防反射部件及其制造方法技术

防反射部件具有：具有微细凹凸结构的防眩层、具有层积的多个膜且形成于防眩层的上层的防反射层。在防眩层，微细凹凸结构的表面的具有因倾斜角的偏差引起的防反射层的膜厚偏差为膜厚比±20％以内的倾斜角的面，在形成有微细凹凸结构的区域中占60％以上。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及防反射部件及其制造方法。
技术介绍
近年来，显示器的多用途化不断发展，例如有时会在外部光或照明照射的状况等、视觉辨认性容易下降的状况下使用显示器。因此，希望显示器的显示面板的反射处理性能的提升。就反射处理的技术而言，具有通过多层膜抵消反射光并相应减少反射光的AR(Anti－Reflection)技术、通过具有微细凹凸结构的防眩层使反射光扩散而变得不明显的AG(Anti－Glare)技术。但是，在照明等反射的情况下，在AR技术中，照明的轮廓会被观察到，就这点而言，显示的视觉辨认性下降。另外，在AG技术中，由于扩散了的反射光，反射部分发白光，显示的视觉辨认性下降。作为现有技术，在专利文献1中公开了在涂敷于基材上的透明树脂设有微细凹凸图案的防眩塑料膜。在专利文献2中公开了在具有微细凹凸结构的防眩层上形成有低折射率层的防反射膜。低折射率层通过将树脂涂敷及固化而形成。专利文献1：(日本)特开平6－234175号公报专利文献2：国际公开第2008/084604号
技术实现思路
本专利技术提供一种反射处理性能高的防反射部件及其制造方法。本专利技术一方面的防反射部件具有：防眩层，其具有微细凹凸结构；防反射层，其具有层积的多个膜，并且形成在防眩层的上层。在防眩层，微细凹凸结构的表面的具有如下的倾斜角的面在形成有微细凹凸结构的区域中占60％以上，所述倾斜角为因微细凹凸结构的表面的倾斜角的偏差引起的防反射层的膜厚偏差为膜厚比±20％以内的倾斜角。本专利技术另一方面的防反射部件的制造方法具有：防眩层形成工序，进行使用了具有凹凸面的模具的成型处理而在基材上形成微细凹凸结构；防反射层形成工序，在微细凹凸结构的上层形成具有层积的多个膜的防反射层。模具的凹凸面形成为，被转印的凹凸面的具有因倾斜角的偏差引起的防反射层的膜厚偏差为膜厚比±20％以内的倾斜角的面占60％以上。根据本专利技术，能够使在防眩层的上层形成的防反射层的特性良好，并且进一步提升防反射部件的反射处理性能。另外，能够减少由陡峭的倾斜面包围的槽部或凹部，从而也减少因污物向槽部或凹部的附着而引起的视觉辨认性的下降。附图说明图1是表示实施方式1的防反射部件的示意图；图2是说明实施方式1的微细凹凸结构的倾斜角的图；图3是表示实施方式2的防反射部件的示意图；图4是说明实施方式2的微细凹凸结构的倾斜角的图；图5是表示防反射层的图；图6是表示防反射层的膜厚比和反射率的关系的图表；图7A是表示比较例的微细凹凸结构之一例的倾斜角的示意图；图7B是比较例的微细凹凸结构之一例的俯视图；图8A是说明防反射部件的形状的第一变形例的图；图8B是说明防反射部件的形状的第二变形例的图；图8C是说明防反射部件的形状的第三变形例的图；图8D是说明防反射部件的形状的第四变形例的图；图9A是说明形成防眩层的模具的制造方法的第一例的第一工序的图；图9B是说明形成防眩层的模具的制造方法的第一例的第二工序的图；图9C是表示形成防眩层的模具的制造方法的第一例中的模具的最终形状的示意图；图10A是说明形成防眩层的模具的制造方法的第二例的第一工序的图；图10B是说明形成防眩层的模具的制造方法的第二例的第二工序的图；图10C是表示形成防眩层的模具的制造方法的第二例中的模具的最终形状的示意图；图11是表示使用图10C所示的模具制作的微细凹凸结构的示意图；图12A是说明形成防眩层的模具的制造方法的第三例的第一工序的图；图12B是表示形成防眩层的模具的制造方法的第三例中的模具的最终形状的示意图；图13是表示使用图12B所示的模具制作的微细凹凸结构的示意图。标记说明10、10A、10B、10C、10D、10E：防反射部件12、50：基材14、14A：防反射层20、20A、20B：微细凹凸结构21：凸部30：模具31：型材32：粒子40：电极45：微细图案加工具体实施方式在说明本专利技术的实施方式之前，先就现有技术中的问题点进行简单地说明。通过在AG技术的防眩层上设置AR技术的防反射层，能够弥补各种缺点而提升反射处理性能。然而，当无任何设计地在防眩层的凹凸上形成防反射层的多层膜时，膜厚因凹凸的倾斜而产生偏差，无法得到防反射层的良好特性。另外，当在防眩层的凹凸结构形成有由陡峭的倾斜面包围的槽部或凹部时，污物会附着于此，视觉辨认性下降。以下，参照附图对本专利技术的各实施方式进行详细地说明。需要说明的是，在实施方式中，对同一构成要素标注同一标记，因重复而省略其说明。＜防反射部件＞(实施方式1、2)图1是表示实施方式1的防反射部件的示意图。图2是说明实施方式1的微细凹凸结构的倾斜角的图。实施方式1的防反射部件10具有：片状的基材12、在基材12的一面上形成的微细凹凸结构20、在微细凹凸结构20上成膜的防反射层14。微细凹凸结构20起到使光扩散的防眩层的功能。微细凹凸结构20是在表面具有大量凹凸(例如大量球面状的凸部21)的结构。凹凸的横向间距在0.5～10[μm]的范围内，作为具体一例为2[μm]左右。本实施方式的防眩层采用了在层内部没有使光扩散的(也称作“雾度(haze)”)微粒的结构。微细凹凸结构20如图2所示地管理凹凸表面的倾斜角θ而形成。在实施方式1中，倾斜角为特定角度θ1＝36.8°以下的面在微细凹凸结构20的形成面中占据平面观察时的面积中的60％以上的范围而形成。倾斜角表示从基材12的上表面起的倾斜角。图2中用粗线表示超过特定角度θ1的范围。在图2中，V0表示基材12的上表面的垂线，h0表示凹凸表面的法线。倾斜角为特定角度θ1以下的部分是可使防反射层14的特性良好的部分。因此，当该范围增加时，能够提升防反射部件10的防反射特性。因而，倾斜角为特定角度θ1以下的部分所占的范围在微细凹凸结构20的形成面中进一步优选为70％以上，更进一步优选为80％以上。在后文中对在实施方式1中，将倾斜角为特定角度θ1以下的面的比例设为60％以上的理由进行说明。在后文中对防反射层14进行详细说明。图3是表示实施方式2的防反射部件的示意图。图4是说明实施方式2的微细凹凸结构的倾斜角的图。实施方式2的防反射部件10A具有：片状的基材12、在基材12的一面上形成的微细凹凸结构20、在微细凹凸结构20上成膜的防反射层14A。微细凹凸结构20如图4所示地管理凹凸表面的倾斜角θ而形成。在实施方式2中，倾斜角为特定角度θ2＝48.1°以下的范围在微细凹凸结构20的形成面中占据平面观察时的面积中的70％以上的范围而形成。图4中用粗线表示超过特定角度θ2的范围。倾斜角为特定角度θ2以下的部分是可使防反射层14A的特性良好的部分。因此，当该范围增加时，能够提升防反射部件10A的防反射特性。因而，倾斜角为特定角度θ2以下的部分所占的范围在微细凹凸结构20的形成面中进一步优选为80％以上，更进一步优选为90％以上。在后文中对在实施方式2中，将倾斜角为特定角度θ2以下的面的比例设为70％以上的理由进行说明。图5是表示防反射层之一例的图。图6是表示一例的防反射层的膜厚比和反射率的关系的图表。防反射层14、14A层积三层以上的多种膜而构成。防反射层14、14A控制各层的折射率和膜厚而形成，在各界面反射的光以不同的相位重合，从而使光相互抵消而降低反射光。防反射层14、14A的整体膜本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种防反射部件，其中，具备：基材；防眩层，其具有微细凹凸结构，并且设置在所述基材的表面；防反射层，其具有层积的多个膜，并且形成在所述防眩层的上层，在所述防眩层，所述微细凹凸结构的表面的具有如下的倾斜角的面在形成有所述微细凹凸结构的区域中占60％以上，所述倾斜角为因相对于所述基材的所述表面的倾斜角的偏差引起的所述防反射层的膜厚偏差为膜厚比±20％以内的倾斜角。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2014.09.08 JP 2014-1826421.一种防反射部件，其中，具备：基材；防眩层，其具有微细凹凸结构，并且设置在所述基材的表面；防反射层，其具有层积的多个膜，并且形成在所述防眩层的上层，在所述防眩层，所述微细凹凸结构的表面的具有如下的倾斜角的面在形成有所述微细凹凸结构的区域中占60％以上，所述倾斜角为因相对于所述基材的所述表面的倾斜角的偏差引起的所述防反射层的膜厚偏差为膜厚比±20％以内的倾斜角。2.如权利要求1所述的防反射部件，其中，在所述倾斜角为0°的面上形成有膜厚X的所述防反射层时，所述倾斜角和所述防反射层的膜厚偏差的关系定义为：在所述倾斜角为θ的面上形成的膜厚为X·cosθ。3.如权利要求1所述的防反射部件，其中，在所述防反射层的膜厚和反射率的关系图中，将反射率与其他区域相比较低的膜厚区域的中央值设为膜厚比1，所述防反射层以膜厚比1的膜厚形成在所述倾斜角为0°的面上，在所述防眩层的形成有所述微细凹凸结构的区域中，所述倾斜角为36.8°以下的面占60％以上。4.如权利要求1所述的防反射部件，其中，在所述防反射层的膜厚和反射率的关系图中，将所述反射率与其他区域相比较低的膜厚区域的中央值设为膜厚比1，所述防反射层以膜厚比1.2的膜厚形成在所述倾斜角为0°的面上，在所述防眩层的形成有所述微细凹凸结构的区域中，所述倾斜角为48.1°以下的面占70％以上。5.如权利要求1所述的防反射部件，其中，所述防反射层的所述多个膜中的至少一个通过使在真空中蒸发的材料物质在面上凝结的处理而形成。6.如权利要求1所述的防反射部件，其中，所述防反射层的所述多个膜中的至少一个通过湿式工艺而形成。7.一种防反射部件的制造方法，其中，具备如下的工序...

【专利技术属性】
技术研发人员：大石利治，藤本高英，
申请(专利权)人：松下知识产权经营株式会社，
类型：发明
国别省市：日本;JP