【技术实现步骤摘要】
本专利技术属于石墨领域，尤其涉及一种石墨壳的制备工艺。
技术介绍
一般来说内核具有某种功能性质，而外壳具有一定保护甚至强化内核性能的作用、或者可以引入新的性能，外壳复合材料可以是零至三维的纳米或微米尺寸的结构材料。壳结构通常表现出比单一成分更加优异的物理及化学性能，而增强了的性能主要归因于外壳的作用，这些优点使核壳结构在光学、磁学、生物、催化、能量转化和储存等方面呈现出潜在的应用价值。虽然壳结构的应用领域已经很多，制备新型的核壳结构并拓宽核壳结构的应用范围仍是非常必要的。制备碳素壳结构的方法很多，包括：传统的及改良的碳弧放电技术、高温分解金属有机物、高温退火处理碳基材料或者金属前驱体、爆炸或催化分解甲烷等方法。
技术实现思路
为了克服上述问题，本专利技术目的涉及一种石墨壳的制备工艺，铜是一种廉价的金属却具有极好的电、光和热学性质，可被广泛地应用在催化、电子及光电子学等领域。因此制备以铜为内壳的碳素材料，应用广泛。本专利技术的目的就是针对现有技术存在的缺陷，专利技术一种石墨壳的制备工艺，其特征是：铜薄膜的制备：将对靶磁控溅射制备的铝薄膜放入射频等离子体增强化学气相沉积设备(RF-PECVD)的反应室中，采用DPS-Ⅲ型超高真空对靶磁控溅射镀膜设置来制备厚度为80nm的铜薄膜，使用的基片为单晶Si200，靶材是直径为8cm的高纯铝靶。所述的石墨核壳结构材料的制备：将Si200基片分别用丙酮、酒精和去离子水...
【技术保护点】
一种石墨壳的制备工艺，其特征是：靶磁控溅射制备的铜薄膜放入射频等离子体增强化学气相沉积设备(RF‑PECVD)的反应室中，采用DPS‑Ⅲ型超高真空对靶磁控溅射镀膜设置来制备厚度为80nm的铜薄膜，使用的基片为单晶Si200，靶材是直径为8cm的高纯铝靶。
【技术特征摘要】
1.一种石墨壳的制备工艺，其特征是：靶磁控溅射制备的铜薄膜放入射频
等离子体增强化学气相沉积设备(RF-PECVD)的反应室中，采用DPS-Ⅲ型超
高真空对靶磁控溅射镀膜设置来制备厚度为80nm的铜薄膜，使用的基片为单晶
Si200，靶材是直径为8cm的高纯铝靶。
2.根据权利要求1所述的一种石墨壳的制备工艺，其特征是：所述的石墨
核壳结构材料...
【专利技术属性】
技术研发人员：李鹏，
申请(专利权)人：平度市华东石墨加工厂，
类型：发明
国别省市：山东;37
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