一种阵列基板、显示面板和显示装置制造方法及图纸

技术编号:15115990 阅读:38 留言:0更新日期:2017-04-09 12:27
本发明专利技术提供了一种阵列基板及应用其的显示面板和显示装置。该阵列基板包括:显示区和非显示区,非显示区包括第一布线区、第二布线区;其中,第一布线区的布线用于与显示区的信号线和驱动集成电路相连,第二布线区的布线用于在旋转涂布光刻胶工艺中使光刻胶分布均匀。本发明专利技术通过第二布线区的布线设计,避免了光刻胶在显示区过度沉积,提高了光刻胶的均匀性。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及液晶显示
,尤其涉及一种阵列基板及应用其的显示面板和显示装置。
技术介绍
在制作薄膜晶体管(TFT-LCD,ThinFilmTransistor)阵列工艺的过程中,具体在采用旋转涂布方式涂覆光刻胶的光刻工艺中,容易出现光刻胶厚度的不均的问题。
技术实现思路
(一)要解决的技术问题鉴于上述技术问题,本专利技术提供了一种阵列基板及应用其的显示面板和显示装置,以提高在旋转涂布光刻胶工艺中光刻胶在基板上分布的均匀性,防止斜向污渍(TrackMura)的发生。(二)技术方案根据本专利技术的一个方面,提供了一种阵列基板。该阵列基板包括:显示区和非显示区,其特征在于,所述非显示区包括第一布线区和第二布线区。其中,所述第一布线区的布线用于与所述显示区的信号线和驱动集成电路相连,所述第二布线区的布线用于在旋转涂布光刻胶工艺中使光刻胶分布均匀。优选地,本专利技术阵列基板中,在所述第一布线区内包括第一布线,连接所述驱动集成电路与所述信号线的所述第一布线包括第一V型拐角;在所述第二布线区内包括第二布线,所述第二布线包括第二V型拐角,所述第二V型拐角凸起的方向与所述第一V型拐角凸起的方向相反。优选地,本专利技术阵列基板中,所述第二布线区位于所述第一布线区远离显示区的一侧;所述第二V型拐角凸起的顶点与第一V型拐角凸起的顶点以彼此远离的方式设置。优选地,本专利技术阵列基板中,所述第二布线区位于所述第一布线区靠近显示区的一侧;所述第二V型拐角凸起的顶点与所述第一V型拐角凸起的顶点以彼此靠近的方式设置。优选地,本专利技术阵列基板中,在所述第一布线区内包括第一布线,所述第一布线包括第一V型拐角;在所述第二布线区内包括第二布线,所述第二布线呈长条状。优选地,本专利技术阵列基板中,所述第二布线所在直线的方向与第一V型拐角凸起的方向垂直。优选地,本专利技术阵列基板中,所述第二布线延伸的方向与显示区靠近布线区的侧边平行。优选地,本专利技术阵列基板中,所述第二布线区位于:所述第一布线区靠近显示区的一侧;和/或所述第一布线区远离显示区的一侧。优选地,本专利技术阵列基板中,所述第二布线包括:至少一条的连续布线;或至少两条的非连续布线,且相邻两条非连续布线的缺口相互错开。优选地,本专利技术阵列基板中,在所述第二布线区内包括多条的所述第二布线,各条第二布线相互平行。优选地,本专利技术阵列基板中,所述第二布线区和第一布线区在阵列基板中的同一层或不同层。根据本专利技术的另一个方面,还提供了一种显示面板。该显示面板包括上述的阵列基板。根据本专利技术的再一个方面,还提供了一种显示装置。该显示装置包括上述的显示面板。(三)有益效果从上述技术方案可以看出,本专利技术阵列基板及应用其的显示面板和显示装置具有以下有益效果:(1)通过设计第二布线区,第二布线区中的第二布线对光刻胶向两侧进行引导,避免了光刻胶在第一布线区内布线的引导作用下,在显示区过度沉积;(2)在第一组技术方案中,在第一布线区的V型拐角的内侧和/或外侧添加与其趋势相反的第二布线,该第二布线在胶的引流上,起到与V型拐角相反的作用效果,是甩胶效果更均一;(3)在第二组技术方案中,在V型拐角的内侧和/或外侧添加对光刻胶起阻挡作用的条状第二布线,把涌向V型拐角外侧的显示区的一部分光刻胶阻挡在显示区之外;通过上述方案,可以预防或减少因原设计而导致的甩胶不均,局部光刻胶厚度差异化过大的问题,防止或减轻斜向污渍(TrackMura)的发生。附图说明图1为根据本专利技术第一实施例中采用在V型拐角内侧增加与V型拐角处第一布线趋势相反的第二布线后光刻胶运动方向的示意图;图2为根据本专利技术第二实施例采用非连续的第二布线后光刻胶运动方向的示意图;图3为根据本专利技术第三实施例中采用在V型拐角外侧增加与V型拐角处第一布线趋势相反的第二布线后光刻胶运动方向的示意图;图4为根据本专利技术第四实施例中采用在V型拐角的外测和内侧同时增加与V型拐角处第一布线趋势相反的第二布线后光刻胶运动方向的示意图;图5为根据本专利技术第五实施例中采用在V型拐角的外侧添加与拐角趋势线垂直的第二布线后光刻胶运动方向的示意图;图6为根据本专利技术第六实施例中采用在V型拐角的外侧添加与显示区边框平行的第二布线后光刻胶运动方向的示意图;图7为驱动集成电路、第一布线区、第二布线区和显示区的总括图。【符号说明】1-第一布线;2-光刻胶趋向V型拐角中心运动的趋势;3-光刻胶在V型拐角末端甩出的方向;4-V型拐角对应的显示区;5-第二布线;51、52、53、54、55-光刻胶在第二布线引导作用下的运动方向;6-驱动集成电路。具体实施方式本专利技术提出一种阵列基板及应用其的显示面板和显示装置。该阵列基板包括:显示区和非显示区,非显示区包括第一布线区和第二布线区;第一布线区的布线用于与显示区的信号线和驱动集成电路相连,第二布线区的布线用于在旋转涂布光刻胶工艺中使光刻胶分布均匀,从而提高了光刻胶的均匀性。为使本专利技术的目的、技术方案和优点更加清楚明白,以下结合具体实施例,并参照附图,对本专利技术进一步详细说明。一、第一实施例在本专利技术的第一个示例性实施例中,提供了一种阵列基板。请参照图1,本实施例中,阵列基板包括:显示区和非显示区。该非显示区包括:第一布线区和第二布线区。在第一布线区内包括:第一布线,该第一布线包括第一V型拐角。第二布线区位于第一布线区远离显示区的一侧。在第二布线区内包括第二布线5。该第二布线5包括第二V型拐角。其中,第二V型拐角凸起的顶点与第一V型拐角凸起的顶点以彼此远离的方式设置。在旋转涂布光刻胶工艺中,在基板的中心位置滴下光刻胶,而后基座带动基板快速转动,光刻胶由内向外均匀甩开,平铺在基板表面。需要说明的是,本实施例中,在第二布线区包括两条的第二布线,但本专利技术并不以此为限。在本专利技术其他实施例中,第二布线可以是1条,也可以是多条,例如是:3条、4条或5条等等。本实施例所给出的情况如图7中(A)所示,基于原有第一布线版图,在第一布线区域的第一布线的第一V型拐角趋势线起端增加与拐角布线趋势相反的第二布线5,以便引导部分光刻胶朝向远离第一V型拐角中心方向运动,光刻胶运动的方向如其中的标号51所示。二、第二实施例在本专利技术的第二个示例性实施例中,提供了一种本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种阵列基板,包括:显示区和非显示区,其特征在于,所述非显示区包括第一布线区和第二布线区;其中,所述第一布线区的布线用于与所述显示区的信号线和驱动集成电路相连,所述第二布线区的布线用于在旋转涂布光刻胶工艺中使光刻胶分布均匀。

【技术特征摘要】
1.一种阵列基板,包括:显示区和非显示区,其特征在于,所述非
显示区包括第一布线区和第二布线区;
其中,所述第一布线区的布线用于与所述显示区的信号线和驱动集成
电路相连,所述第二布线区的布线用于在旋转涂布光刻胶工艺中使光刻胶
分布均匀。
2.根据权利要求1所述的阵列基板,其特征在于:
在所述第一布线区内包括第一布线,连接所述驱动集成电路与所述信
号线的所述第一布线包括第一V型拐角;
在所述第二布线区内包括第二布线,所述第二布线包括第二V型拐角,
所述第二V型拐角凸起的方向与所述第一V型拐角凸起的方向相反。
3.根据权利要求2所述的阵列基板,其特征在于:
所述第二布线区位于所述第一布线区远离显示区的一侧;
所述第二V型拐角凸起的顶点与第一V型拐角凸起的顶点以彼此远
离的方式设置。
4.根据权利要求2所述的阵列基板,其特征在于:
所述第二布线区位于所述第一布线区靠近显示区的一侧;
所述第二V型拐角凸起的顶点与所述第一V型拐角凸起的顶点以彼
此靠近的方式设置。
5.根据权利要求1所述的阵列基板,其特征在于:
在所述第一布线区内包括第一布线,所述第一布线包括第一V型拐角;
在所述第二布线区内包括第二布线,所述第二布线呈长条状。
6.根据权利要求5所述的阵列基板,其特征在于,所述第二布线所
在直线的方向与第...

【专利技术属性】
技术研发人员:杨安家陈磊李嘉鹏王生辉代伍坤彭志龙
申请(专利权)人:京东方科技集团股份有限公司北京京东方光电科技有限公司
类型:发明
国别省市:北京;11

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