【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及吸收器,特别是一种基于纳米盘阵列结构的光学超材料吸收器。
技术介绍
超材料是指一些具有天然材料所不具备的超常物理性质的人工复合结构或复合材料。通过在材料的关键物理尺度上的结构有序设计,可以突破某些表观自然规律的限制,从而获得超出自然界固有的普通性质的超常材料功能。超材料在电磁波吸收器的相关领域受到了越来越多的关注与研究,电磁吸收器是一种可以抑制电磁能量的反射与折射的装置。电磁吸收器的主要原理是通过设计等效电磁参数来获得特定电磁吸收属性。这种超材料吸收器具有吸收效率高,结构简单等优点,可以应用于生物传感器、探测器和光伏器件等。
技术实现思路
本专利技术的目的是提供一种基于纳米盘阵列结构的超材料吸收器,该超材料吸收器工作在560nm到675nm的波段范围的平均吸收率大于95%。本专利技术的技术解决方案如下:一种基于纳米盘阵列结构的光学超材料吸收器,包括玻璃衬底,其特点是在玻璃衬底上依次沉积氮化钛薄膜、氧化铟锡薄膜和阵列的盘状氮化钛纳米盘,所述的氮化钛薄膜的厚度t3的取值范围为不小于200nm,氧化铟锡薄膜的厚度t2的取值范围为45nm-55nm,氮化钛nm盘的厚度t1的取值范围为40nm-60nm,所述的氮化钛纳米盘的中心间距P的取值范围为450nm-550nm,纳米盘的直径d的取值范围为240nm-320nm。请补充本专利技术的技术效果:本专利技术超材料吸收器工作在560nm到675nm的波段范围的平均吸收率大于95%。这种超材料吸收器具有吸收效率高,结构简单等优点,可以应用于生物传感器、探测器和光伏器件等。附图说明图1是本专利技术超材料吸收器的 ...
【技术保护点】
一种基于纳米盘阵列结构的光学超材料吸收器,包括玻璃衬底,其特征是在玻璃衬底上依次沉积氮化钛薄膜、氧化铟锡薄膜和阵列的盘状氮化钛纳米盘,所述的氮化钛薄膜的厚度t3的取值范围为不小于200nm,氧化铟锡薄膜的厚度t2的取值范围为45nm‑55nm,氮化钛nm盘的厚度t1的取值范围为40nm‑60nm,所述的氮化钛纳米盘的中心间距P的取值范围为450nm‑550nm,纳米盘的直径d的取值范围为240nm‑320nm。
【技术特征摘要】
1.一种基于纳米盘阵列结构的光学超材料吸收器,包括玻璃衬底,其特征是在玻璃衬底上依次沉积氮化钛薄膜、氧化铟锡薄膜和阵列的盘状氮化钛纳米盘,所述的氮化钛薄膜的厚度t3的取值范围为不小于200nm,氧化铟锡薄膜的...
【专利技术属性】
技术研发人员:王建国,朱美萍,孙建,易葵,邵建达,
申请(专利权)人:中国科学院上海光学精密机械研究所,
类型:发明
国别省市:上海;31
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