本实用新型专利技术公开了一种掩膜版、基板、显示面板和显示装置，用以实现窄边框设计。所述掩模版包括掩模版主体和遮挡条，所述掩膜版主体包括与显示区域所对应的第一区域、与外围电路及贴合区域所对应的第二区域、以及与显示区域和外围电路及贴合区域之间的偏移量区域所对应的第三区域，所述遮挡条用于至少遮挡所述第二区域，所述遮挡条包括非封闭的镂空区域，所述非封闭的镂空区域在所述掩膜版主体的投影位于所述第三区域内，所述遮挡条的非镂空区域的至少部分区域在所述掩膜版主体的投影位于所述第二区域。
Mask plate, substrate, display panel and display device
The utility model discloses a mask plate, a base plate, a display panel and a display device. The mask comprises a mask body and a bar, the mask body comprises a display and corresponding to the corresponding region, the first region and a peripheral circuit and a joint area of second regions, and third regions and display the corresponding offset area between the region and the peripheral circuit and the joint area, the shelter for at least the second block area, the bar includes a non closed hollow area, projecting the non hollow area closed in the mask body is located in the third region, at least part of the projection area of the non hollow block in the mask body located in the second region.
【技术实现步骤摘要】
本技术涉及显示
，尤其涉及一种掩膜版、基板、显示面板和显示装置。
技术介绍
平板显示包括液晶显示(LiquidCrystalDisplay，LCD)、有机发光二极管显示(OrganicLight-EmittingDiode，OLED)和等离子体显示(PlasmaDisplayPanel，PDP)显示、电子墨水显示等多种类型。其中，OLED显示面板具有轻薄，低功耗，高对比度，高色域，可以实现柔性显示等优点，是下一代显示器的发展趋势。OLED显示包括被动式有机发光二极管显示(PassivematrixOLED，PMOLED)和有源矩阵有机发光二极管显示(Active-matrixOLED，AMOLED)，其中AMOLED显示的实现方式有低温多晶硅(LowTemperaturePoly-silicon，LTPS)背板+精细金属掩膜(FMMMask)方式，和氧化物(Oxide)背板+WOLED+彩膜的方式。前者主要应用于小尺寸面板，对应手机和移动应用；后者主要应用于大尺寸面板，对应Monitor和电视等应用。现在LTPS背板+FMMMask的方式已经初步成熟，实现了量产。精细金属掩膜的制作方法，是通过蒸镀方式将OLED材料按照预定程序蒸镀到LTPS背板上，利用FMM上的图形，形成红绿蓝器件。掩膜版的有效区内为了设计需求经常需要增加非显示区域(dummy)区域，通常使用遮挡条(supportsheet)将该部分遮挡，达到遮挡材料的目的。其中dummy区域包括外围电路及贴合区域和偏移量区域(margin)。如图1所示，掩膜版包括掩膜版主体1和遮挡条2，其中，掩膜版主体包括与显示区域所对应的第一区域11、与外围电路及贴合区域所对应的第二区域12、以及与显示区域和外围电路及贴合区域之间的偏移量区域所对应的第三区域13，其中，遮挡条2用于遮挡第二区域12，即为了避免外围电路及贴合区域外露，对该区域进行遮挡，但是由于遮挡条12为条状结构，为了能够完整的遮挡第二区域且避免遮挡第一区域，在张网工艺中，遮挡条由于宽度制作精度以及焊接精度不能满足仅遮挡第二区域的目的，在遮挡第二区域时，需要具有宽裕的第三区域，且第三区域的宽度约为200μm，即第三区域的宽度(margin)较大。因此，无法实现窄边框的设计。
技术实现思路
本技术提供一种掩膜版、基板、显示面板和显示装置，用以实现窄边框设计。本技术提供的一种掩模版，包括掩模版主体和遮挡条，所述掩膜版主体包括与显示区域所对应的第一区域、与外围电路及贴合区域所对应的第二区域、以及与显示区域和外围电路及贴合区域之间的偏移量区域所对应的第三区域，所述遮挡条用于至少遮挡所述第二区域，所述遮挡条包括非封闭的镂空区域，所述非封闭的镂空区域在所述掩膜版主体的投影位于所述第三区域内，所述遮挡条的非镂空区域的至少部分区域在所述掩膜版主体的投影位于所述第二区域。在一种可能的实施方式中，本技术提供的上述掩膜版中，所述非封闭的镂空区域的长度大于或等于所述掩模版主体的第一区域的长度。在一种可能的实施方式中，本技术提供的上述掩膜版中，所述遮挡条还包括位于所述非封闭的镂空区域远离所述掩膜版主体的第一区域侧的封闭的镂空区域。在一种可能的实施方式中，本技术提供的上述掩膜版中，所述封闭的镂空区域为多个。在一种可能的实施方式中，本技术提供的上述掩膜版中，非封闭的镂空区域与相邻的封闭的镂空区域之间的间距大于或等于掩模版主体的第二区域的宽度。在一种可能的实施方式中，本技术提供的上述掩膜版中，所述封闭的镂空区域的形状为矩形或弧形。在一种可能的实施方式中，本技术提供的上述掩膜版中，所述封闭的镂空区域的长度与非封闭的镂空区域的长度相同。相应地，本技术还提供了一种基板，包括本技术提供的上述任一种的掩膜版制作的基板。相应地，本技术还提供了一种显示面板，包括本技术提供的上述基板。相应地，本技术还提供了一种显示装置，包括本技术提供的上述的显示面板。本技术有益效果如下：本技术提供的一种掩膜版包括掩模版主体和遮挡条，所述掩膜版主体包括与显示区域所对应的第一区域、与外围电路及贴合区域所对应的第二区域、以及与显示区域和外围电路及贴合区域之间的偏移量区域所对应的第三区域，所述遮挡条用于至少遮挡所述第二区域，所述遮挡条包括非封闭的镂空区域，所述非封闭的镂空区域在所述掩膜版主体的投影位于所述第三区域内，所述遮挡条的非镂空区域的至少部分区域在所述掩膜版主体的投影位于所述第二区域。因此本技术提供的掩膜版中的遮挡条通过非封闭的镂空区域将与偏移量区域对应的第三区域进行透过，且通过遮挡条中非镂空区域的部分将与外围电路及贴合区域所对应的第二区域进行遮挡，相比现有技术中，遮挡条中没有将第三区域透过的镂空区域，本技术提供的掩膜版，使得经过具有非封闭的镂空区域的遮挡条的遮挡后的边框区域(包括第二区域和第三区域)变窄，从而实现窄边框设计。附图说明图1为现有技术提供的一种掩膜版的结构示意图；图2为本技术提供的一种掩膜版的结构示意图；图3为本技术提供的第二种掩膜版的结构示意图；图4为本技术提供的第三种掩膜版的结构示意图；图5(a)和图5(b)为本技术提供的第四种掩膜版的结构示意图；图6(a)至图6(c)为本技术提供的第五种掩膜版的结构示意图；图7为本技术提供的第六种掩膜版的结构示意图；图8(a)至图8(c)为本技术提供的第六种掩膜版在制作过程中的每一步骤的结构示意图。具体实施方式为了使本技术的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合附图对本技术作进一步地详细描述，显然，所描述的实施例仅仅是本技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其它实施例，都属于本技术保护的范围。本技术提供一种掩膜版、基板、显示面板和显示装置，用以实现窄边框设计。下面结合附图，对本技术实施例提供的掩膜版、基板、显示面板和显示装置的具体实施方式进行详细地说明。附图中各膜层的厚度和形状不反映真实比例，目的只是示意说明本
技术实现思路
。参见图2，本技术提供的一种掩模版，包括掩模版主体和遮挡条，掩膜版主体包括与显示区域所对应的第一区域11、与外围电路及贴合区域所对应的第二区域12、以及与显示区域和外围电路及贴合区域之间的偏移量区域所对应的第三区域13，遮挡条3用于至少遮挡第二区域12，遮挡条3包括非封闭的镂空区域31，其中，非封闭的镂空区域31在掩膜版主体的投影位于第三区域内，遮挡条的非镂空区域32的至少部分区域在掩膜版主体的投影位于第二区域。需要说明的是，本技术中所述的第二区域是指为了避免遮挡条在遮挡第三区域(外围电路及贴合区域所对应的区域)时遮挡第一区域(显示区域所述对应的区域)，需要在第一区域和第二区域之间设置有一定的余量，当然，若遮挡条在进行张网焊接时，可以做到百分之百的精度，则第三区域的宽度可可以为0。但是，在实际制作工艺中，一般不可能达到百分之百的精度，因此，有必要设计第三区域，当精度越高，则第三区域的宽度越窄。本技术中，为了减少第三区域的宽度，且避免第三区域的遮挡，将本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种掩膜版，包括掩膜版主体和遮挡条，所述掩膜版主体包括与显示区域所对应的第一区域、与外围电路及贴合区域所对应的第二区域、以及与显示区域和外围电路及贴合区域之间的偏移量区域所对应的第三区域，所述遮挡条用于至少遮挡所述第二区域，其特征在于，所述遮挡条包括非封闭的镂空区域，所述非封闭的镂空区域在所述掩膜版主体的投影位于所述第三区域内，所述遮挡条的非镂空区域的至少部分区域在所述掩膜版主体的投影位于所述第二区域。
【技术特征摘要】
1.一种掩膜版，包括掩膜版主体和遮挡条，所述掩膜版主体包括与显示区域所对应的第一区域、与外围电路及贴合区域所对应的第二区域、以及与显示区域和外围电路及贴合区域之间的偏移量区域所对应的第三区域，所述遮挡条用于至少遮挡所述第二区域，其特征在于，所述遮挡条包括非封闭的镂空区域，所述非封闭的镂空区域在所述掩膜版主体的投影位于所述第三区域内，所述遮挡条的非镂空区域的至少部分区域在所述掩膜版主体的投影位于所述第二区域。2.根据权利要求1所述的掩膜版，其特征在于，所述非封闭的镂空区域的长度大于或等于所述掩膜版主体的第一区域的长度。3.根据权利要求1所述的掩膜版，其特征在于，所述遮挡条还包括位于所述非封闭的镂空区域远离所述掩膜版...
【专利技术属性】
技术研发人员：孙朴，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司，
类型：新型
国别省市：北京;11
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