磁共振成像系统技术方案

技术编号:14899416 阅读:250 留言:0更新日期:2017-03-29 14:29
本实用新型专利技术公开了一种磁共振成像系统,该磁共振成像系统包括:C型机架,设置于所述C型机架上轭的上铁芯,设置于所述C型机架下轭的下铁芯,环绕于所述上铁芯周侧的上部超导线圈,以及环绕于所述下铁芯周侧的下部超导线圈;其中,配置有所述上部超导线圈的所述上铁芯与配置有所述下部超导线圈的所述下铁芯相对设置,以使所述上铁芯与所述下铁芯之间形成了供被检者检测的成像区域。本实用新型专利技术设计了一种开放式的磁共振成像系统,利用C型机架形成开放空间,并在C型机架的上下两端通过超导线圈中设置有铁芯形成磁路,有效的解决了开放性低的缺点,并且通过结构的优化提高磁场强度,以使磁共振成像系统实现高场强、高开放度的目的。

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及医疗设备
,尤其涉及一种开放式的磁共振成像系统。
技术介绍
磁共振成像(MRI)是目前应用最广泛的无接触成像医疗设备之一,它利用磁共振现象从人体中获得电磁信号,并重建出人体信息,主要应用于临床人体内部成像诊断。其中,产生背景磁场的磁体是MRI构成的核心部件,在诊疗成像区域(即“病人空间”)产生一个足够强度和均匀度的背景磁场,这是产生磁共振现象的必要条件,理论上说,背景磁场的强度越高,可以成像的清晰度就越高,就越有利于病情的诊断。现有MRI一般需要在直径为40cm~50cm球域内产生均匀磁场,超导磁体均由螺线管型线圈组成,超导磁体提供一个直径大于70cm的空心圆柱形室温孔以实现患者全身成像的需求,患者在进行磁共振成像时,需要从狭长的室温孔的一端进入中心磁场均匀区域进行成像诊断。然而,大量临床试验表明患者在进行磁共振成型诊断时,普遍会出现紧张、不安等幽闭症现象,不利于部分精神疾病患者或体型较大的病人使用。
技术实现思路
有鉴于此,本技术提出一种开放式的磁共振成像系统以解决上述技术问题。为了达到上述目的,本技术所采用的技术方案为:一种磁共振成像系统,包括:C型机架,设置于所述C型机架上轭的上铁芯,设置于所述C型机架下轭的下铁芯,环绕于所述上铁芯周侧的上部超导线圈,以及环绕于所述下铁芯周侧的下部超导线圈;其中,配置有所述上部超导线圈的所述上铁芯与配置有所述下部超导线圈的所述下铁芯相对设置,以使所述上铁芯与所述下铁芯之间形成了供被检者检测的成像区域。本技术磁共振成像系统的进一步改进在于,所述磁共振成像系统还包括相对设置的上匀场环和下匀场环,所述上匀场环位于所述上铁芯与所述下铁芯相对一侧面,所述下匀场环位于所述下铁芯与所述上铁芯相对一侧面;其中,所述上匀场环所产生磁场的方向与所述上部超导线圈所产生磁场的方向相同,所述下匀场环所产生磁场的方向与所述下部超导线圈所产生磁场的方向相同。本技术磁共振成像系统的进一步改进在于,所述上铁芯中空设置以构成第一中空腔体,所述下铁芯中空设置以构成第二中空腔体。本技术磁共振成像系统的进一步改进在于,所述磁共振成像系统还包括填充于所述第一中空腔体的第一永磁体,及填充于所述第二中空腔体的第二永磁体;其中,所述第一永磁体所产生磁场的方向与所述上部超导线圈所产生磁场的方向相反,所述第二永磁体所产生磁场的方向与所述下部超导线圈所产生磁场的方向相反。本技术磁共振成像系统的进一步改进在于,所述上铁芯和所述下铁芯均为楔形结构,其中,在所述上铁芯朝向所述下铁芯的方向,所述上铁芯具有减小的尺寸;在所述下铁芯朝向所述上铁芯的方向,所述下铁芯具有减小的尺寸。本技术磁共振成像系统的进一步改进在于,所述磁共振成像系统还包括设置于所述C型机架上轭的上低温容器、以及设置于所述C型机架下轭的下低温容器;其中,所述上部超导线圈位于所述上低温容器内,所述下部超导线圈位于所述下低温容器内。本技术磁共振成像系统的进一步改进在于,所述磁共振成像系统还包括位于所述成像区域的扫描床。本技术磁共振成像系统的进一步改进在于,所述扫描床为三维可移动的扫描床。与现有技术相比较,本技术设计了一种开放式的磁共振成像系统,利用C型机架形成开放空间,并在C型机架的上下两端通过超导线圈中设置有铁芯形成磁路,有效的解决了开放性低的缺点,并且通过结构的优化提高磁场强度,以使磁共振成像系统实现高场强、高开放度的目的。附图说明图1为本技术磁共振成像系统一实施例的剖面示意图;图2为本技术磁共振成像系统又一实施例的剖面示意图;图3为本技术磁共振成像系统又一实施例的剖面示意图;图4为本技术磁共振成像系统中铁芯无中空所形成的等高线图;图5为本技术磁共振成像系统中铁芯中空所形成的等高线图;图6为本技术磁共振成像系统中铁芯中切入永磁体所形成的等高线图;图7为本技术磁共振成像系统一使用状态的结构示意图;图8为本技术磁共振成像系统又一使用状态的结构示意图;图9为本技术磁共振成像系统又一使用状态的结构示意图。具体实施方式以下将结合附图所示的具体实施方式对本技术进行详细描述。但这些实施方式并不限制本技术,本领域的普通技术人员根据这些实施方式所做出的结构、方法、或功能上的变换均包含在本技术的保护范围内。在本技术使用的术语是仅仅出于描述特定实施例的目的,而非旨在限制本技术。在本技术和所附权利要求书中所使用的单数形式的“一种”、“所述”和“该”也旨在包括多数形式,除非上下文清楚地表示其他含义。还应当理解,本文中使用的术语“和/或”是指并包含一个或多个相关联的列出项目的任何或所有可能组合。如图1所示,图1为本技术磁共振成像系统一实施例的剖面示意图。本技术的磁共振系统采用的是C型结构的机架,形成一个半开放式的检测空间,并且通过结构的优化可以提高磁场强度,从而可以缓解被检者的紧张情绪,并且可以满足检测要求。本技术的磁共振成像系统100包括:C型机架10,设置于C型机架10上轭的上铁芯11,设置于C型机架10下轭的下铁芯21,环绕于上铁芯11周侧的上部超导线圈12,以及环绕于下铁芯21周侧的下部超导线圈22。其中,配置有上部超导线圈12的上铁芯11与配置有下部超导线圈22的下铁芯21相对设置,以使上铁芯11与下铁芯21之间形成了供被检者检测的成像区域。上铁芯11配置上部超导线圈12与下铁芯21配合下部超导线圈22可以产生较强的磁场强度,满足磁共振成像系统100的要求。本技术中的C型机架10具有足够的容置空间,并且C型机架10两侧为开放,以使该磁共振成像系统100形成一个开放式结构。进一步的,磁共振成像系统100还包括相对设置的上匀场环13和下匀场环23,该上匀场环13位于上铁芯11与下铁芯21相对一侧面,下匀场环23位于下铁芯21与上铁芯11相对一侧面。具体的,该上匀场环13位于上铁芯11与下铁芯21相对一侧面靠近边缘的位置,下匀场环23位于下铁芯21与上铁芯11相对一侧面靠近边缘的位置。其中,该上匀场环13和下匀场环23采用永磁材料制成,上匀场环13所产生磁场的方向与上部超导线圈12所产生磁场的方向相同,下匀场环23所产生磁场的方向与下部超导线圈22所产生磁场的方向相同。在本技术的实施例中,该上匀场环13和下匀场环23起到调节磁场均匀度的作用。如图2所示,在本技术的一可选实施例中,上铁芯11中空设置以构成第一中空腔体,下铁芯21中空设置以构成第二中空腔体。通过在上铁芯11和下铁芯21上中空设置,可以进一步起到匀场作用,即有效的使成型区域的中心部分磁场与边缘部分磁场达成一致,从而起到较好的匀场作用。如图3所示,在本技术的又一实施例中,磁共振成像系统100还包括填充于第一中空腔体的第一永磁体14,及填充于第二中空腔体的第二永磁体24。其中,第一永磁体14所产生磁场的方向与上部超导线圈12所产生磁场的方向相反,第二永磁体24所产生磁场的方向与下部超导线圈22所产生磁场的方向相反,如此设置以进一步的增加成像区域的匀场效果。如图4至图6所示,从图中可以看出增加上铁芯11和下铁芯21中空结构、或增加永磁体(永磁体的充磁方向与主磁场相反)本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种磁共振成像系统,其特征在于,包括:C型机架,设置于所述C型机架上轭的上铁芯,设置于所述C型机架下轭的下铁芯,环绕于所述上铁芯周侧的上部超导线圈,以及环绕于所述下铁芯周侧的下部超导线圈;其中,配置有所述上部超导线圈的所述上铁芯与配置有所述下部超导线圈的所述下铁芯相对设置,以使所述上铁芯与所述下铁芯之间形成了供被检者检测的成像区域。

【技术特征摘要】
1.一种磁共振成像系统,其特征在于,包括:C型机架,设置于所述C型机架上轭的上铁芯,设置于所述C型机架下轭的下铁芯,环绕于所述上铁芯周侧的上部超导线圈,以及环绕于所述下铁芯周侧的下部超导线圈;其中,配置有所述上部超导线圈的所述上铁芯与配置有所述下部超导线圈的所述下铁芯相对设置,以使所述上铁芯与所述下铁芯之间形成了供被检者检测的成像区域。2.根据权利要求1所述的磁共振成像系统,其特征在于,所述磁共振成像系统还包括相对设置的上匀场环和下匀场环,所述上匀场环位于所述上铁芯与所述下铁芯相对一侧面,所述下匀场环位于所述下铁芯与所述上铁芯相对一侧面;其中,所述上匀场环所产生磁场的方向与所述上部超导线圈所产生磁场的方向相同,所述下匀场环所产生磁场的方向与所述下部超导线圈所产生磁场的方向相同。3.根据权利要求1所述的磁共振成像系统,其特征在于,所述上铁芯中空设置以构成第一中空腔体,所述下铁芯中空设置以构成第二中空腔体。4.根据权利要求3所述的磁共振成像系统,其特征在于,所述磁...

【专利技术属性】
技术研发人员:朱妍徐志坚徐勤
申请(专利权)人:上海东软医疗科技有限公司沈阳东软医疗系统有限公司
类型:新型
国别省市:上海;31

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