一种真空镀膜隔离装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术涉及一种真空镀膜隔离装置，包括镀膜室，所述镀膜室内腔顶部设有多个隔离罩，所述隔离罩内腔顶部设有离子放射器，所述隔离罩底部设有电磁阀，所述电磁阀下方设有输送装置，所述输送装置底部设有多个限位器，且所述限位器设于相邻的两个隔离罩连接处正下方，所述限位器下方设有电弧溅射源，所述电弧溅射源下方设有多个光口真空泵，且所述光口真空泵设于所述隔离罩正下方，所述镀膜室两端均设有电磁阀门，所述电磁阀门顶部设有抽气口，通过该隔离装置，可以达到快速镀膜，在离子喷镀结束后，通过对各个离子发射源的隔离，有效的去除了不同离子产生的污染，快速恢复真空环境从而节省了整个镀膜的时间，从而提高了镀膜的效率。

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及一种真空镀膜隔离装置，属于镀膜

技术介绍
等离子全方位离子沉积技术，是等离子增强化学气相沉积技术的一种，其原理是向镀膜工件施加脉冲直流或者纯直流，工件表面释放电子与真空室内的气体发生碰撞，产生了等离子体，带正电的离子和被激活的分子在工件表面成膜，该技术具有高硬度、低摩擦系数、耐磨耐腐蚀能等多种优异的性能而被广泛应，传统的等离子镀膜装置，将工件置于镀膜室内后将镀膜室内空气抽出形成真空后再充入Ar气，利用电离子进行镀膜，往往需要进行抽气、充气反复工作，所以能在最短时间将镀膜室内气体抽出也是提高加工效率的重要因素，常规的镀膜室抽真空管道在进行抽真空工作时容易使得室内形成空气紊流，影响气体排出速率；同时的，在进行镀膜时需要保证镀膜室内的高度密封。
技术实现思路
本技术的目的就在于为了解决上述问题而提供一种真空镀膜隔离装置。本技术通过以下技术方案来实现上述目的：一种真空镀膜隔离装置，包括镀膜室，所述镀膜室内腔顶部设有多个隔离罩，所述隔离罩内腔顶部设有离子放射器，所述隔离罩底部设有电磁阀，所述电磁阀下方设有输送装置，所述输送装置底部设有多个限位器，且所述限位器设于相邻的两个隔离罩连接处正下方，所述限位器下方设有电弧溅射源，所述电弧溅射源下方设有多个光口真空泵，且所述光口真空泵设于所述隔离罩正下方，所述镀膜室两端均设有电磁阀门，所述电磁阀门顶部设有抽气口。优选的，所述离子放射器间距相同。优选的，所述抽气口外接真空泵。优选的，所述限位器与输送装置、电磁阀、光口真空泵均电性连接。优选的，所述输送装置为防带电装置。本技术的有益效果是：该新型通过该隔离装置，可以达到快速镀膜，在离子喷镀结束后，通过对各个离子发射源的隔离，有效的去除了不同离子产生的污染，快速恢复真空环境从而节省了整个镀膜的时间，从而提高了镀膜的效率，实用性强。附图说明附图用来提供对本技术的进一步理解，并且构成说明书的一部分，与本技术的实施例一起用于解释本技术，并不构成对本技术的限制。图1是本技术一种真空镀膜隔离装置结构图。图2是本技术一种真空镀膜隔离装置左视图。图中标号：1、镀膜室；2、隔离罩；3、离子放射器；4、电磁阀；5、输送装置；6、限位器；7、电弧溅射源；8、光口真空泵；9、电磁阀门；10、抽气口。具体实施方式下面将结合本技术实施例中的附图，对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本技术一部分实施例，而不是全部的实施例，基于本技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本技术保护的范围。请参阅图1-2，一种真空镀膜隔离装置，包括镀膜室1，所述镀膜室1内腔顶部设有多个隔离罩2，隔离罩2可以有效隔离子的自由分散，所述隔离罩2内腔顶部设有离子放射器3，离子放射器3将离子发射出，隔离罩2限制离子的扩散方向，所述隔离罩2底部设有电磁阀4，电磁阀4在不需要镀膜时关闭，镀膜时打开，防止其它的离子污染，所述电磁阀4下方设有输送装置5，待镀膜设备在输送装置5运行，所述输送装置5底部设有多个限位器6，且所述限位器6设于相邻的两个隔离罩2连接处正下方，限位器6在镀膜时，通过限制输送装置5的运行，保证待镀膜设备处在离子放射器3的正前方，所述限位器6下方设有电弧溅射源7，电弧溅射源7让设备带电，从而使离子吸附在设备上，所述电弧溅射源7下方设有多个光口真空泵8，光口真空泵8可以快速有效的抽空镀膜室1内的离子及保证镀膜室1内的真空环境，且所述光口真空泵8设于所述隔离罩2正下方，光口真空泵8正对离子放射器3，在离子喷射结束后，可以针对的抽排，达到快速补充真空及排污的效果，所述镀膜室1两端均设有电磁阀门9，确保设备在镀膜室1时的真空环境，提高镀膜效率，进入所述电磁阀门9顶部设有抽气口10，抽气口10确保电磁阀门9内的真空环境。所述离子放射器3间距相同，离子放射器3与设备的接触面积相同，确保每种离子吸附的浓度相等，所述抽气口10外接真空泵，真空泵将设备从外界带来的污染气体及杂质排除，所述限位器6与输送装置5、电磁阀4、光口真空泵8均电性连接，限位器6限定输送装置5位置后，电弧溅射源7喷射电弧，电磁阀4打开，离子放射器3喷射离子，结束后电磁阀4关闭，光口真空泵8打开，所述输送装置5为防带电装置，防止输送装置5带电影响设备的离子吸附效果。本技术在使用时，通过该隔离装置，可以达到快速镀膜，在离子喷镀结束后，通过对各个离子发射源的隔离，有效的去除了不同离子产生的污染，快速恢复真空环境从而节省了整个镀膜的时间，从而提高了镀膜的效率，实用性强。对于本领域技术人员而言，显然本技术不限于上述示范性实施例的细节，而且在不背离本技术的精神或基本特征的情况下，能够以其他的具体形式实现本技术，因此，无论从哪一点来看，均应将实施例看作是示范性的，而且是非限制性的，本技术的范围由所附权利要求而不是上述说明限定，因此旨在将落在权利要求的等同要件的含义和范围内的所有变化囊括在本技术内。不应将权利要求中的任何附图标记视为限制所涉及的权利要求。此外，应当理解，虽然本说明书按照实施方式加以描述，但并非每个实施方式仅包含一个独立的技术方案，说明书的这种叙述方式仅仅是为清楚起见，本领域技术人员应当将说明书作为一个整体，各实施例中的技术方案也可以经适当组合，形成本领域技术人员可以理解的其他实施方式。本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种真空镀膜隔离装置，包括镀膜室（1），其特征在于，所述镀膜室（1）内腔顶部设有多个隔离罩（2），所述隔离罩（2）内腔顶部设有离子放射器（3），所述隔离罩（2）底部设有电磁阀（4），所述电磁阀（4）下方设有输送装置（5），所述输送装置（5）底部设有多个限位器（6），且所述限位器（6）设于相邻的两个隔离罩（2）连接处正下方，所述限位器（6）下方设有电弧溅射源（7），所述电弧溅射源（7）下方设有多个光口真空泵（8），且所述光口真空泵（8）设于所述隔离罩（2）正下方，所述镀膜室（1）两端均设有电磁阀门（9），所述电磁阀门（9）顶部设有抽气口（10）。

【技术特征摘要】
1.一种真空镀膜隔离装置，包括镀膜室（1），其特征在于，所述镀膜室（1）内腔顶部设有多个隔离罩（2），所述隔离罩（2）内腔顶部设有离子放射器（3），所述隔离罩（2）底部设有电磁阀（4），所述电磁阀（4）下方设有输送装置（5），所述输送装置（5）底部设有多个限位器（6），且所述限位器（6）设于相邻的两个隔离罩（2）连接处正下方，所述限位器（6）下方设有电弧溅射源（7），所述电弧溅射源（7）下方设有多个光口真空泵（8），且所述光口真空泵（8）设于所述隔离罩（2）正下方，所...

【专利技术属性】
技术研发人员：彭长明，
申请(专利权)人：创隆实业深圳有限公司，
类型：新型
国别省市：广东;44