一种双重密封电磁阀制造技术

本实用新型专利技术涉及一种双重密封电磁阀，包括有电磁控制机构、阀体以及隔膜组件，所述阀体上设置有进水流道和出水流道，在进水流道和出水流道衔接处设置有阀座，所述隔膜组件上设置有进水通孔和出水通孔，电磁控制机构的伸缩杆与出水通孔配合实现隔膜组件与阀座之间的关闭和导通配合，所述隔膜组件对应出水通孔位置设置有向阀座方向延伸的延伸柱，所述延伸柱上套设有与阀座的内孔相配合的密封圈。本实用新型专利技术技术方案，具有结构简单、有效提高密封性能的技术效果。

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及一种电磁阀，具体涉及一种用于纯水机的双重密封电磁阀。
技术介绍
电磁阀，包括有电磁控制机构、阀体以及隔膜组件，所述阀体上设置有进水流道和出水流道，在进水流道和出水流道衔接处设置有阀座，所述隔膜组件上设置有进水通孔和出水通孔，电磁控制机构的伸缩杆与出水通孔配合实现隔膜组件与阀座之间的关闭和导通配合，所述隔膜组件对应出水通孔位置设置有向阀座方向延伸的延伸柱。现有的电磁阀，其长期使用后，颗粒杂质容易进入隔膜组件与阀座之间的密封位置，从而影响了隔膜组件与阀座之间的密封效果。
技术实现思路
针对现有技术存在的不足，本技术的目的在于提供一种结构简单、有效提高密封性能的双重密封电磁阀。为实现上述目的，本技术提供了如下技术方案：一种双重密封电磁阀，包括有电磁控制机构、阀体以及隔膜组件，所述阀体上设置有进水流道和出水流道，在进水流道和出水流道衔接处设置有阀座，所述隔膜组件上设置有进水通孔和出水通孔，电磁控制机构的伸缩杆与出水通孔配合实现隔膜组件与阀座之间的关闭和导通配合，所述隔膜组件对应出水通孔位置设置有向阀座方向延伸的延伸柱，所述延伸柱上套设有与阀座的内孔相配合的密封圈。通过采用本技术技术方案，平面密封基础上叠加轴向密封，电磁阀关闭时，如果有颗粒杂质进入隔膜组件与阀座之间的密封位置，而使得隔膜组件端面密封失效的情况下，密封圈受隔膜组件上下腔压力差作用，强制进入阀座的内孔，独立完成轴向密封。因此，同时起双重密封作用，从而有效提高了密封性能。本技术进一步设置：所述阀座的内孔顶部的内壁与阀座的顶端壁通过圆弧壁过渡。通过采用本技术技术方案，密封圈能够沿着圆弧壁更加顺利的进入阀座的内孔以实现轴向密封。本技术进一步设置：所述延伸柱上设置有对密封圈进行定位的定位凸台。通过采用本技术技术方案，通过定位凸台对密封圈进定位，提高了稳定性。本技术进一步设置：所述阀体内设置有向相对电磁控制机构另一侧方向凹陷的纳污凹腔。通过采用本技术技术方案，纯水机制水时，电磁阀通电，隔膜组件升程小，主流道半开状态，水流量小，水的冲力小，水里的细小颗粒杂质落在纳污凹腔；纯水机冲洗时，电磁阀通电，膜片升程大，主流道全开状态，水流量大，水的冲力大，将纳污凹腔里的颗粒杂质冲出。本技术进一步设置：所述纳污凹腔置于所述进水流道的内侧一端，并且所述纳污凹腔向所述进水流道相对电磁控制机构另一侧方向凹陷。通过采用本技术技术方案，纯水机制水时，颗粒杂质更加容易堆积在纳污凹腔内；而纯水机冲洗时，更加容易将纳污凹腔里的颗粒杂质冲出。附图说明图1为本技术实施例的关闭状态结构图；图2为图1的A部放大图；图3为本技术实施例的制水状态结构图；图4为本技术实施例的冲洗状态结构图。具体实施方式参见附图1-附图4，本技术公开的双重密封电磁阀，包括有电磁控制机构1、阀体2以及隔膜组件3，优选的，隔膜组件3包括膜片301及其支架302，所述阀体2上设置有进水流道201和出水流道202，在进水流道201和出水流道202衔接处设置有阀座203，所述隔膜组件3上设置有进水通孔31和出水通孔32，电磁控制机构1的伸缩杆与出水通孔32配合实现隔膜组件3与阀座203之间的关闭和导通配合，所述隔膜组件3对应出水通孔32位置设置有向阀座203方向延伸的延伸柱33，所述延伸柱33上套设有与阀座203的内孔相配合的密封圈4。通过采用本技术技术方案，平面密封基础上叠加轴向密封，电磁阀关闭时，如果有颗粒杂质进入隔膜组件3与阀座203之间的密封位置，而使得隔膜组件3端面密封失效的情况下，密封圈4受隔膜组件3上下腔压力差作用，强制进入阀座203的内孔，独立完成轴向密封。因此，同时起双重密封作用，从而有效提高了密封性能。本实施例优选的，进水通孔31还设置有与其配合的清洁钢针5，隔膜组件3还设置有助力弹簧6。需要说明的是，电磁控制机构1在现有电磁阀中比较常见，因此本实施例中不再详细描述。本实施例进一步设置：所述阀座203的内孔顶部的内壁与阀座203的顶端壁通过圆弧壁过渡。通过采用本技术技术方案，密封圈4能够沿着圆弧壁更加顺利的进入阀座203的内孔以实现轴向密封。本实施例进一步设置：所述延伸柱33上设置有对密封圈4进行定位的定位凸台34。通过采用本技术技术方案，通过定位凸台34对密封圈4进定位，提高了稳定性。本实施例进一步设置：所述阀体2内设置有向相对电磁控制机构1另一侧方向凹陷的纳污凹腔204。通过采用本技术技术方案，纯水机制水时，电磁阀通电，隔膜组件3升程小，主流道半开状态，水流量小，水的冲力小，水里的细小颗粒杂质落在纳污凹腔204；纯水机冲洗时，电磁阀通电，隔膜组件3升程大，主流道全开状态，水流量大，水的冲力大，将纳污凹腔204里的颗粒杂质冲出。本技术的纳污凹腔204可以设置在阀体2的不同位置，本实施例优选的进一步设置：所述纳污凹腔204置于所述进水流道201的内侧一端，并且所述纳污凹腔204向所述进水流道201相对电磁控制机构1另一侧方向凹陷。通过采用本技术技术方案，纯水机制水时，颗粒杂质更加容易堆积在纳污凹腔204内；而纯水机冲洗时，更加容易将纳污凹腔204里的颗粒杂质冲出。本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种双重密封电磁阀，包括有电磁控制机构、阀体以及隔膜组件，所述阀体上设置有进水流道和出水流道，在进水流道和出水流道衔接处设置有阀座，所述隔膜组件上设置有进水通孔和出水通孔，电磁控制机构的伸缩杆与出水通孔配合实现隔膜组件与阀座之间的关闭和导通配合，所述隔膜组件对应出水通孔位置设置有向阀座方向延伸的延伸柱，其特征在于：所述延伸柱上套设有与阀座的内孔相配合的密封圈。

【技术特征摘要】
1.一种双重密封电磁阀，包括有电磁控制机构、阀体以及隔膜组件，所述阀体上设置有进水流道和出水流道，在进水流道和出水流道衔接处设置有阀座，所述隔膜组件上设置有进水通孔和出水通孔，电磁控制机构的伸缩杆与出水通孔配合实现隔膜组件与阀座之间的关闭和导通配合，所述隔膜组件对应出水通孔位置设置有向阀座方向延伸的延伸柱，其特征在于：所述延伸柱上套设有与阀座的内孔相配合的密封圈。2.根据权利要求1所述的双重密封电磁阀，其特征在于：所述...

【专利技术属性】
技术研发人员：黄彪，
申请(专利权)人：温州大阳科技有限公司，
类型：新型
国别省市：浙江;33