具有一体式静电夹盘的基板载体制造技术

一种适用于在处理系统中使用的基板载体包括电极组件和支撑底座。电极组件配置成生成静电夹持力以将基板固定至基板载体。支撑底座具有形成在其中的加热/冷却槽。电极组件和支撑底座形成单一主体，所述单一主体配置成在处理系统内传输。快断器耦接至主体，并且配置成当主体从热调节介质的源解除耦接时来将热调节介质陷捕在加热/冷却槽中。

Substrate carrier with integrated electrostatic chuck

A substrate carrier suitable for use in a processing system includes an electrode assembly and a support base. The electrode assembly is configured to generate an electrostatic clamping force to secure the substrate to the substrate carrier. The supporting base is provided with a heating / cooling groove formed therein. The electrode assembly and the support base form a single body configured to transmit in the processing system. The quick disconnect device is coupled to the main body and is configured to trap the heat regulating medium in the heating / cooling tank when the main body is removed from the source of the heat regulating medium.

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】专利技术的背景
本专利技术的实施例大体上涉及一种基板载体，且更特别地涉及一种适用于在竖直式以及其他处理系统中使用的具有一体式静电夹盘的基板载体。
技术介绍
等离子体显示面板、有机发光二极管(OLED)显示器和液晶显示器(LCD)常用于平板显示器。液晶显示器一般包含接合在一起的两个玻璃基板，液晶材料层夹置在这两个玻璃基板之间。玻璃基板可以是半导体基板，或可以是透明基板，透明基板诸如，玻璃、石英、蓝宝石或清澈的塑料膜。LCD也可包含用于背光照明的发光二极管。在制造平板显示器或太阳能面板期间，可重复地执行用于在玻璃或透明基板上沉积材料层的等离子体工艺以形成包括平板显示器或太阳能面板的结构。在处理期间，一些处理系统以竖直取向来固持基板。在以竖直取向来处理基板期间，基板的掩模部经常难以控制。常单次地将掩模夹持至基板，并且贯穿整个沉积工艺来维持那种对准。掩模的膨胀或重新定位可能无法调节。此外，通常使用机械式夹持力将以竖直取向处理的基板固持在基板载体上。用于在传输期间以及有时在处理期间固持基板的常规的机械式夹持载体可能经常因高机械式夹持力而导致基板损坏。此外，常规的机械式夹持载体一般在边缘处固持基板，从而导致与基板的边缘之间的高度集中的物理接触，以便确保施加以稳固地拾取基板的足够的夹持力。在基板的边缘处集中的这种机械接触不可避免地形成接触污染或物理损坏，从而不期望地污染基板。特别是对于用于小型智能电话、等离子体显示面板、LED或太阳能电池应用的基板，经常利用薄基板，由此增加了在不造成损坏的情况下传输基板的难度。在常规的等离子体处理应用中，能以不同的范围来控制腔室内的温度。对于利用在玻璃基板上形成的有机材料的一些应用，在等离子体工艺中控制的温度典型地低于250摄氏度。在竖直式处理系统中，在等离子体处理期间对基板载体的温度控制已成为挑战，因为对基板载体的不佳的温度控制不仅导致材料沉积失败，而且影响对设置在所述基板载体上的基板的夹持能力，从而不可避免地导致基板载体的不一致或不期望的电性质，这不利地影响载体固持基板的能力。由此，对于使基板载体在处理期间具有增强的耐热性和温度控制以及夹持薄基板的能力将是所期望的。对于用于在适用于以竖直取向来维持基板而同时有效地与掩模对接的处理系统中传输基板的方法和装置具有需求。
技术实现思路
一种适用于在处理系统中使用的基板载体，所述基板载体包括电极组件和支撑底座。电极组件配置成生成静电夹持力以将基板固定至基板载体。支撑底座具有形成在其中的加热/冷却槽。电极组件和支撑底座形成单一主体，所述单一主体配置成在处理系统内传输。连接器耦接至主体，并且配置成传输热调节介质进入加热/冷却槽。在另一实施例中，提供一种处理系统，所述处理系统包括基板载体、加载站和处理腔室。基板载体包括电极组件和支撑底座，所述电极组件配置成生成静电夹持力，所述支撑底座具有形成在其中的加热/冷却槽。电极组件和支撑底座形成单一主体，所述单一主体配置成在处理系统内传输。基板载体还包括耦接至主体的快断器。快断器配置成当主体从热调节介质的源解除耦接时来将热调节介质陷捕在加热/冷却槽中。加载站适用于将电源和热调节介质的源连接至载体。处理腔室适用于接收载体，所述载体具有静电地耦接在其上的基板。在又一实施例中，提供一种用于在处理系统中传输基板的方法，所述方法包括以下步骤：将基板传输至设置在基板加载站中的基板载体上；将所述基板静电地夹持至所述基板载体；以及当所述基板以基本上竖直的取向被静电地夹持至所述基板载体时，将所述基板从基板加载站中传输至处理腔室。在另一实施例中，一种适用于在处理系统中使用的基板载体，所述基板载体包括：支撑底座；电极组件，具有形成在其中的交错的指形电极且设置在支撑底座上；以及连接器，耦接至支撑底座，并且配置成使电源与电极组件断开电连接，支撑底座和电极组件形成单一主体，所述单一主体适用于在处理系统内传输。还提供了用于当基板设置在具有独立可寻址的电极组件的载体上时处理所述基板的方法。在一个示例中，提供用于处理基板的方法，所述方法包括以下步骤：利用以第一夹持模式操作的多个独立可控的电极组件来将基板夹持至载体；将被夹持的基板传输到处理腔室中；以及当电极组件中的至少一个电极组件保持以第一夹持模式操作时，选择性地将电极组件中的至少一个电极组件从第一夹持模式改变成第二夹持模式。在另一示例中，提供用于处理基板的方法，所述方法包括以下步骤：选择性地将第一夹持功率从受板上控制器控制的板上电源提供至可传输载体的多个电极组件；将被夹持的基板传输到处理腔室中；以及当仍然以第一夹持功率来对电极组件中的至少一个电极组件提供时，选择性地将第二夹持功率从所述板上电源提供至电极组件中的至少一个电极组件。附图说明因此，为了可详细地理解本专利技术的上述特征的方式，可参照实施例来进行对上文简要概述的本专利技术的更特定的描述，在所附附图中示出实施例中的一些。然而，值得注意的是，所附附图仅示出本专利技术的典型实施例，并且因此不认为限制本专利技术的范围，因为本专利技术可承认其他等效的实施例。图1A至图1D示出图示了与保持在基板载体上的基板一起使用的处理系统的示意图，所述基板载体具有一体式静电夹盘；图1E是根据另一实施例的、具有基板载体的处理系统的示意性表示，所述基板载体具有一体式静电夹盘；图2是用于在处理系统内移动基板载体的驱动系统的局部剖面图；图3A是基板载体的主视图；图3B是具有设置在其中的基板载体的处理腔室的一个实施例的示意性俯视剖面图；图4A描绘根据一些实施例的、具有基板载体的一体式静电夹盘的基板支撑板的一个实施例的分解图；图4B描绘按竖直取向的基板载体的一个实施例的侧视图；图5A描绘具有以水平取向来定位的一体式静电夹盘的基板载体的基板支撑板的横剖面图；图5B描绘具有以竖直取向来定位的一体式静电夹盘的基板载体的横剖面图；图5C描绘具有以竖直取向来定位的一体式静电夹盘的基板载体的另一实施例的横剖面图；图6描绘示出电极组件的阵列的基板载体的主视图；图7描绘用于使用具有根据本专利技术的一个实施例而提供的一体式静电夹盘的基板载体来传输基板的方法的流程图；图8A至8C是对应用于处理基板的方法的各个阶段的载体与喷嘴的序列化视图；图9是用于处理基板的方法的流程图；图10是具有电极组件的阵列的载体的示意图；以及图11是用于处理基板的方法的另一流程图。为了便于理解，在可能的情况下，已使用完全相同的参考编号来指定各图所共有的完全相同的元件。构想了一个实施例的多个元件和特性可有益地并入其他实施例中而无需进一步的陈述。具体实施方式本专利技术大体上涉及一种适用于在处理期间以竖直取向来维持基板的基板载体以及使用所述基板载体的方法。所述基板载体包括一体式静电夹盘。所述基板载体还可以是温度受控的以将设置在所述基板载体上的基板的温度控制在所需的温度范围内。本文中讨论的实施例可利用竖直式沉积系统来实践，所述竖直式沉积系统例如竖直式CVD或竖直式PVD腔室，诸如，可从加州圣克拉拉市的应用材料公司(AppliedMaterials,Inc.,SantaClara,California)获得的经调整的AKTNewAristoTMTwinPVD系统。可理解的是，本专利技术的实施例还可在其他处理系统中实践，其他处理系统包括非直列式本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种基板载体，适用于在处理系统中使用，所述基板载体包括：支撑底座；电极组件，具有交错的指形电极，所述交错的指形电极形成在所述电极组件中且设置在所述支撑底座上；以及连接器，耦接至所述支撑底座，并且配置成使电源与所述电极组件断开电连接，所述支撑底座和所述电极组件包括单一主体，所述单一主体适用于在所述处理系统内传输。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2013.09.20 US 61/880,796;2014.05.09 US 61/991,3421.一种基板载体，适用于在处理系统中使用，所述基板载体包括：支撑底座；电极组件，具有交错的指形电极，所述交错的指形电极形成在所述电极组件中且设置在所述支撑底座上；以及连接器，耦接至所述支撑底座，并且配置成使电源与所述电极组件断开电连接，所述支撑底座和所述电极组件包括单一主体，所述单一主体适用于在所述处理系统内传输。2.如权利要求1所述的基板载体，其中所述连接器包括：接触垫、插头与插座连接器、香蕉头连接器、铲形连接器以及螺丝端子中的至少一者。3.如权利要求1所述的基板载体，进一步包括：储能装置，所述储能装置在所述基板载体的板上，并且耦接至所述电极组件。4.如权利要求3所述的基板载体，其中所述储能装置电耦接至所述电极组件和所述连接器。5.如权利要求1所述的基板载体，进一步包括：轨道，从所述支撑底座的侧延伸。6.如权利要求5所述的基板载体，其中所述轨道配置成与驱动系统对接，所述驱动系统适用于传输所述主体通过所述系统。7.如权利要求1所述的基板载体，其中所述电极组件包括：独立可控的电极组件的阵列。8.如权利要求1所述的基板载体，其中所述电极组件包括：多个分布式电极。9.如权利要求8所述的基板载体，其中所述分布式电极进一步包括：至少第一电极，所述第一电极与第二电极交错。10.如权利要求7所述的基板载体，进一步包括：控制器，在所述基板载体的板上，所述控制器适用于控制每一个电极组件的状态。11.如权利要求8所述的基板载体，其中所述储能装置包括：电池、电容器、超级电容器和超...

【专利技术属性】
技术研发人员：J·M·怀特，Z·王，
申请(专利权)人：应用材料公司，
类型：发明
国别省市：美国;US