抗蚀剂剥离液组合物、平板显示器基板及其制造方法技术

本发明专利技术涉及包含(a)化学式1所表示的仲胺、(b)非质子有机溶剂化合物和(c)伯醇化合物的抗蚀剂剥离液组合物，包括利用该抗蚀剂剥离液组合物对平板显示器基板进行清洗的工序的平板显示器基板的制造方法，及由上述制造方法制造的平板显示器基板。化学式1中，R为C2～C20的直链或支链烷基、或者C5～C8的环烷基等。[化学式1]。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种抗蚀剂剥离液组合物、使用其的平板显示器基板制造方法以及平板显示器基板。
技术介绍
近年来，随着对于实现平板显示装置的高分辨率的要求增多，一直进行着旨在增加每单位面积的像素数量的努力。在这样的趋势下，也要求配线宽度的减小，为了应对该趋势，导入了干式蚀刻工序等，因而工序条件也变得愈发苛刻。此外，由于平板显示装置的大型化，也要求配线中的信号速度加快，因此，相比铝，电阻率低的铜逐渐被用作配线材料。为了与之适应，对于在作为抗蚀剂去除工序的剥离工序中使用的剥离液的需求性能也逐渐提高。具体而言，对于针对干式蚀刻工序之后所产生的蚀刻残渣的去除能力和针对金属配线的腐蚀抑制能力等，要求相当水平的剥离特性。特别地，不仅要求对于铝的腐蚀抑制能力，还要求对于铜的腐蚀抑制能力，并且为了确保价格竞争力，也要求如基板的处理张数增多这样的经济性。一般而言，为了去除抗蚀剂，会使用一乙醇胺、甲基氨基甲醇等胺等。然而，已知以往的光致抗蚀剂剥离液组合物在长期保管以及高温工序温度条件下会因胺的挥发损失而发生胺的含量降低所导致的剥离性降低的问题。例如，韩国公开专利第10-2006-0048092号中公开了包含烷醇胺的抗蚀剂剥离液组合物，但仍未解决长期保管以及高温工序温度条件下发生由胺的挥发损失引起的剥离性降低的问题。为了解决如上所述的以往技术的问题，需要开发如下优异的剥离液组合物，其具有优异的防腐蚀能力和斑纹产生防止效果，并且长期保管以及高温工序温度条件下抑制由胺的挥发损失引起的剥离性降低。现有技术文献专利文献韩国公开专利第10-2006-0048092号
技术实现思路
所要解决的课题本专利技术的目的在于，提供一种抗蚀剂剥离液组合物，其具有优异的防腐蚀能力和斑纹产生防止效果，并且改善长期保管以及高温工序温度条件下发生由胺的挥发损失引起的剥离性降低的问题。此外，本专利技术的目的在于，提供使用上述组合物的平板显示器基板的制造方法以及由上述制造方法制造的平板显示器基板。解决课题的方法为了达成上述目的，本专利技术提供一种抗蚀剂剥离液组合物，其包含：(a)化学式1所表示的仲胺、(b)非质子有机溶剂化合物和(c)伯醇化合物。[化学式1]上述化学式1中，R为C2～C20的直链或支链烷基、或者C5～C8的环烷基、上述C2～C20的直链或支链烷基、或者C5～C8的环烷基可被羟基、C1～C10的烷氧基、氰基或氟基取代或非取代，n为0～3的整数。此外，本专利技术提供一种平板显示器基板的制造方法，其包括使用上述本专利技术的抗蚀剂剥离液组合物对平板显示器基板进行清洗的工序。此外，本专利技术提供一种由上述制造方法制造的平板显示器基板。专利技术效果本专利技术的抗蚀剂剥离液组合物具有如下优点：具有优异的防腐蚀能力和斑纹产生防止效果，并且改善长期保管以及高温工序温度条件下发生由胺的挥发损失引起的剥离性降低的问题。具体实施方式以下，更详细说明本专利技术。本专利技术涉及一种包含(a)化学式1所表示的仲胺、(b)非质子有机溶剂化合物和(c)伯醇化合物的抗蚀剂剥离液组合物。本专利技术人在实验中发现，长期保管以及高温工序温度条件下由胺的挥发损失引起的组合物的剥离性降低是由歧化反应(disproportionreaction)中所产生的原料胺的挥发损失造成的，在使用本专利技术的化学式1所表示的仲胺的情况下，能够使如上歧化反应最小化而抑制原料胺的挥发损失，结果即使在长期保管时或高温工序温度条件下组合物的剥离性也不会降低。以下，按各构成详细说明本专利技术。(a)化学式1所表示的仲胺本专利技术的特征在于，包含下述化学式1所表示的仲胺。[化学式1]上述化学式1中，R为C2～C20的直链或支链烷基、或者C5～C8的环烷基、上述C2～C20的直链或支链烷基、或者C5～C8的环烷基可被羟基、C1～C10的烷氧基、氰基或氟基取代或非取代，n为0～3的整数。上述化学式1所表示的仲胺是由常压下沸点为20度以上的伯胺制造的，是含有羟甲基的仲胺。在将本专利技术的化学式1所表示的仲胺用于剥离液组合物的情况下，能够使如上歧化反应最小化而抑制原料胺的挥发损失，结果即使在长期保管时或高温工序温度条件下组合物的剥离性也不会降低。此外，上述化学式1所表示的仲胺与化学式1以外的有机碱化合物相比，去除能力优异，同时对下部金属的腐蚀性低，因而能够缩短整体剥离时间。此外，化学式1的有机碱化合物还能够大大减少或完全去除防腐蚀剂的添加量，能够使工序上可能发生的电气特性差错最小化，并且能够减少制造过程中的制造步骤，因此整体上在产品的价格方面也能够获得较大利益。本专利技术中，作为用于抗蚀剂剥离液组合物的上述化学式1所表示的仲胺的制造方法，包括以使用常压下沸点为20度以上的伯胺为特征的制造方法。具体而言，化学式1所表示的仲胺可例示2-羟甲基氨基乙醇、2-(2-(羟甲基氨基)乙氧基)乙醇、2-(2-(2-(羟甲基氨基)乙氧基)乙氧基)乙醇、乙基氨基甲醇、N-羟甲基丙胺、丁基氨基甲醇、异丁基氨基甲醇、N-(2-羟丙基)氨基甲醇等，上述化学式1可单独使用或混合两种以上使用，也可与有机碱化合物混合使用。作为TFT用剥离剂中主要使用的有机碱化合物的种类，可举出四甲基氢氧化铵、四乙基氢氧化铵和胺类等，上述胺类中，有甲胺、乙胺、一异丙胺、正丁胺、仲丁胺、异丁胺、叔丁胺、戊胺等伯胺；二甲胺、二乙胺、二丙胺、二异丙胺、二丁胺、二异丁胺、甲基乙胺、甲基丙胺、甲基异丙胺、甲基丁胺、甲基异丁胺等仲胺；二乙基羟胺、三甲胺、三乙胺、三丙胺、三丁胺、三戊胺、二甲基乙胺、甲基二乙胺和甲基二丙胺等叔胺；胆碱、一乙醇胺、二乙醇胺、三乙醇胺、一丙醇胺、单甲基乙醇胺、2-氨基乙醇、2-(乙基氨基)乙醇、2-(甲基氨基)乙醇、N-甲基二乙醇胺、N,N-二甲基乙醇胺、N,N-二乙基氨基乙醇、2-(2-氨基乙基氨基)-1-乙醇、1-氨基-2-丙醇、2-氨基-1-丙醇、3-氨基-1-丙醇、4-氨基-1-丁醇、二丁醇胺等烷醇胺；(丁氧基甲基)二乙胺、(甲氧基甲基)二乙胺、(甲氧基甲基)二甲胺、(丁氧基甲基)二甲胺、(异丁氧基甲基)二甲胺、(甲氧基甲基)二乙醇胺、(羟基乙基氧基甲基)二乙胺、甲基(甲氧基甲基)氨基乙烷、甲基(甲氧基甲基)氨基乙醇、甲基(丁氧基甲基)氨基乙醇、2-(2-氨基乙氧基)乙醇等烷氧基胺等。上述化学式1所表示的仲胺和上述提及的有机碱化合物强力渗入到在干式或湿式蚀刻、灰化(ashing)或离子注入工序(ionimplantprocessing)等多种工序条件下被改性或交联的抗蚀剂(resist)的高分子基体，起到使存在于分子内或分子间的结合断裂的作用，在残留于基板上的抗蚀剂内的结构上脆弱部分形成空间，将抗蚀剂变形成无定形高分子凝胶(gel)块体状态，从而能够容易地去除附着于基板上部的抗蚀剂。有机碱化合物的情况，光致抗蚀剂去除能力和基板下部的金属的腐蚀性会被一同强化，在表现优异的去除能力性能时，对下部金属的腐蚀性也变高而使金属损伤变得严重，但如果为了减少金属损伤而降低腐蚀性，则去除能力也降低，因而会引起使剥离速度的降低与溶解能力一同降低的反相互作用。化学式1的有机碱化合物相对于总重量优选以0.01至20重量％包含，更优选以0.05至5重量％包含。如果所包含的有机碱化合物低于上述含量范围，则可能会产生因抗蚀剂剥离能力本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种抗蚀剂剥离液组合物，其包含：(a)下述化学式1所表示的仲胺、(b)非质子有机溶剂化合物、和(c)伯醇化合物，[化学式1]上述化学式1中，R为C2～C20的直链或支链烷基、或者C5～C8的环烷基、所述C2～C20的直链或支链烷基、或者C5～C8的环烷基可被羟基、C1～C10的烷氧基、氰基或氟基取代或非取代，n为0～3的整数。

【技术特征摘要】
2015.09.16 KR 10-2015-01312451.一种抗蚀剂剥离液组合物，其包含：(a)下述化学式1所表示的仲胺、(b)非质子有机溶剂化合物、和(c)伯醇化合物，[化学式1]上述化学式1中，R为C2～C20的直链或支链烷基、或者C5～C8的环烷基、所述C2～C20的直链或支链烷基、或者C5～C8的环烷基可被羟基、C1～C10的烷氧基、氰基或氟基取代或非取代，n为0～3的整数。2.根据权利要求1所述的抗蚀剂剥离液组合物，所述(a)化学式1所表示的仲胺是选自2-羟甲基氨基乙醇、2-(2-(羟甲基氨基)乙氧基)乙醇、2-(2-(2-(羟甲基氨基)乙氧基)乙氧基)乙醇、乙基氨基甲醇、N-羟甲基丙胺、丁基氨基甲醇、异丁基氨基甲醇和N-(2-羟丙基)氨基甲醇中的一种以上。3.根据权利要求1所述的抗蚀剂剥离液组合物，所述(b)非质子有机溶剂化合物是选自吡咯烷酮化合物、咪唑烷酮化合物、亚砜化合物、磷酸酯化合物及酰胺化合物中的一种以上。4.根据权利要求1所述的抗蚀剂剥离液组合物，所述(b)非质子有机溶剂化合物是选自1-乙酰基吡咯烷、2-吡咯烷酮、N-甲基吡咯烷酮、1,3-二甲基-2-咪唑烷酮、1,3-二丙基-2-咪唑烷酮、二甲亚砜、环丁砜、磷酸三乙酯、磷酸三丁酯、N-甲基甲酰胺、N-乙基甲酰胺、N,N-二甲基甲酰胺、N,N-二乙基甲酰胺、N,N-二甲基乙酰基乙酰胺、N,N-叔丁基甲酰胺、乙酰胺、N-甲基乙酰胺、N-乙基乙酰胺、N,N-二甲基乙酰胺、N,N-二乙基乙酰胺、N-(2-羟乙基)乙酰胺、N,N-二甲基丙酰胺、...

【专利技术属性】
技术研发人员：李喻珍，高京俊，金圣植，金正铉，崔汉永，
申请(专利权)人：东友精细化工有限公司，
类型：发明
国别省市：韩国;KR