The invention discloses a pair of pressure roller and a substrate transfer device, which relates to the technical field of substrate transmission, which is used for preventing the upper roller and the lower roller of the pressure roller from being dislocated and reducing the deformation of the substrate. The pressure roller includes axial parallel arranged first rollers and second rollers, the upper surface of the first substrate is located under the surface of the roller, the second roller positioned on the substrate; the first roller shaft is provided with a first spacing part, used to limit the axial displacement of the first roller, the second roller shaft is provided with second limiting part, with in order to limit the axial displacement of the second rollers, the first limiting part and the second spacing part with each other, in order to prevent the occurrence of the first roller and the second roller stagger. The substrate conveying device comprises a pressing roller. The pressing roller is used for preventing the upper and the lower rollers of the pressure roller to be dislocated, and the deformation of the substrate is reduced.
【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及基板传送
,尤其涉及一种对压滚轮及基板传送装置。
技术介绍
目前,在薄膜晶体管液晶显示器(ThinFilmTransistor-LiquidCrystalDisplay,以下简称TFT-LCD)的生产过程中,需要通过湿法刻蚀在基板表面形成电极图案;且湿法刻蚀时,需要在基板上喷淋刻蚀药剂,以实现在基板上制作图案,这一过程发生在基板传送过程中。但是,由于在基板上喷淋刻蚀药剂,会对基板产生较大的作用力,使得基板与基板传送装置中的滚轮发生较大的摩擦,而阻碍基板传送;为了解决这个问题,在基板上喷淋刻蚀药剂时,通过对压滚轮传送基板,即:将基板传送至两个对设的滚轮之间,并通过这两个滚轮传送基板,从而实现基板的传送。但是,在基板的传送过程中发现,对压滚轮的上下滚轮容易在轴向发生偏移,引起上下滚轮错位,导致设在上下滚轮之间的基板的变形甚至破碎。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种对压滚轮及基板传送装置,用于防止对压滚轮的上下滚轮错位,减少基板变形。为了实现上述目的,本专利技术提供如下技术方案:一种对压滚轮,用于传送基板,包括轴向平行设置的第一滚轮和第二滚轮,所述第一滚轮位于基板的上表面,所述第二滚轮位于基板的下表面;第一滚轮的轴上设有第一限位部,用以限制第一滚轮的轴向位移,第二滚轮的轴上设有第二限位部,用以限制第二滚轮的轴向位移,第一限位部与第二限位部互相配合,用以防止第一滚轮和第二滚轮发生错开。与现有技术相比,本专利技术提供的对压滚轮具有如下有益效果:本专利技术提供的对压滚轮中,通过在第一滚轮的轴上设置第一限位部,使得第一滚轮的轴向位移受到限制; ...
【技术保护点】
一种对压滚轮,用于传送基板,其特征在于,包括轴向平行设置的第一滚轮和第二滚轮,所述第一滚轮位于基板的上表面,所述第二滚轮位于基板的下表面;第一滚轮的轴上设有第一限位部,用以限制第一滚轮的轴向位移,第二滚轮的轴上设有第二限位部,用以限制第二滚轮的轴向位移,第一限位部与第二限位部互相配合,用以防止第一滚轮和第二滚轮发生错开。
【技术特征摘要】
1.一种对压滚轮,用于传送基板,其特征在于,包括轴向平行设置的第一滚轮和第二滚轮,所述第一滚轮位于基板的上表面,所述第二滚轮位于基板的下表面;第一滚轮的轴上设有第一限位部,用以限制第一滚轮的轴向位移,第二滚轮的轴上设有第二限位部,用以限制第二滚轮的轴向位移,第一限位部与第二限位部互相配合,用以防止第一滚轮和第二滚轮发生错开。2.根据权利要求1所述的对压滚轮,其特征在于,所述第一限位部为环状结构。3.根据权利要求1所述的对压滚轮,其特征在于,所述第二限位部包括第二限位本体、左限位片和右限位片,所述左限位片设于第二限位本体的左侧,所述右限位片设于第二限位本体的右侧,所述第二限位本体、左限位片和右限位片套设在第二滚轮的轴上;其中,所述第二限位本体、左限位片和右限位片形成凹槽结构,所述第一限位部伸入所述凹槽结构中,所述第一限位部在所述凹槽结构中能够沿轴向发生移动。4.根据权利要求3所述的对压滚轮,其特征在于,所述第一限位部伸入所述凹槽结构中的一端与所述凹槽的槽底之间具有间隙。5.根据权利要求3所述的对压滚轮,其特征在于,所述凹槽结构的宽度L1大于所述第一限位部的厚度L2,L1-L2=△L;所述第一滚轮的轮部厚度S1小于所述第二滚轮的轮部厚度S2,S2-S1=△S;且△L<△S;其中,所述凹槽结构的宽度方向、所述第一限位部的厚度方向、所述第一滚轮的轮部厚度方向,以及所述第二滚轮的轮部厚度方向均沿第一滚轮的轴向。6.根据权利要求1~5任一项所述的对压滚轮,其特征在于,所述第一滚轮包括第一轴,以及套设在第一轴上的第一轮体,所述第二滚轮包括第二轴,以及套设在第二轴上的第二轮体;所述第一限位部套设在第一轴上,所述第二限位部套设在第二轴上;其中,所述第一轮体与基板的上表面接触,所述第二轮体与基板的下表面接触;所述第一限位部与第一轮体相连,所述第二限位部与第二轮体相连。7....
【专利技术属性】
技术研发人员:陈柏宇,陈巍,何茂盛,刘庆,范鹏飞,吕耀军,
申请(专利权)人:京东方科技集团股份有限公司,成都京东方光电科技有限公司,
类型:发明
国别省市:北京;11
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。