涂布膜制造技术

本发明专利技术提供一种抑制静电产生、具有适宜的脱模性、透明性优异的聚酯膜，例如，适合在各种工程内使用的工程用膜或保护膜中使用的脱模膜等的用途中利用。涂布膜在聚酯膜的至少一个面具有由含有脱模剂和抗静电剂、以及丙烯酸树脂或聚乙烯醇的涂布液形成的涂布层，该脱模剂包括含长链烷基的化合物。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及适于作为脱模膜的聚酯膜，例如，涉及作为成型同时转印等的转印用、柔性印刷布线板的制造用、塑料片材制造用的工程纸用等各种工程中使用的工程用膜、或者作为包覆带等的保护膜使用的、特别是抑制工程中或剥离引起的静电的产生、抑制尘埃和小污垢附着的、透明的脱模聚酯膜。
技术介绍
在现有技术中，以聚对苯二甲酸乙二醇酯和聚萘二甲酸乙二醇酯为代表的聚酯膜具有机械强度、尺寸稳定性、平坦性、耐热性、耐药品性、光学特性等优异的特性，并且成本效益优异，因此被用于各种用途。将聚酯膜用作脱模膜时，由于对于各种树脂和粘接剂的脱模性不足，存在缺乏实用性的缺点。因此，一直以来，研究了在聚酯膜表面叠层脱模性涂膜的方法。例如，提出了在聚酯膜表面涂布叠层含长链烷基的树脂的方法(专利文献1、2)等。聚酯膜容易因加工工序或制品使用时的接触摩擦或剥离而产生静电，因而容易附着尘埃或小污垢。因此，存在工序内的污染和异物混入的危险。另外，也存在加工时二张取出或滑动不良等膜供给或排出适合性变差的问题。因此，在需要避免异物混入或带电的用途中，提出了在聚酯膜表面涂布叠层抗静电剂的方法(专利文献3)等。脱模性涂膜和抗静电性涂膜有时也加工成单独的涂膜，但是从制造工序增加的观点考虑，优选由同一涂膜赋予脱模性和抗静电性。但是，将它们加工成同一涂膜时，存在难以妥善地获得脱模性和抗静电性、或者涂膜的外观劣化的问题。外观劣化了的膜由于涂膜的不均匀，有时脱模性和抗静电性不均匀，性能的稳定性欠缺。另外，透过脱模膜看见的制品的辨识性也劣化，存在无法通过工序检查发现制品缺陷的可能性。现有技术文献专利文献专利文献1：日本特开2002－240016号公报专利文献2：日本特开2006－022136号公报专利文献3：日本特开平7－26223号公报
技术实现思路
专利技术所要解决的课题本专利技术是鉴于上述问题而完成的，其要解决的课题在于提供一种涂布膜，其作为成型同时转印等的转印用、柔性印刷布线板的制造用、塑料片材制造用的工程纸用等、各种工程中使用的工程用膜、或者包覆带等的保护膜使用，抑制静电的产生，具有适宜的脱模性，且透明性优异。用于解决课题的方法本专利技术的专利技术人鉴于上述情况进行了深入研究，结果发现，如果使用包括特定构成的涂布膜，能够容易地解决上述课题，从而完成了本专利技术。即，本专利技术的要点在于一种涂布膜，其特征在于，在聚酯膜的至少一个面具有由含有脱模剂和抗静电剂、以及丙烯酸树脂或聚乙烯醇的涂布液形成的涂布层，上述脱模剂包括含长链烷基的化合物。专利技术效果根据本专利技术的涂布膜，在作为成型同时转印等的转印用等的各种的工程用膜使用时，能够提供脱模性和透明性优异、带电少的脱模聚酯膜，其工业价值高。具体实施方式构成本专利技术的涂布膜的聚酯膜可以是单层结构也可以是多层结构，除了2层、3层结构以外，只要不超出本专利技术的要点，也可以是4层或4层以上的多层，没有特别限定。聚酯既可以是均聚聚酯，也可以是共聚聚酯。由均聚聚酯构成时，优选使芳香族二元羧酸与脂肪族二元醇缩聚而得到的聚酯。作为芳香族二元羧酸，可以列举对苯二甲酸、2,6－萘二甲酸等，作为脂肪族二元醇，可以列举乙二醇、二乙二醇、1,4－环己烷二甲醇等。作为代表性的聚酯，可以例示聚对苯二甲酸乙二醇酯等。另一方面，作为共聚聚酯的二元羧酸成分，可以列举间苯二甲酸、邻苯二甲酸、对苯二甲酸、2,6－萘二甲酸、己二酸、癸二酸、羟基羧酸(例如对羟基苯甲酸等)等的一种或二种以上，作为二元醇成分，可以列举乙二醇、二乙二醇、丙二醇、丁二醇、4－环己烷二甲醇、季戊二醇等的一种或二种以上。作为聚酯的聚合催化剂，没有特别限制，能够使用现有公知的化合物，例如，可以列举锑化合物、钛化合物、锗化合物、锰化合物、铝化合物、镁化合物、钙化合物等。在聚酯中，以赋予滑动性和防止各工序中发生损伤为主要目的，也可以配合颗粒。配合颗粒时，所配合的颗粒种类，只要是能够赋予滑动性的颗粒即可，没有特别限制，作为具体例，例如，可以列举二氧化硅、碳酸钙、碳酸镁、碳酸钡、硫酸钙、磷酸钙、磷酸镁、高岭土、氧化铝、氧化钛等的无机颗粒，丙烯酸树脂、苯乙烯树脂、尿素树脂、酚醛树脂、环氧树脂、苯代三聚氰胺树脂等的有机颗粒等。另外，还能够使用在聚酯制造工序中使一部分催化剂等金属化合物沉淀、微分散的析出颗粒。另一方面，关于所使用的颗粒的形状也没有特别限定，可以使用球状、块状、棒状、扁平状等的任意形状。另外，其硬度、比重、颜色等也没有特别限制。这些一系列的颗粒可以根据需要并用2种以上。另外，颗粒的平均粒径通常为5μm以下、优选为0.1～3μm的范围。平均粒径超过5μm时，膜的表面粗糙度变得过于粗糙，例如，用于转印用途时，有时会对转印的成型面的表面形状造成影响。聚酯中的颗粒含量通常为5重量％以下、优选为0.0003～3重量％的范围。颗粒含量添加超过5重量％时，有时膜的透明性不充分。作为在聚酯中添加颗粒的方法，没有特别限定，能够采用现有公知的方法。例如，可以在制造构成各层的聚酯的任意阶段中添加，优选在酯化或酯交换反应结束后添加。另外，在聚酯中，除了上述颗粒以外，可以根据需要添加现有公知的抗氧化剂、防静电剂、热稳定剂、润滑剂、染料、颜料等。聚酯膜的厚度只要是能够作为膜进行制膜的范围即可，没有特别限定，从机械强度、操作性和生产性等方面考虑，通常可以为5～300μm的范围，优选为10～150μm的范围。作为膜的制膜方法，能够采用通常已知的制膜法，没有特别限制。例如，在制造双轴拉伸聚酯膜时，可以列举下述方法：首先使用挤出机将先前描述的聚酯原料从模具熔融挤出，用冷却辊将熔融片冷却固化而得到未拉伸片。此时，为了提高片材的平面性，优选提高片材与旋转冷却鼓的密合性，优选采用施加静电密合法和/或液体涂布密合法。接着，利用辊或拉幅机方式的拉伸机将所得到的未拉伸片在一个方向拉伸。拉伸温度通常为70～120℃，优选为80～110℃，拉伸倍率通常为2.5～7倍，优选为3.0～6倍。接着，在与第一段拉伸方向正交的方向拉伸，通常以70～170℃、拉伸倍率通常为2.5～7倍、优选为3.0～6倍进行拉伸。接着，以180～270℃温度在紧拉或松弛30％以内的状态下进行热处理，得到双轴取向膜。在上述拉伸中，也可以采用将一个方向的拉伸以2阶段以上进行的方法。此时，优选本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种涂布膜，其特征在于：在聚酯膜的至少一个面具有由含有脱模剂和抗静电剂、以及丙烯酸树脂或聚乙烯醇的涂布液形成的涂布层，所述脱模剂包括含长链烷基的化合物。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2014.01.28 JP 2014-0132211.一种涂布膜，其特征在于：
在聚酯膜的至少一个面具有由含有脱模剂和抗静电剂、以及丙烯
酸树脂或聚乙烯醇的涂布液形成的涂布层，所述脱模剂包括含长链烷
基的化合物。
2.如权利要求1所述的涂布膜，其特征在于：
长链烷基的碳原子数为6～30。
3.如权利要求1或2所述的涂布膜，其特征在于：
含长链烷基的化合物是侧链具有长链烷基的高分子化合物。
4.如权利要求3所述的涂布膜，其特征在于：
侧链具有长链烷基的高分子化合物为含长链烷基的异氰酸酯与聚
乙烯醇的反应生成物。...

【专利技术属性】
技术研发人员：舟津良亮，川崎泰史，
申请(专利权)人：三菱树脂株式会社，
类型：发明
国别省市：日本;JP