一种氯甲基二甲基氯硅烷生产工艺制造技术

本发明专利技术涉及化工产品生产领域，尤其是氯甲基二甲基氯硅烷生产领域。氯甲基二甲基氯硅烷是一种重要的化工原料。目前在生产中有不同的生产工艺。本产品以三甲基氯硅烷和氯气(氯气过量)为原料，在紫外线光照下进行氯化反应。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及化工产品生产领域，尤其是氯甲基二甲基氯硅烷生产领域。
技术介绍
氯甲基二甲基氯硅烷是一种重要的化工原料。目前在生产中有不同的生产工艺。
技术实现思路
工艺流程简述如下：本产品以三甲基氯硅烷和氯气(氯气过量)为原料，在紫外线光照下进行氯化反应。具体为：将三甲基氯硅烷在蒸馏釜内加热，冷凝(冷凝方式为：第一级石墨冷凝器为25平方双节冷凝器，上节20平方通过循环水降温，下节5平方通过冷冻盐水降温，冷却后液体进入反应器，不凝气和反应尾气进入第二级通过冷冻盐水降温的15平方石墨冷凝器)后进入光氯化反应器，在反应器内进行光氯化反应，然后再经蒸馏塔回到蒸馏釜内，根据原料和产品的沸点不同，使反应生成的产品经过冷凝(产品冷凝采用一级30平方石墨冷凝器冷凝，冷凝剂为循环水，通过循环水降温)降到釜内，前馏分暂时储存在接收罐中，前馏分主要成分是三甲基氯硅烷，前馏分回蒸馏釜作为原料循环使用。氯甲基二甲基氯硅烷工艺反应方程式如下：三甲基氯硅烷转化率为95%，氯甲基二甲基氯硅烷产品得率为90.25%。可能发生的副反应方程式如下：

【技术保护点】
本专利技术涉及原料成分及配比。

【技术特征摘要】
1.本发明涉及原料成分及配比。2.本发明涉及工艺流程：本产品以三甲基氯硅烷和氯气(氯气过量)为原料，在紫外线光照下进行氯化反应；具体为：将三甲基氯硅烷在蒸馏釜内加热，冷凝(冷凝方式为：第一级石墨冷凝器为25平方双节冷凝器，上节20平方通过循环水降温，下节5平方通过冷冻盐水降温，冷却后液体进入反应器，不凝气和反应尾气进入第二级通过...

【专利技术属性】
技术研发人员：胡天忠，裴红霞，张晓磊，
申请(专利权)人：宁夏海诚电化信息科技有限公司，
类型：发明
国别省市：宁夏;64