涂布方法、涂布设备及发光器件技术

本发明专利技术公开了一种涂布方法、涂布设备及发光器件。该涂布方法包括：确定微针冒出的液滴的最下端到达第一位置则控制供液装置停止给微针供液；确定微针的端部到基板的距离达到第二距离，其中，第二距离为预先设置的；控制供液装置继续供液，并控制微针相对于基板运动而涂布图案。通过本发明专利技术提供了一种较优的图案形成方案，从而避免了采用现有技术中的喷墨打印设备容易造成喷嘴极易堵塞的技术问题。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及电子器件领域，具体而言，涉及一种涂布方法、涂布设备及发光器件。
技术介绍
随着平板显示业的蓬勃发展，人们越来越追求高品质画质，以有机发光二极管(OrganicLight-EmittingDiode,OLED)为代表的新一代显示技术受到广泛的关注。而OLED以轻薄、柔性、广视角同样吸引人们驻足，但是以真空热蒸镀为主的OLED制成能耗大，大尺寸掩膜板尺寸偏差影响色彩精准性。与之相比，以量子点溶液通过湿法涂布工艺制作的量子点发光二极管(QuantumDotsLight-EmittingDiode,QLED)显然更具优势。目前较为成熟的湿法涂布工艺如旋涂法(spincoating)，材料利用率只有5％左右，喷涂法(spraycoating)的材料利用率约为90％，但是这些涂布工艺都不能直接做图案(pattern)，需要后期引入去膜工艺将相应位置的材料清除，或者在涂布前先施加阻挡的掩模板，这不仅浪费了材料，也使制作工艺变得复杂。目前研究的比较热门且可精确制备图案化图形的涂布工艺如喷墨打印(inkjetcoating)，只要基板上预先设置好涂布区域，一般由像素界定层围挡一圈形成“堤坝”使材料可以很精准的落入，可用来制备如像素(pixel)般精细的图案。喷墨打印设备若要实现精密的区域涂布，设备造价会非常昂贵，且墨水调配也是个难点，设备与墨水若不匹配，打印出的液滴会有很多散点，即主液滴周围有很多小液滴，造成基板污染，打印量不能稳定控制，另外，打印停顿时，由于溶剂挥发会造成喷嘴堵塞。
技术实现思路
本专利技术实施例提供了一种涂布方法、涂布设备及发光器件，避免了在喷墨打印设备的喷嘴极易堵塞的技术问题。根据本专利技术实施例的一个方面，提供了一种涂布方法，该方法包括：确定微针冒出的液滴的最下端到达第一位置则控制供液装置停止给微针供液；确定微针的端部到基板的距离达到第二距离，其中，第二距离为预先设置的；控制供液装置继续供液，并控制微针相对于基板运动而涂布图案。进一步地，在确定微针冒出的液滴的最下端到达第一位置则控制供液装置停止给微针供液之前，该方法还包括：控制微针的端部位于第二位置，其中，第一位置到第二位置的距离为第一距离，第一距离是预先设置的，相对于基板，第一位置在第二位置下方；控制供液装置开始供液。进一步地，通过以下至少之一对微针的端部或者液滴的最下端的位置进行探测：激光、微针的出液口压力。进一步地，第一距离用于控制液滴的大小，和/或，第二距离还用于控制微针到基板上的像素隔离柱的远离基板的上表面的高度，以让微针在经过像素隔离柱的上表面时抬起，且在经过基板的裸露表面上方时下落。进一步地，第二距离小于等于第一距离，并且，第二距离大于0。进一步地，第二距离用于控制液滴涂布图案的线条宽度。进一步地，该方法还包括：在涂布结束之后，上抬微针，在微针的端部与基板的距离大于第二距离时，控制供液装置停止供液。根据本专利技术的另一个方面，还提供了一种涂布设备，该设备包括：载物平台，用于放置基板；至少一个微针，用于出液，并被控制相对于基板运动而涂布图案；定距装置，用于对微针的端部到基板的距离进行定位；供液装置，用于对至少一个微针进行供液，其中，定距装置定位的微针的端部到基板的距离为进行供液的依据。进一步地，定距装置包括以下至少之一：激光定位装置、至少一个微针的出液口压力探测装置。进一步地，激光定位装置包括第一激光定位装置和第二激光定位装置，其中，第一激光定位装置出射的激光包括上激光和下激光。进一步地，上激光用于定位微针端部，下激光用于定位液滴的最下端位置。进一步地，第二激光定位装置用于定位微针的端部与基板的距离。进一步地，微针的内径为1微米至1毫米，优选微针的内径与涂布图案的线条宽度的比值范围为1:0.5至1:1.5。进一步地，微针外壁及端部表面设置有表面张力低于阈值的涂层，阈值为液滴可浸润在微针外壁及端部表面的涂层的表面张力。根据本专利技术的再一个方面，还提供了一种发光器件,所述发光器件使用上述方法制造。在本专利技术实施例中，确定微针冒出的液滴的最下端到达第一位置则控制供液装置停止给微针供液；在确定微针的端部到基板的距离达到预先设置的第二距离之后，控制供液装置继续供液，并控制微针相对于基板运动而涂布图案。采用本专利技术，先控制微针冒出的液滴的大小，然后根据微针端部到基板的距离的大小来控制是否给微针供液，从而保证了在涂布的过程中微针处于持续供液的状态，与现有的利用喷墨打印方法对基板进行图案的涂布相比，避免了设备在不持续的出液过程中易堵塞出液口的现象，降低了涂布图案时喷嘴出液口的概率，从而避免了采用现有技术中的喷墨打印设备容易造成喷嘴极易堵塞的技术问题，提供了一种较优的替代方案。附图说明此处所说明的附图用来提供对本专利技术的进一步理解，构成本申请的一部分，本专利技术的示意性实施例及其说明用于解释本专利技术，并不构成对本专利技术的不当限定。在附图中：图1是根据本专利技术实施例的涂布方法的流程图；图2是根据本专利技术实施例的涂布设备的结构框图；图3是根据本专利技术实施例的微针就位的示意图；图4是根据本专利技术实施例的涂布的示意图；图5是根据本专利技术实施例的涂布结束的示意图。具体实施方式为了使本
的人员更好地理解本专利技术方案，下面将结合本专利技术实施例中的附图，对本专利技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本专利技术一部分的实施例，而不是全部的实施例。基于本专利技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都应当属于本专利技术保护的范围。需要说明的是，本专利技术的说明书和权利要求书及上述附图中的术语“第一”、“第二”等是用于区别类似的对象，而不必用于描述特定的顺序或先后次序。应该理解这样使用的数据在适当情况下可以互换，以便这里描述的本专利技术的实施例能够以除了在这里图示或描述的那些以外的顺序实施。此外，术语“包括”和“具有”以及他们的任何变形，意图在于覆盖不排他的包含。在本实施例中提供了一种涂布方法，图1是根据本专利技术实施例的涂布方法的流程图，如图1所示，该流程包括如下步骤：步骤S102，确定微针40冒出的液滴50的最下端到达第一位置则控制供液装置停止给微针40供液；步骤S104，确定微针40的端部到基板20的距离达到第二距离，其中，第二距离为预先设置的；步骤S106，控制供液装置继续供液，并控制微针40相对于基板20运动而涂布图案。通过上述步骤，可以首先控制液滴50的大小，然后再进行涂布，这样对保护微针40的出液口有益，例如，可以在一定程度上降低微针出液口堵塞的概率，提供了一种较好的涂布方案。具体的，采用本专利技术，先控制微针40冒出的液滴50的大小，然后根据微针40端部到基板20的距离的大小来控制是否给微针40供液，从而保证了在涂布的过程中微针40处于持续供液的状态，与现有的利用喷墨打印方法对基板20进行图案的涂布相比，避免了设备在不持续的喷墨过程中易堵塞微针出液口的现象，降低了涂布图案时微针出液口堵塞的概率，从而避免了采用现有技术中的喷墨打印设备容易造成喷嘴极易堵塞的技术问题，提供了一种较优的解决方案。上述实施例中的第一距离用于控制液滴50的大小，和/或，第二距离还用于控制微针到基板20上的像素隔离柱的远离基板20的上表面的高度，以让微针本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种涂布方法，其特征在于，包括：确定微针(40)冒出的液滴(50)的最下端到达第一位置则控制供液装置停止给所述微针(40)供液；确定所述微针(40)的端部到基板(20)的距离达到第二距离，其中，所述第二距离为预先设置的；控制所述供液装置继续供液，并控制所述微针(40)相对于所述基板(20)运动而涂布图案。

【技术特征摘要】
1.一种涂布方法，其特征在于，包括：确定微针(40)冒出的液滴(50)的最下端到达第一位置则控制供液装置停止给所述微针(40)供液；确定所述微针(40)的端部到基板(20)的距离达到第二距离，其中，所述第二距离为预先设置的；控制所述供液装置继续供液，并控制所述微针(40)相对于所述基板(20)运动而涂布图案。2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，在确定微针(40)冒出的液滴(50)的最下端到达第一位置则控制供液装置停止给所述微针(40)供液之前，所述方法还包括：控制所述微针(40)的端部位于第二位置，其中，所述第一位置到所述第二位置的距离为第一距离，所述第一距离是预先设置的，相对于所述基板(20)，所述第一位置在所述第二位置下方；控制所述供液装置开始供液。3.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，通过以下至少之一对所述微针(40)的端部或者所述液滴(50)的最下端的位置进行探测：激光、所述微针(40)的出液口压力。4.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述第一距离用于控制所述液滴(50)的大小，和/或，所述第二距离还用于控制所述微针(40)到所述基板(20)上的像素隔离柱的远离所述基板(20)的上表面的高度，以让所述微针(40)在经过所述像素隔离柱的所述上表面时抬起，且在经过所述基板(20)的裸露表面上方时下落。5.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述第二距离小于等于第一距离，并且，所述第二距离大于0。6.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述第二距离用于控制液滴(50)涂布图案的线条宽度。7.根据权利要求1至6中任一项所述的方法，其特征在于，还包括：在涂布结束之后，上抬所述微针(40)，在所述微针(40)的...

【专利技术属性】
技术研发人员：顾辛艳，
申请(专利权)人：纳晶科技股份有限公司，
类型：发明
国别省市：浙江;33