一种掩膜板清洗系统技术方案

本发明专利技术提供一种掩膜板清洗系统，包括：夹具和薄膜保护装置，所述夹具用于水平悬空夹持掩膜板；所述薄膜保护装置设置在所述夹具的下方，用于遮挡设置在掩膜板下表面的薄膜，并与薄膜四周的掩膜板的下表面连接，以防止用于冲洗掩膜板的冲洗液污染所述薄膜，减小掩膜板的清洁工序对工人的依赖，提高掩膜板生产的良品率，并为实现机械化、规模化的掩膜板清洁工序提供保障。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及半导体设备制造
，具体涉及一种掩膜板清洗系统。
技术介绍
近年来TFT-LCD(ThinFilmTransistor-LiquidCrystalDisplay，薄膜晶体管液晶显示器)已经在显示领域得到广泛的应用，在液晶屏生产制造过程中，薄膜晶体管阵列基板的生产是颇为重要的一环，而光刻所用的掩膜板作为TFT制作的核心“道具”，其保养和维护显得尤为重要。由于工厂内部微小粉尘和挥发气体的存在，使得掩膜板必须定期进行系统的清洁除静电处理。目前工厂内部基本上都使用离子风枪、离子棒进行去颗粒处理，而对于顽固污渍，一般使用高等级无尘布蘸清水或者异丙醇(IPA)进行浸泡擦拭。另外，用于制作薄膜晶体管(TFT)的掩膜板的底部都会使用特殊的薄膜(Pellicle)保护掩膜板下表面的TFT图案，以阻止颗粒和工厂内挥发气体的污染。现有的掩膜板清洁过程均由人工手动操作实现，在清洗过程中，人工操作失误发生几率较大，容易造成对Pellicle的污染，一旦Pellicle上粘上不明液态污渍，则会造成曝光过程中的焦距变化和穿透率失真。而对Pellicle的保护只能依赖于人员的细心和经验，使得掩膜板的良品率较低。因此，亟需一种掩膜板清洗系统以解决上述技术问题。
技术实现思路
本专利技术针对现有技术中存在的上述不足，提供一种掩膜板清洗系统，用以解决掩膜板下方的薄膜容易污染的问题。本专利技术为解决上述技术问题，采用如下技术方案：本专利技术提供一种掩膜板清洗系统，包括：夹具和薄膜保护装置，所述夹具用于水平悬空夹持掩膜板；所述薄膜保护装置设置在所述夹具的下方，用于遮挡设置在掩膜板下表面的薄膜，并与薄膜四周的掩膜板的下表面连接，以防止用于冲洗掩膜板的冲洗液污染所述薄膜。优选的，所述薄膜保护装置包括真空连接机构和腔体，所述腔体内部中空且开口向上，所述腔体的开口处沿所述开口设置有开口向上的凹槽；所述真空连接机构与所述凹槽相连，用于在所述凹槽内形成真空，并借助真空将所述腔体的开口与薄膜四周的掩膜板的下表面贴合并连接。优选的，所述凹槽内设置有多个真空孔；所述真空连接机构包括：气体总管、配气盘和多个气体支管，所述气体支管与所述真空孔一一对应且相连，配气盘设置于所述腔体的底部，与所述气体总管和气体支管相连。优选的，所述凹槽内设置有密封胶。进一步的，所述薄膜保护装置还包括升降机构，所述升降机构用于竖直升降所述腔体和真空连接机构。优选的，所述掩膜板包括石英载体和图案化的掩膜板本体，所述掩膜板本体位于所述石英载体的下表面，所述薄膜覆盖所述掩膜板本体；所述石英载体的上表面和侧面的交界处设置有倒角。优选的，所述倒角为30-60度。优选的，所述石英载体的上表面和所述倒角的表面采用亲水性处理；和/或，所述石英载体的侧面采用疏水性处理。优选的，所述夹具包括第一夹持机构和第二夹持机构，第一夹持机构和第二夹持机构分别从所述掩膜板的两侧夹持并固定所述掩膜板；所述第一夹持机构和第二夹持机构包括：驱动装置以及水平设置的翼板、第一手臂、第二手臂、第一导轨和第二导轨，所述第一手臂与第二手臂分别与所述翼板的两端相连，并能够分别在第一导轨和第二导轨内滑动伸缩；所述第一手臂和第二手臂的用于夹持所述掩膜板的夹持端设置有用于限制所述第一手臂和第二手臂水平位移大小的止挡部件；所述驱动装置与所述翼板相连，用于驱动所述翼板水平移动，并同时带动所述第一手臂和第二手臂分别在第一导轨和第二导轨内滑动，以使所述止挡部件抵靠住所述掩膜板的侧面。优选的，所述驱动装置为齿轮齿条驱动装置。优选的，所述止挡部件包括第一挡板和第二挡板，第一挡板和第二挡板垂直设置在所述第一手臂和第二手臂的上表面，且第一挡板邻近所述第一手臂和第二手臂的夹持端的端部；所述第一挡板的高度小于所述第二挡板的高度，所述第一挡板的弹性大于所述第二挡板的弹性。进一步的，所述第一手臂和第二手臂的用于夹持所述掩膜板的夹持端还设置有用于支撑所述掩膜板的垫块，所述垫块位于所述第一手臂和第二手臂的夹持端的端部与所述第一挡板之间。优选的，所述垫块为两块，包括第一垫块和第二垫块，所述第一垫块邻近所述第一手臂和第二手臂的夹持端的端部；所述第一垫块的高度大于所述第二垫块的高度，所述第一垫块的弹性小于所述第二垫块的弹性。进一步的，所述系统还包括在水平方向上的位置能够调节的冲洗装置，所述冲洗装置设置在所述夹具的上方，用于向所述掩膜板喷洒冲洗液。进一步的，所述系统还包括风干装置，所述风干装置设置于所述冲洗装置的上方，用于竖直向下吹风以风干所述掩膜板。进一步的，所述风干装置还包括多个用于去除静电的金属针头，所述金属针头设置于所述风干装置的出风口处，并向不同方向排布。本专利技术能够实现以下有益效果：本专利技术利用夹具用于水平悬空夹持掩膜板，并通过在夹具的下方设置薄膜保护装置，该薄膜保护装置能够与薄膜四周的掩膜板的下表面连接，并将掩膜板下表面的薄膜遮挡住，从而防止用于冲洗掩膜板的冲洗液污染所述薄膜，减小掩膜板的清洁工序对工人的依赖，提高掩膜板生产的良品率，并为实现机械化、规模化的掩膜板清洁工序提供保障。附图说明图1为本专利技术实施例提供的掩膜板清洗系统的结构示意图；图2为本专利技术实施例提供的薄膜保护装置的结构示意图；图3为本专利技术实施例提供的掩膜板的结构示意图；图4为本专利技术实施例提供的夹具的结构示意图；图5为本专利技术实施例提供的夹具夹持掩膜板与薄膜保护装置相连的示意图。图例说明：1、夹具2薄膜保护装置3、掩膜板4、冲洗装置5、风干装置6、导流槽11、第一加持机构12、第二加持机构13、驱动装置14、翼板15、第一手臂16、第二手臂17、第一导轨18、第二导轨21、真空连接机构22、腔体23、凹槽24、真空孔25、升降机构31、薄膜32、掩膜板本体33、石英载体41、金属针头191、第一挡板192、第二挡板101、第一垫块102、第二垫块211、气体总管212、配气盘213、气体支管331、倒角具体实施方式下面将结合本专利技术中的附图，对本专利技术中的技术方案进行清楚、完整的描述，显然，所描述的实施例是本专利技术的一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本专利技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动的前提下所获得的所有其他实施例，都属于本专利技术保护的范围。以下结合图1-5，详细说明本专利技术的技术方案。如图1所示，本专利技术提供一本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种掩膜板清洗系统，其特征在于，包括：夹具和薄膜保护装置，所述夹具用于水平悬空夹持掩膜板；所述薄膜保护装置设置在所述夹具的下方，用于遮挡设置在掩膜板下表面的薄膜，并与薄膜四周的掩膜板的下表面连接，以防止用于冲洗掩膜板的冲洗液污染所述薄膜。

【技术特征摘要】
1.一种掩膜板清洗系统，其特征在于，包括：夹具和薄膜保护装置，所述夹具用于水平
悬空夹持掩膜板；
所述薄膜保护装置设置在所述夹具的下方，用于遮挡设置在掩膜板下表面的薄膜，并
与薄膜四周的掩膜板的下表面连接，以防止用于冲洗掩膜板的冲洗液污染所述薄膜。
2.如权利要求1所述的掩膜板清洗系统，其特征在于，所述薄膜保护装置包括真空连接
机构和腔体，所述腔体内部中空且开口向上，所述腔体的开口处沿所述开口设置有开口向
上的凹槽；
所述真空连接机构与所述凹槽相连，用于在所述凹槽内形成真空，并借助真空将所述
腔体的开口与薄膜四周的掩膜板的下表面贴合并连接。
3.如权利要求2所述的掩膜板清洗系统，其特征在于，所述凹槽内设置有多个真空孔；
所述真空连接机构包括：气体总管、配气盘和多个气体支管，所述气体支管与所述真空
孔一一对应且相连，配气盘设置于所述腔体的底部，与所述气体总管和气体支管相连。
4.如权利要求2所述的掩膜板清洗系统，其特征在于，所述凹槽内设置有密封胶。
5.如权利要求2所述的掩膜板清洗系统，其特征在于，所述薄膜保护装置还包括升降机
构，所述升降机构用于竖直升降所述腔体和真空连接机构。
6.如权利要求1所述的掩膜板清洗系统，其特征在于，所述掩膜板包括石英载体和图案
化的掩膜板本体，所述掩膜板本体位于所述石英载体的下表面，所述薄膜覆盖所述掩膜板
本体；
所述石英载体的上表面和侧面的交界处设置有倒角。
7.如权利要求6所述的掩膜板清洗系统，其特征在于，所述倒角为30-60度。
8.如权利要求6所述的掩膜板清洗系统，其特征在于，所述石英载体的上表面和所述倒
角的表面采用亲水性处理；和/或，所述石英载体的侧面采用疏水性处理。
9.如权利要求1所述的掩膜板清洗系统，其特征在于，所述夹具包括第一夹持机构和第
二夹持机构，第一夹持机构和第二夹持机构分别从所述掩膜板的两侧夹持并固定所述掩膜
板；
所述第一夹持机构和第二夹持机构包括：驱动装置以及水平设置的翼板、第一手臂、第
二手臂、第一导轨和第二导轨，所...

【专利技术属性】
技术研发人员：黄文同，胡静，李亚文，汪雄，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，合肥京东方光电科技有限公司，
类型：发明
国别省市：北京;11