【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】本专利技术涉及以提高的产品质量和收率生产眼用透镜,尤其是接触透镜的方法。特别是,本专利技术涉及在眼用透镜(优选接触透镜)的铸造模塑方法中促进模具分离和从模具,优选可重复使用模具中的透镜脱除,由此提高所生产的眼用透镜(接触透镜)的质量和收率的方法。背景接触透镜可通过涉及一次性模具的常规铸造模塑方法(例如PCT公开的专利申请No.WO/87/04390、EP-A0367513、美国专利No.5,894,002)或者通过涉及可重复使用模具和在光化辐射的空间限制下将透镜形成组合物固化的所谓LightstreamTechnologyTM(Alcon)(美国专利Nos.5,508,317、5,583,163、5,789,464、5,849,810和8,163,206)而以大规模生产方式经济地制造。LightstreamTechnologyTM(Alcon)为以高精确性、保真度和再现性以及低成本铸造模塑水凝胶接触透镜的改进铸造模塑方法。使用一次性或可重复使用模具生产透镜中的关键步骤是打开模具和将透镜从模具中释放而不损害透镜。在接触透镜模塑方法完成以后,在将有机溶剂换成水以前,聚合透镜为在有机溶剂中的膨胀状态,并且具有非常低的刚度和韧性。另外,聚合透镜倾向于强力粘附在模具上。因而,在模具打开和透镜脱模(即将接触透镜从模具中取出)期间,透镜中可能出现裂缝、裂纹和/或撕裂,或者在最坏的情况下,接触透镜甚至完全破裂。具有这类缺陷的接触透镜 ...
【技术保护点】
制备接触透镜的方法,其包括步骤:(1)得到流体透镜形成组合物和模具,其中流体透镜形成组合物包含选自由亲水性乙烯基单体、含硅乙烯基单体、含硅交联剂、含硅预聚物、不含硅的亲水性预聚物及其组合组成的组的至少一员,其中模具具有第一半模和第二半模,第一半模具有限定接触透镜的前表面的第一模塑表面,第二半模具有限定眼用透镜的后表面的第二模塑表面,其中配置所述第一半模和第二半模以彼此容纳使得在所述第一模塑表面与第二模塑表面之间形成空穴;(2)将包含阳离子表面活性剂和阴离子表面活性剂的阴阳离子水溶液涂层施涂于模具的第一模塑表面或第二模塑表面上(优选施涂于模具的第一模塑表面和第二模塑表面上),其中水溶液中阴离子表面活性剂与阳离子表面活性剂相比的重量百分数比为约0.1至约10;(3)将阴阳离子水溶液涂层干燥以在第一模塑表面和/或第二模塑表面上形成阴阳离子囊泡涂层,其中在第一模塑表面和/或第二模塑表面上形成阴阳离子囊泡涂层的特征是在用于由流体透镜形成组合物铸造模塑眼用透镜时具有相对于其上不具有任何阴阳离子囊泡涂层的对照模具为至少约50%的模具分离力降低百分数,且任选具有平均至多约5个星裂每透镜;(4)将流体透 ...
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2013.10.31 US 61/898,0001.制备接触透镜的方法,其包括步骤:
(1)得到流体透镜形成组合物和模具,其中流体透镜形成组合物包含选自
由亲水性乙烯基单体、含硅乙烯基单体、含硅交联剂、含硅预聚物、不
含硅的亲水性预聚物及其组合组成的组的至少一员,其中模具具有第一
半模和第二半模,第一半模具有限定接触透镜的前表面的第一模塑表面,
第二半模具有限定眼用透镜的后表面的第二模塑表面,其中配置所述第
一半模和第二半模以彼此容纳使得在所述第一模塑表面与第二模塑表面
之间形成空穴;
(2)将包含阳离子表面活性剂和阴离子表面活性剂的阴阳离子水溶液涂层
施涂于模具的第一模塑表面或第二模塑表面上(优选施涂于模具的第一
模塑表面和第二模塑表面上),其中水溶液中阴离子表面活性剂与阳离子
表面活性剂相比的重量百分数比为约0.1至约10;
(3)将阴阳离子水溶液涂层干燥以在第一模塑表面和/或第二模塑表面上形
成阴阳离子囊泡涂层,其中在第一模塑表面和/或第二模塑表面上形成阴
阳离子囊泡涂层的特征是在用于由流体透镜形成组合物铸造模塑眼用透
镜时具有相对于其上不具有任何阴阳离子囊泡涂层的对照模具为至少约
50%的模具分离力降低百分数,且任选具有平均至多约5个星裂每透镜;
(4)将流体透镜形成组合物引入由其上具有在步骤(3)中形成的阴阳离子囊
泡涂层的第一模塑表面和第二模塑表面形成的空穴中;
(5)光化照射空穴中的流体透镜形成组合物以形成眼用透镜;和
(6)打开模具并将形成的眼用透镜从模具中取出。
2.根据权利要求1的方法,其中将阴阳离子水溶液涂层施涂于模具的
第一模塑表面和第二模塑表面上,其中水溶液中阴离子表面活性剂与阳离
子表面活性剂相比的重量百分数比为约0.25至约8(更优选约0.4至约2.5),
其中在第一模塑表面和/或第二模塑表面上形成阴阳离子囊泡涂层的特征
是在用于由流体透镜形成组合物铸造模塑眼用透...
【专利技术属性】
技术研发人员:H·黄,H·陆,
申请(专利权)人:诺华股份有限公司,
类型:发明
国别省市:瑞士;CH
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