光学器件、显示基板及显示装置制造方法及图纸

技术编号:15065236 阅读:111 留言:0更新日期:2017-04-06 13:09
本实用新型专利技术涉及显示技术领域,公开了一种光学器件、显示基板及显示装置,所述光学器件包括发光器件和光学膜,所述光学膜用于对所述发光器件发出的光线进行折射,将光线折射至出光侧,提高光线输出效率和光谱稳定性,提升产品的显示亮度,降低功耗。

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及显示
,特别是涉及一种光学器件、显示基板及显示装置。
技术介绍
发光二极管(OrganicLight-EmittingDevice)显示器件具备主动发光、温度特性好、功耗小、响应快、可弯曲、超轻薄和成本低等优点,已广泛应用于显示设备中。OLED显示器件按照出光方向可以分为三种:底发射OLED、顶发射OLED与双面发射OLED。在底发射OLED中光从背板方向射出,在顶发射OLED中光从器件顶部方向射出,在双面发射OLED中光同时从基板和器件顶部射出。但是,受制作工艺的影响,会导致膜层与膜层之间、膜层与基板之间存在微腔结构,使得OLED显示器件的光效损失较大。
技术实现思路
本技术提供一种光学器件、显示基板及显示装置,用以提高光线输出效率。为解决上述技术问题,本技术实施例中提供一种光学器件,包括发光器件,还包括光学膜,所述光学膜用于对所述光学器件发出的光线进行折射。如上所述的光学器件,优选的是,所述光学膜为单层结构,制备所述光学膜的材料的折射率不小于1.5。如上所述的光学器件,优选的是,所述光学器件还包括基底,所述光学膜设置在所述基底上,所述光学膜远离所述基底的表面具有不平整结构。如上所述的光学器件,优选的是,所述光学膜的整个所述表面均具有不平整结构。如上所述的光学器件,优选的是,所述不平整结构为水波纹结构。如上所述的光学器件,优选的是,所述发光器件为有机发光二极管,所述发光器件包括发光层,所述光学膜相对所述发光层更靠近所述有机发光二极管的出光侧,所述光学膜对所述发光层发出的光线进行折射。如上所述的光学器件,优选的是,所述发光器件为顶发射有机发光二极管;所述发光器件还包括顶电极,所述光学膜位于所述顶电极的与所述发光层相对的一侧。如上所述的光学器件,优选的是,所述发光器件为底发射有机发光二极管;所述发光器件还包括底电极,所述光学膜位于所述底电极的与所述发光层相对的一侧。本技术实施例中还提供一种显示基板,采用如上所述的光学器件。本技术实施例中还提供一种显示装置,采用如上所述的显示基板。本技术的上述技术方案的有益效果如下:上述技术方案中,光学器件包括发光器件和光学膜,所述光学膜用于对所述发光器件发出的光线进行折射,将光线折射至出光侧,提高光线输出效率和光谱稳定性,提升产品的显示亮度,降低功耗。附图说明为了更清楚地说明本技术实施例或现有技术中的技术方案,下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本技术的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动性的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。图1表示本技术实施例底发射发光二极管的结构示意图一;图2表示本技术实施例底发射发光二极管的结构示意图二;图3表示本技术实施例顶发射发光二极管的结构示意图一;图4表示本技术实施例顶发射发光二极管的结构示意图二;图5表示本技术的发光二极管和现有技术中的发光二极管的光效对比图。具体实施方式下面将结合附图和实施例,对本技术的具体实施方式作进一步详细描述。以下实施例用于说明本技术,但不用来限制本技术的范围。实施例一本实施例中提供一种光学膜的制作方法,所述光学膜用于对光线进行折射,所述制作方法包括:在所述光学膜的表面形成不平整结构。通过上述步骤形成的光学膜,在其表面具有不平整结构,能够提高对光线的折射作用,增加光线的透过率和光谱稳定性,具体的原理参见图2和图4所示,图中带箭头的直线表示光路。不平整结构的凸起和凹陷,能够改变光路,增加折射作用,当应用于显示装置上时,能够提升产品的显示亮度,降低功耗,还能够增加视角,使显示产品不受视角的影响。需要说明的是,本实施例中涉及的薄膜的表面是指在形成所述薄膜后,所述薄膜暴露在外的表面,以能够对薄膜的表面实施加工工艺,形成所述不平整结构。可选的,所述光学膜为单层结构,制备所述光学膜的材料为高折射率材料,其折射率不小于1.5,以提高对光线的折射作用。所述光学膜具体可以由树脂等聚合物材料制得。本实施例中,通过以下方法在所述光学膜的表面形成不平整结构,具体包括:提供一模具,所述模具的一个表面上具有与所述不平整结构的图形匹配的第一图形;利用所述模具在所述光学膜的表面形成不平整结构。上述方法利用模具通过微模塑工艺,将模具上的第一图形复制到所述光学膜的表面上,从而形成不平整结构,相对于光刻工艺缺省了掩膜板,降低了生产成本。需要说明的是,此处的模塑工艺是指:模具在压力下将具备的图形复制到薄膜的表面的过程。在半导体领域,结构的尺寸较小,因此,在模塑工艺前加“微”作为修饰。进一步地,所述光学膜由可固化的材料制得,形成所述光学膜的步骤具体包括:步骤a、形成制作所述光学膜的第一薄膜;步骤b、对所述第一薄膜进行固化,在一定的气压环境下,将所述模具具有第一图形的表面压在所述第一薄膜的表面上一段时间;步骤c、重复步骤bN次,其中,N为不小于2的正整数;步骤d、对所述第一薄膜进行后烘工艺,形成所述光学膜。上述步骤通过多次固化工艺,并在每次固化工艺后进行一次微模塑工艺,从而在所述光学膜的表面形成不平整结构,多次固化工艺能够消除在采用复制转移的工艺制作微结构时可能会产生的微应力及微裂纹,而多次微模塑工艺能够提高形成不平整结构的质量。同时,多次固化工艺还能够避免形成尖峰微结构,防止出现尖端放电等缺陷。其中,步骤d具体为:在70℃-190℃的温度条件下,对所述第一薄膜进行90s-8min的后烘工艺,目的是消除微应力、微裂纹、微尖峰等缺陷,最终成型。其中,s代表秒,min代表分钟。为了消除微尖峰缺陷,本实施例中形成制作所述光学膜的第一薄膜的步骤包括:提供制作所述光学膜的第一材料;向所述第一材料中添加调节材料,形成混合材料;利用所述混合材料形成所述第一薄膜,所述调节材料用于使所述第一材料分布均匀,形成厚度均一的第一薄膜。上述步骤通过在第一材料中添加调节材料,能够通过自流平形成厚度均一的第一薄膜,成膜工艺简单。另外,自流平成膜工艺能够消除尖峰缺陷。优选地,通过自流平成膜工艺制备第一薄膜后,利用前面描述的多次固化和多次微模塑工艺在第一薄膜的表面形成不平整结构,形成本技术的光学膜,从而在固化和后烘工艺中,自流平的特性也有利于更好得消除尖峰缺陷。同时,还能够消除微应力及微裂纹等缺陷,提高产品的品质。本实施例中,具体可以通过两次固化工艺和两次微模塑工艺在所述光学膜的表面形成不平整结构。可选的,所述模具由硅橡胶、环氧树脂、聚氨酯、聚酰亚胺或酚醛树脂等弹性材料制得,能够进一步防止形成尖峰微结构。当通过微模塑工艺在光学膜表面形成不平整结构时,所述光学膜可以由固化材料制得。具体的,所述光学膜可以由热固化材料或光固化材料制得。在一个具体的实施方式中,所述光学膜由热固化材料制得。形成所述光学膜的步骤具体包括:形成制作所述光学膜的第一薄膜;首先在10℃-110℃的温度条件下,对所述第一薄膜进行固化2min-10min,并在2个大气压的环境下,将所述模具具有第一图形的表面压在所述第一薄膜的表面上0.5min-3min;然后,在30℃-140℃的温度条件下,对所述第一薄膜进行固化1min-5min,并在1个大本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种光学器件,包括发光器件,其特征在于,还包括光学膜,所述光学膜的表面具有不平整结构,用于对所述发光器件发出的光线进行折射。

【技术特征摘要】
1.一种光学器件,包括发光器件,其特征在于,还包括光学膜,所述光学膜的表面具有不平整结构,用于对所述发光器件发出的光线进行折射。2.根据权利要求1所述的光学器件,其特征在于,所述光学膜为单层结构,制备所述光学膜的材料的折射率不小于1.5。3.根据权利要求1所述的光学器件,其特征在于,所述光学器件还包括基底,所述光学膜设置在所述基底上,所述光学膜远离所述基底的表面具有不平整结构。4.根据权利要求3所述的光学器件,其特征在于,所述光学膜的整个所述表面均具有不平整结构。5.根据权利要求3所述的光学器件,其特征在于,所述不平整结构为水波纹结构。6.根据权利要求3所述的光学器件,其特征在于,所述发...

【专利技术属性】
技术研发人员:杨久霞徐文艳
申请(专利权)人:京东方科技集团股份有限公司
类型:新型
国别省市:北京;11

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