划胶治具制造技术

本实用新型专利技术公开了一种划胶治具，包括底座(1)及上盖(2)；所述的底座(1)的上侧设有用于容置基板(3)的上凹槽(1.1)，所述的上盖(2)盖于所述的上凹槽(1.1)上，所述的上盖(2)位于所述的上凹槽(1.1)上方的区域设有至少一个划胶窗口(2.1)；所述的上盖(2)与所述的底座(1)之间设有定位结构。该划胶治具在不增加自动化设备的情况下，可以大幅提高手工划胶的良率。

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及电子产品制作工艺中的工装
，更确切地说涉及划胶治具。
技术介绍
在电子产品制作工艺中，很多元件与元件之间需要通过粘结剂来固定，比如在摄像头封装片的组装过程中，有些元件(滤光片或玻璃)需要用UV胶粘结到基板上。具体方法如下：先在基板上划上胶，再将元件贴附在基板上。目前，基本上都是人工控制的方式在基板上划胶，对划胶的宽度和形状难以准确把控，从而影响产品的组装效果，降低划胶的良率。如果采用自动化划胶又会增加设备成本。
技术实现思路
本技术要解决的技术问题是，提供一种划胶治具，该划胶治具在不增加自动化设备的情况下，可以大幅提高手工划胶的良率。本技术的技术解决方案是，提供一种具有以下结构的划胶治具，包括底座及上盖；所述的底座的上侧设有用于容置基板的上凹槽，所述的上盖盖于所述的上凹槽上，所述的上盖位于所述的上凹槽上方的区域设有至少一个划胶窗口；所述的上盖与所述的底座之间设有定位结构。采用以上结构后，本技术的划胶治具，与现有技术相比，具有以下优点：由于本技术的划胶治具包括底座及上盖，底座的上侧设有上凹槽，使用时，将基板放置在所述的所述的上凹槽内，盖上上盖且上盖与底座之间通过定位结构进行定位，再顺着划胶窗口的形状在基板上进行划胶，这样，人工划胶时可以很好地控制胶的宽度和所划的胶的形状，使用非常方便，从而提高划胶的良率，提升产品的组装效果。作为改进，所述的底座上设有至少一个定位柱，所述的上盖上设有相对应的定位孔，所述的定位柱配合在所述的定位孔内。采用此种结构后，结构简单，安装也较方便，而且定位柱和定位孔结构可以使上盖和底座之间精确地配合。作为改进，所述的定位柱设有两个，该两个定位柱设于底座的两个对角处；与其相对应地，所述的定位孔也设有两个，该两个定位孔设于上盖的两个对角处。采用此种结构后，能使上盖更加稳定且精确地配合在底座上。作为改进，所述的定位柱设于所述的上凹槽内。采用此种结构后，相对应地在基板上打上定位孔后，也能对基板进行稳定地定位。作为改进，所述的上盖在磁铁的作用下吸附在所述的底座的上侧。采用此种结构后，通过磁铁的吸附作用，使上盖盖于底座上不会掀起来。作为改进，所述的磁铁设于所述的底座上，所述的上盖由能吸附在磁铁上的材料制成。此种方案为最佳。作为改进，所述的底座的下侧设有至少一个用于容置磁铁的下凹槽，所述的下凹槽内设有所述的磁铁。采用此种结构后，结构简单，实施较方便。附图说明图1是本技术的划胶治具的结构示意图。图2是本技术的划胶治具的俯视结构示意图。图3是本技术的划胶治具的爆炸结构示意图。图4是本技术的划胶治具的上盖的结构示意图。图中所示：1、底座，1.1、上凹槽，1.2、下凹槽，2、上盖，2.1、划胶窗口，2.2、定位孔，3、基板，4、定位柱，5、磁铁。具体实施方式下面结合附图和具体实施例对本技术作进一步说明。请参阅图1和图4所示，本技术的划胶治具包括底座1及上盖2。所述的底座1的上侧设有用于容置基板3的上凹槽1.1，所述的上盖2盖于所述的上凹槽1.1上，所述的上盖2位于所述的上凹槽1.1上方的区域设有至少一个划胶窗口2.1；所述的上盖2与所述的底座1之间设有定位结构。所述的划胶窗口2.1的数量可以根据需要进行设置。所述的底座1上设有至少一个定位柱4，所述的上盖2上设有相对应的定位孔2.2，所述的定位柱4配合在所述的定位孔2.2内。本具体实施例中，所述的定位柱4设有两个，该两个定位柱4设于底座1的两个对角处；与其相对应地，所述的定位孔2.2也设有两个，该两个定位孔2.2于上盖的两个对角处。所述的定位柱4设于所述的上凹槽1.1内。所述的上盖2在磁铁5的作用下吸附在所述的底座1的上侧。所述的磁铁5设于所述的底座1上，所述的上盖2由能吸附在磁铁上的材料制成。所述的底座1的下侧设有至少一个用于容置磁铁5的下凹槽1.2，所述的下凹槽1.2内设有所述的磁铁5。本技术的划胶治具可应用于摄像头封装片的组装上，滤光片或玻璃通过胶水固定在基板上。使用时，在基板的对角处打上与底座的定位柱相对应的定位孔，基板安装入上凹槽中，并套合在定位柱外；盖上上盖，上盖套合在定位柱外并吸附在底座上；然后胶水顺着划胶窗口的边框在基板上进行划胶，使用非常方便。本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种划胶治具，其特征在于：包括底座(1)及上盖(2)；所述的底座(1)的上侧设有用于容置基板(3)的上凹槽(1.1)，所述的上盖(2)盖于所述的上凹槽(1.1)上，所述的上盖(2)位于所述的上凹槽(1.1)上方的区域设有至少一个划胶窗口(2.1)；所述的上盖(2)与所述的底座(1)之间设有定位结构。

【技术特征摘要】
1.一种划胶治具，其特征在于：包括底座(1)及上盖(2)；所述的底座(1)的上侧设有用于容置基板(3)的上凹槽(1.1)，所述的上盖(2)盖于所述的上凹槽(1.1)上，所述的上盖(2)位于所述的上凹槽(1.1)上方的区域设有至少一个划胶窗口(2.1)；所述的上盖(2)与所述的底座(1)之间设有定位结构。2.根据权利要求1所述的划胶治具，其特征在于：所述的底座(1)上设有至少一个定位柱(4)，所述的上盖(2)上设有相对应的定位孔(2.2)，所述的定位柱(4)配合在所述的定位孔(2.2)内。3.根据权利要求2所述的划胶治具，其特征在于：所述的定位柱(4)设有两个，该两个定位柱(4)设于底座(1)的两个对角...

【专利技术属性】
技术研发人员：陈伟，
申请(专利权)人：江西芯创光电有限公司，
类型：新型
国别省市：江西;36