光区域可以被划分为23个像素单元，当然，为了实现更精细化地对透光区域的光照强度大小的调节，本领域技术人员根据实际需要，也可以将透光区域划分为更多个像素单元，例如46个像素单元或69个像素单元等等，本申请实施例对此不作限定。一般地，除第一透明电极102和电致变色层103外，每个像素单元10还包括有透明基板101和第二透明电极104，并且，所述透明基板101、第一透明电极102、电致变色层103和第二透明电极104按照由下至上的顺序构成所述像素单元10。参照图2，示出了本申请的调节电路20的连接示意图，所述调节电路20可以是包括栅极201、源极202和漏极203的开关电路。在具体实现中，所述漏极203可以复用所述像素单元10的第一透明电极102。所述开关电路可以控制电压的打开和关闭，从而控制对应的像素单元10上的光照强度。当然，本申请实施例中的调节电路20还可以采用单独的信号线控制电路的形式，即单根信号线对应的一个像素元素10，本申请实施例对调节电路的具体类型不作限定。在本申请实施例中，可以将曝光机中透光区域划分为多个像素单元。并将每个像素单元分本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种光照强度调节装置，其特征在于，包括：多个像素单元，所述像素单元包括第一透明电极和电致变色层；与所述像素单元对应设置的多个调节电路，其中，每个调节电路分别与每个像素单元的第一透明电极对应连接；通过控制所述第一透明电极上的电压大小，改变所述电致变色层的透光状态，以调节相应的像素单元的光照强度。

【技术特征摘要】
1.一种光照强度调节装置，其特征在于，包括：多个像素单元，所述像素单元包括第一透明电极和电致变色层；与所述像素单元对应设置的多个调节电路，其中，每个调节电路分别与每个像素单元的第一透明电极对应连接；通过控制所述第一透明电极上的电压大小，改变所述电致变色层的透光状态，以调节相应的像素单元的光照强度。2.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，所述像素单元还包括透明基板和第二透明电极，其中，所述透明基板、第一透明电极、电致变色层和第二透明电极按照由下至上的顺序构成所述像素单元。3.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，所述调节电路包括栅极、源极和漏极，所述漏极复用所述像素单元的第一透明电极。4.一种光照强度调节系统，其特征在于，所述光照强度调节系统包括光照强度测量单元，信号转换单元，以及，光照强度调节装置；其中，所述光照强度测量单元，用于测量每个像素单元的光照强度；所述信号转换单元，用于将所述每个像素单元的光照强度转换为电压信号；所述光照强度调节装置，包括多个像素单元以及对应设置的多个调节电路，其中，所述像素单元包括第一透明电极和电致变色层，每个调节电路分别与每个像素单元的第一透明电极对应连接；通过控制所述第一透明电极上的电压大小，改变所述电致变色层的透光状态，以调节相应的像素单元的光照强度。5.根据权利要求4所述的系统，其特征在于，所述像素...

【专利技术属性】
技术研发人员：曹中林，刘庭良，黄炜赟，李挺，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，成都京东方光电科技有限公司，
类型：发明
国别省市：北京;11