一种阵列基板和显示装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术公开了一种阵列基板和显示装置，用以使阵列基板的显示区域的平坦层上表面高于绑定区域的平坦层的上表面，从而改善或避免绑定区域绑定不良的现象。所述阵列基板包括显示区域和绑定区域，所述阵列基板包括平坦层，至少部分所述平坦层位于所述显示区域的图案厚度大于所述平坦层位于所述绑定区域的图案厚度。

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及显示
，尤其涉及一种阵列基板和显示装置。
技术介绍
薄膜晶体管液晶显示面板(TFT-LCD)，至少包括一阵列基板。阵列基板上设有栅线、源极和漏极等多个布线层。布线层的引入导致阵列基板表面的凹凸不平。通常，在阵列基板上设置有机树脂层分布于整个阵列基板，尽量保证显示区域的平坦化和器件的光学效果不受不影响。然而，阵列基板的制备工艺大都是一次性形成分布于整个阵列基板的平坦层，平坦层位于绑定区域和显示区域具有基本相同的图案厚度，但由于绑定区域有较多的连接结构，例如过孔连接等，使得连接结构的底部与绑定区电路表面形成端差，容易造成绑定区域绑定不良的现象。
技术实现思路
本技术提供了一种阵列基板和显示装置，用以使阵列基板的显示区域的平坦层上表面高于绑定区域的平坦层的上表面，从而改善或避免绑定区域绑定不良的现象。本技术提供了一种阵列基板，所述阵列基板包括显示区域和绑定区域，所述阵列基板包括平坦层，且所述平坦层位于所述显示区域的图案厚度大于所述平坦层位于所述绑定区域的图案厚度。通过本技术提供的一种阵列基板，且阵列基板中包括显示区域和绑定区域，阵列基板中包括平坦层，且平坦层在显示区域的图案厚度大于平坦层位于绑定区域的图案厚度，使得显示区域的上表面高于绑定区域的上表面，从而改善或避免了绑定区域绑定不良的现象。可选地，所述阵列基板还包括位于所述显示区域和绑定区域之间的过渡区域，至少部分所述平坦层位于所述过渡区域的图案厚度小于或等于所述平坦层位于所述显示区域的图案厚度。可选地，至少部分所述平坦层位于所述过渡区域的图案厚度大于所述平坦层位于所述绑定区域的图案厚度。可选地，至少部分所述平坦层位于所述过渡区域的图案厚度等于所述平坦层位于所述绑定区域的图案厚度。可选地，所述阵列基板还包括位于所述显示区域和绑定区域之间的过渡区域，至少部分所述平坦层位于所述过渡区域的图案厚度大于或等于所述平坦层位于所述绑定区域的图案厚度。可选地，至少部分所述平坦层位于绑定区域的图案厚度是所述平坦层位于显示区域图案厚度的1/5-1/20；或者，所述平坦层位于绑定区域的图案厚度是至少部分所述平坦层位于过渡区域的图案厚度的1/4-1/10。可选地，所述平坦层位于绑定区域的图案厚度为零。可选地，至少部分所述平坦层位于所述过渡区域的图案为非连续结构或连续结构。可选地，在至少一Gate边，所述平坦层位于所述过渡区域的图案为非连续结构；在至少一data边，所述平坦层位于所述过渡区域的图案为连续结构。可选地，至少部分所述平坦层位于所述过渡区域的图案为对位标记或防静电保护层。可选地，至少部分所述平坦层位于所述过渡区域的图案为正方形、或长方形、或圆形。可选地，至少部分所述平坦层位于所述过渡区域的图案呈矩阵排列或错位排列。可选地，所述平坦层位于所述过渡区域的图案靠近显示区域的至少部分栅线或数据线；或者位于显示区域的栅线或数据线周围。可选地，所述平坦层位于所述过渡区域的图案位于栅线与栅线的引出线的连接处；或者所述平坦层位于所述过渡区域的图案位于数据线与数据线的引出线的连接处。可选地，所述阵列基板还包括在所述过渡区域的平坦层图案上的支撑物。可选地，所述平坦层为树脂层或彩膜层。可选地，还包括薄膜晶体管、数据线以及像素电极，所述数据线以及所述像素电极与所述薄膜晶体管电连接，所述平坦层位于所述像素电极层与所述数据线层之间。可选地，还包括公共电极，所述公共电极与所述像素电极之间具有树脂层，至少部分所述树脂层位于显示区域的图案厚度大于所述树脂层位于绑定区的图案厚度。可选地，还包括公共电极，所述公共电极与栅线同层。本技术提供了一种显示装置，包括本技术提供的阵列基板。附图说明图1为本技术提供的一种阵列基板的结构示意图；图2为本技术提供的一种阵列基板的俯视示意图；图3为本技术提供的第二种阵列基板的俯视示意图；图4为本技术提供的第二种阵列基板的结构示意图；图5为本技术提供的第三种阵列基板的结构示意图；图6为本技术提供的第四种阵列基板的结构示意图；图7为本技术提供的第三种阵列基板的俯视示意图；图8为本技术提供的第五种阵列基板的俯视示意图；图9为本技术提供的第六种阵列基板的俯视示意图；图10为本技术提供的第七种阵列基板的俯视示意图；图11为本技术提供的第八种阵列基板的俯视示意图；图12为本技术提供的第九种阵列基板的俯视示意图；图13为本技术提供的第十种阵列基板的俯视示意图；图14为本技术提供的第四种阵列基板的结构示意图；图15为本技术提供的第五种阵列基板的结构示意图；图16为本技术提供的第十一种阵列基板的俯视示意图。具体实施方式为了使本技术的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合附图对本技术作进一步地详细描述，显然，所描述的实施例仅仅是本技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其它实施例，都属于本实用新型保护的范围。需要说明的是，在本技术实施例或附图中，当描述元素A在另一元素B“上”或“下”，它可以表示A直接在B的“上方”或“下方”，也可以表示A和B之间有其他介质元素；元素A或元素B可以是层、区域或基板等，其他介质元素也可以是层、区域或基板等，在此不做限制。相反，当描述A“直接”的在B“上”或“下”，则表明A和B之间没有任何其他介质元素的存在。当描述元件C与元件D“连接“或“电连接”，它可以表示元件C直接或间接的与元件D连接或电连接，元件C或元件D可以是薄膜晶体管、二极管、电容、电阻、以及栅线、数据线、公共电极、引出线、绑定线等各种连接线等，在此不做限制。本技术实施例提供了一种阵列基板和显示装置，包括平坦层，至少部分所述平坦层位于所述显示区域的图案厚度大于所述平坦层位于所述绑定区域的图案厚度，用以使阵列基板的显示区域的平坦层上表面高于绑定区域的平坦层的上表面，从而改善或避免绑定区域绑定不良的现象。参见图1，本技术提供的一种阵列基板，阵列基板包括显示区域12和绑定区域13，阵列基板包括平坦层14，至少部分平坦层14位于显示区域12的图案厚度大于平坦层14位于绑定区域的图案厚度本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种阵列基板，所述阵列基板包括显示区域和绑定区域，其特征在于，所述阵列基板包括平坦层，至少部分所述平坦层位于所述显示区域的图案厚度大于所述平坦层位于所述绑定区域的图案厚度。

【技术特征摘要】
1.一种阵列基板，所述阵列基板包括显示区域和绑定区域，其特征在于，所述阵列基板包括平坦层，至少部分所述平坦层位于所述显示区域的图案厚度大于所述平坦层位于所述绑定区域的图案厚度。
2.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述阵列基板还包括位于所述显示区域和绑定区域之间的过渡区域，至少部分所述平坦层位于所述过渡区域的图案厚度小于或等于所述平坦层位于所述显示区域的图案厚度。
3.根据权利要求2所述的阵列基板，其特征在于，至少部分所述平坦层位于所述过渡区域的图案厚度大于所述平坦层位于所述绑定区域的图案厚度。
4.根据权利要求3所述的阵列基板，其特征在于，至少部分所述平坦层位于所述过渡区域的图案厚度等于所述平坦层位于所述绑定区域的图案厚度。
5.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述阵列基板还包括位于所述显示区域和绑定区域之间的过渡区域，至少部分所述平坦层位于所述过渡区域的图案厚度大于或等于所述平坦层位于所述绑定区域的图案厚度。
6.根据权利要求5所述的阵列基板，其特征在于，至少部分所述平坦层位于绑定区域的图案厚度是所述平坦层位于显示区域图案厚度的1/5-1/20；或者，
所述平坦层位于绑定区域的图案厚度是至少部分所述平坦层位于过渡区域的图案厚度的1/4-1/10。
7.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述平坦层位于绑定区域的图案厚度为零。
8.根据权利要求2-6任一权项所述的阵列基板，其特征在于，至少部分所述平坦层位于所述过渡区域的图案为非连续结构或连续结构。
9.根据权利要求8所述的阵列基板，其特征在于，在至少一Gate边，所述平坦层位于所述过渡区域的图案为非连续结构；在至少一data边，所述平坦层位于所述过渡区域的图案为连续结构。
10.根据权利...

【专利技术属性】
技术研发人员：卢永春，先建波，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，
类型：新型
国别省市：北京;11