无铬光刻板制造技术

本发明专利技术涉及无铬光刻板，它包括石英基板，石英基板的上表面的预定位置制作有光刻图形，光刻图形的顶部覆盖有粗化散射表面。优选地，石英基板的下表面的对应位置制作有相同的光刻图形，光刻图形的顶部覆盖有粗化散射表面，其中，位于石英基板的上表面与下表面的光刻图形的垂直投影相互重合。本发明专利技术解决了现有技术中的缺陷，实现仅通过使用石英材料本身来制作掩模图形，从而减少光刻板在重复使用过程中的图形失真。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种LED制程中的设备。
技术介绍
光刻掩模板一般用石英玻璃作为基体，采用石英是由于其优良的近紫外透过率。掩模板挡光部分用铬(Cr)，所以有时也叫铬板。现有技术是在石英上镀铬，再将铬刻制成相应的版图得到的。这种光刻板在使用过程中，尤其是接触式的使用过程中容易受到损坏，从而造成掩模图形的失真。
技术实现思路
本专利技术的目的是实现仅通过使用石英材料本身来制作掩模图形，从而减少光刻板在重复使用过程中的图形失真。为了达到上述技术目的，本专利技术提供了一种无铬光刻板，它包括石英基板，所述的石英基板的上表面的预定位置制作有光刻图形，所述的光刻图形的顶部覆盖有粗化散射表面。优选地，所述的石英基板的下表面的对应位置制作有相同的光刻图形，所述的光刻图形的顶部覆盖有粗化散射表面，其中，位于所述的石英基板的上表面与下表面的光刻图形的垂直投影相互重合。由于采用上述技术方案，在石英的上下表面分别制作出同样的图形，且下表面图形与上表面图形的垂直投影完全重合，上、下表面的图形使用粗化手段(类似于制作毛玻璃)制作从而增强入射光的散射，减小光强。同时，该技术由于增加了边缘的粗化，减弱了因为驻波效应而导致的光刻胶显影后的锯齿缺陷。附图说明附图1为根据本专利技术的无铬光刻板的结构示图；附图2为根据本专利技术的无铬光刻板的工作原示意图；附图3为附图1中的A处的局部放大示意图；附图4为附图1中的B处的局部放大示意图。具体实施方式下面结合附图对本专利技术的较佳实施例进行详细阐述，以使本专利技术的优点和特征能更易于被本领域技术人员理解，从而对本发明的保护范围做出更为清楚明确的界定。附图1为根据本专利技术的无铬光刻板的结构示意图；附图2为根据本专利技术的无铬光刻板的工作原理示意图；附图3为附图1中的A处的局部放大示意图；附图4为附图1中的B处的局部放大示意图。本实施例中的无铬光刻板，它包括石英基板，石英基板的上表面的预定位置制作有光刻图形，光刻图形的顶部覆盖有粗化散射表面，石英基板的下表面的对应位置制作有相同的光刻图形，光刻图形的顶部覆盖有粗化散射表面，其中，位于石英基板的上表面与下表面的光刻图形的垂直投影相互重合。如附图3与附图4所示，由于在石英的上下表面分别制作出同样的图形，且下表面图形与上表面图形的垂直投影完全重合，上、下表面的图形使用粗化手段(类似于制作毛玻璃)制作从而增强入射光的散射，减小光强。同时，该技术由于增加了边缘的粗化，减弱了因为驻波效应而导致的光刻胶显影后的锯齿缺陷。当曝光机进行曝光时，印有光刻图形的上表面部分由于漫反射的效应，从而阻止光线的通过，其余部分则顺利通过石英基板达到光刻胶从而对光刻胶进行蚀刻。从而实现了仅通过使用石英材料本身来制作掩模图形，减少光刻板在重复使用过程中的图形失真的目的。以上实施方式只为说明本专利技术的技术构思及特点，其目的在于让熟悉此项技术的人了解本专利技术的内容并加以实施，并不能以此限制本专利技术的保护范围，凡根据本专利技术精神实质所做的等效变化或修饰，都应涵盖在本专利技术的保护范围内。本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种无铬光刻板，它包括石英基板，其特征在于：所述的石英基板的上表面的预定位置制作有光刻图形，所述的光刻图形的顶部覆盖有粗化散射表面。

【技术特征摘要】
1.一种无铬光刻板，它包括石英基板，其特征在于：所述的
石英基板的上表面的预定位置制作有光刻图形，所述的光刻图形
的顶部覆盖有粗化散射表面。
2.根据权利要求1所述的无铬光刻板，其特征...

【专利技术属性】
技术研发人员：不公告发明人，
申请(专利权)人：梁旭，
类型：发明
国别省市：山东;37