【技术实现步骤摘要】
本技术涉及化学镀装置。
技术介绍
现有技术中,采用现有的技术进行化学镀,如在铜的表面镀银,均存在镀膜表面不致密的缺陷,为了克服该缺陷,在镀液加入还原剂是一种有效的方法,但是,目前的化学镀装置均是敞开的,所述的还原剂与空气中的氧气会进行反应,导致还原剂被快速消耗,使镀液不稳定,影响镀层质量。
技术实现思路
本技术的目的是提供一种设有封闭机构的化学镀装置,以克服现有技术存在的缺陷。所述的设有封闭机构的化学镀装置,包括化学镀组件,其特征在于,还包括封闭机构,所述的封闭机构包括溶液槽和上盖,所述的溶液槽设置在所述的化学镀组件周边;所述的上盖包括顶盖和与所述的顶盖的边缘相连接的上盖边,且所述的上盖边向下延伸,插入所述的溶液槽中;所述的上盖边设有与溶液槽相连接的支撑件;所述的上盖边的下部与所述的溶液槽的槽底之间设有间距,以实现镀件的进出;本技术的有益效果是:1、铜基镀件在本专利技术的装置内进行化学镀过程中不会发生氧化,保证了镀件的镀层质量;2、在本专利技术的装置内的化学镀药水不会因空气氧化而变质,从而保证了镀层质量的稳定性。附图说明图1是设有封闭机构的化学镀装置的结构示意图。图2是化学镀组件与溶液槽的组件图。具体实施方式参见图1和图2,所述的设有封闭机构的化学镀装置,包括化学镀组件1,其特征在于,还包括封闭机构,所述的封闭机构包括溶液槽2和上盖,所述的溶液槽2设置在所述的化学镀组件1周边;所述的上盖包括顶盖301和与所述的顶盖301的边缘相连接的上盖边302,且所述的上盖边302向下延伸,插入所述的溶液槽2中;所述的上盖边设有与溶液槽相连接的支撑件303;所述的上盖边的下部 ...
【技术保护点】
设有封闭机构的化学镀装置,包括化学镀组件(1),其特征在于,还包括封闭机构,所述的封闭机构包括溶液槽(2)和上盖,所述的溶液槽(2)设置在所述的化学镀组件周边;所述的上盖包括顶盖(301)和与所述的顶盖(301)的边缘相连接的上盖边(302),且所述的上盖边向下延伸,插入所述的溶液槽中;所述的上盖边设有与溶液槽相连接的支撑件(303);所述的上盖边的下部与所述的溶液槽的槽底之间设有间距。
【技术特征摘要】
1.设有封闭机构的化学镀装置,包括化学镀组件(1),其特征在于,还包括封闭机构,所述的封闭机构包括溶液槽(2)和上盖,所述的溶液槽(2)设置在所述的化学镀组件周边;所述的上盖包括顶盖(301)和与所述的顶盖(301)的边缘相连接的上盖边(302),且所述的上盖边向下延伸,插入所述的溶液槽中;所述的上盖边设有与溶液槽相连接的支撑件(303);所述的上盖边的下部与所述的溶液槽的槽底之间设有间距。2.根据权利要求1所述的设有封闭机构的化学镀装置,其特征在于,所述的溶液槽和上盖的横截面均为圆形或者均为矩形。3.根据权利...
【专利技术属性】
技术研发人员:赵望,方斌,
申请(专利权)人:上海理凯材料科技有限公司,
类型:新型
国别省市:上海;31
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