一种二极管管芯总成酸洗装置及酸洗方法制造方法及图纸

本发明专利技术属于半导体二极管生产技术领域，具体是一种二极管管芯总成酸洗装置及酸洗方法。本发明专利技术的二极管管芯总成酸洗装置，通过在工作传送带上方设置腐蚀液喷管，钝化液喷和清洗液喷管的方式，可以使几个工作步骤在一条传送带上方完成，通过工作传送带和漂洗传送带之间设置的滑板，装有二极管管芯总成的工装自动滑到漂洗箱中进行漂洗，省去人工搬运。漂洗后的二极管管芯总成在集中到超声波清洗槽中，清洗更彻底。通过超声波清洗后，再放入到离心脱水装置中，对二极管管芯上的水分去除。最后再放入酒精清洗箱中，采用酒精清洗，待酒精挥发后，二极管管芯总成彻底清洗干净。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术属于半导体二极管生产
，具体是一种二极管管芯总成酸洗装置及酸洗方法。
技术介绍
半导体二极管，是电子线路中常用的电子零件，可应用于整流，检波，限幅等电路中。半导体二极管生产过程中，半导体二极管的管芯是由晶圆制成，通常一片晶圆上会有很多二极管单元。通过对晶圆进行切割，可以得到二极管管芯，再把二极管的管芯按一定形式封装即可以得到电子线路中所使用的二极管。在进行封装时，需要把引脚通过锡焊的形式，焊接到管芯的两出线端。将管芯与引脚焊接好以后，得到半导体二极管管芯总成。在半导体二极管管芯焊接引脚的时候，需要使用到助焊剂，导致所焊接出来的半导体二极管管芯总成含有一定的污染杂质。如果不进行清洗就进入塑料封装环节，管芯总成上的污染杂质会影响到半导体二极管P-N结的电性能。目前在工业生产上，对半导体二极管管芯总成进行酸洗，都是在采用在酸洗设备中进行，但目前常用的酸冼设备整机设置比较分散，设备集中度不高，导致酸洗设备点用很大的厂房面积，一方面对厂房是一种浪费，另一方面整体酸洗的工作效率也不高。
技术实现思路
本专利技术针对上述不足，提供了一种二极管管芯总成酸洗装置。一种二极管管芯总成酸洗装置，包括机架，机架上设置工作传送带，工作传送带进料端侧面设置进料板，工作传送带进料端设置与工作传送带正对的推料气缸，推料气缸的缸杆自由端设置推料块，工作传送带下方沿送料方向依次设置腐蚀液收集箱、钝化液收集箱，清洗液收集箱，工作传送带上方设置腐蚀液喷管与所述腐蚀液收集箱正对，工作传送带上方设置钝化液喷管与所述钝化液收集箱正对，工作传送带上方设置清洗液喷管与所述清洗液收集箱正对，所述腐蚀液喷管、钝化液喷管、清洗液喷管之间通过隔料板分隔；工作传送带出料端外设置漂洗箱，所述漂洗箱内倾斜设置漂洗传送带，漂洗传送带出料端高于水面，漂洗传送带进料端低于水面，漂洗传送带进料端与工作传送带出料端之间固定倾斜设置滑板，漂洗箱一侧壁设置进水口，底面远离进水口位置设置排水口；漂洗传送带出料端外侧设置超声波清洗槽，超声波清洗槽底部设置超声波发生器；超声波清洗槽后端设置离心脱水装置，离心脱水装置后端设置酒精清洗箱。进一步地，离心脱水装置包括设置于外部的离心壳体，所述离心壳体为顶部开放的中空圆筒，离心壳体内部设置离心转子，离心转子中轴位置设置中心固定架，所述离心转子内部圆壁设置转子卡槽，所述转子卡槽与中心固定架外圆壁上设置的中心卡槽相配对。进一步地，清洗液储存箱通过清洗液进料管与清洗液喷管连接，收集箱顶部设置钝化液储存箱，所述钝化液储存箱通过钝化液进料管与钝化液喷管连接，收集箱顶部设置腐蚀液储存箱，所述腐蚀液储存箱通过腐蚀液进料管与腐蚀液喷管相连接。进一步地，收集罩顶部设置抽风管。进一步地，工作传送带中，靠近腐蚀液喷管的侧边高于对面侧边。进一步地，腐蚀液收集箱底部设置腐蚀液排料口，钝化液收集箱底部设置钝化液排料口，清洗液收集箱底部设计清洗液排料口。本专利技术还提供了一种半导体二极管管芯总成酸洗装置的酸洗方法，包括以下步骤：S1，将二极管管芯总成装入工装，送入腐蚀液喷管下方，腐蚀液喷管喷洒腐蚀液，所采用腐蚀液为硝酸、氢氟酸、乙酸、硫酸按体积比8：8：13：4混合而成，其中所使用的硝酸浓度为69％，所使用的氢氟酸浓度为40％，所使用的乙酸浓度为98％，所使用的硫酸浓度为98.3％，腐蚀液温度为15度，腐蚀液喷管喷洒腐蚀液，腐蚀液喷洒时间120秒；S2，工装带二极管管芯总成送入钝化液喷管下方，所采用钝化液为磷酸、双氧水、去离子水按体积比1：1：4混合而成，所使用磷酸浓度为80％，所使用双氧水浓度为30％，钝化液喷管喷洒钝化液，所使用钝化液温度为70度，钝化液喷洒时间为55秒；S3，工装带二极管管芯总成送入清洗液喷管下方，所采用清洗液为氨水、双氧水、去离子水按体积比1：1：18混合而成，所使用的氨水浓度为15％，所使用双氧水浓度为30％，清洗液喷管喷洒清洗液，所使用清洗液温度为18度，清洗液喷洒时间为135秒；S4，工装带二极管管芯总成送入漂洗箱，所采用的漂洗液为去离子水，漂洗采用浸泡方式进行，所使用漂洗液采用循环更新方式；S5，将漂洗后的二极管管芯总成进行超声波清洗，超声波清洗采用的清洗剂为去离子不；S6，将超声波清洗后的二极管管芯总成采用离心脱水装置去除水分；S7，将去水后的二极管管芯采用酒精清洗，酒精清洗所使用的酒精纯度大于98％；S8，将酒精清洗后的二极管管芯总成在无尘室内风干去除酒精。本专利技术的二极管管芯总成酸洗装置，通过在工作传送带上方设置腐蚀液喷管，钝化液喷和清洗液喷管的方式，可以使几个工作步骤在一条传送带上方完成，可以有效减少各个工序之间的物料搬运时间。在用漂洗环节，通过工作传送带和漂洗传送带之间设置的滑板，装有二极管管芯总成的工装自动滑到漂洗箱中进行漂洗，可以省去人工搬运。漂洗后的二极管管芯总成在集中到超声波清洗槽中，开启超声波发生器，使得清洗更彻底。通过超声波清洗后，再放入到离心脱水装置中，对二极管管芯上的水分去除。最后再放入酒精清洗箱中，采用酒精清洗，一方面可以进一步去除杂质，另一方面也可以把二极管管芯总成上的水分稀释到酒精中，最出二极管管芯总成工装，待酒精挥发后，二极管管芯总成彻底清洗干净。附图说明图1为本专利技术主视示意图。图2为本专利技术俯视示意图。图3为本专利技术的腐蚀喷液管喷洒状态图。附图中：1-超声波清洗槽，2-进水口，3-漂洗传送带，4-滑板，5-清洗液储存箱，6-清洗液喷管，7-钝化液储存箱，8-钝化液喷管，9-腐蚀液储存箱，10-腐蚀液喷管，11-收集罩，12-工作传送带，13-推料块，14-推料气缸，15-机架，16-腐蚀液收集箱，17-腐蚀液排料口，18-钝化液收集箱，19-钝化液排料口，20-清洗液收集箱，21-清洗液排料口，22-排水口，23-漂洗箱，24-超声波发生器，25-离心脱水装置，25a-离心壳体，25b-离心转子，25c-中心固定架，25d-中心止槽，25e-转子卡槽,26-酒精清洗箱，27-隔料板，28-清洗液进料管，29-钝化液进料管，30-腐蚀液进料管，31-进料板，32-抽风管，33-工装。具体实施方式结合图1-3，一种二极管管芯总成酸洗装置，包括机架15，机架15上设置工作传送带12，工作传送带12进料端侧面设置进料板31，工作传送带12进料端设置与工作传送带12正对的推料气缸14，推料气缸14的缸杆自由端设置推料块13，工作传送带12下方沿送料方向依次设置腐蚀液收集箱16、钝化液收集箱18，清洗液收集箱20，工作传送带12上方设置腐蚀液喷管10与所述腐蚀液收集箱16正对，工作传送带12上方设置钝化液喷管8与所述钝化液收集箱18正对，工作传送带12上方设置清洗液喷管6与所述清洗液收集箱20正对，所述腐蚀液喷管10、钝化液喷管8、清洗液喷管6之间通过隔料板27分隔；工作传送带12出料端外设置漂洗箱23，所述漂洗箱23内倾斜设置漂洗传送带3，漂洗传送带3出料端高于水面，漂洗传送带3进料端低于水面，漂洗传送带3进料端与工作传送带12出料端之间固定倾斜设置滑板4，漂洗箱23一侧壁设置进水口2，底面远离进水口2位置设置排水口22；漂洗传送带3出料端外侧设置超声波清洗槽1，超声波清洗槽1底部设置超声波发生器24；超本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种二极管管芯总成酸洗装置，其特征是，包括机架(15)，机架(15)上设置工作传送带(12)，工作传送带(12)进料端侧面设置进料板(31)，工作传送带(12)进料端设置与工作传送带(12)正对的推料气缸(14)，推料气缸(14)的缸杆自由端设置推料块(13)，工作送料带下方沿送料方向依次设置腐蚀液收集箱(16)、钝化液收集箱(18)，清洗液收集箱(20)，工作传送带(12)上方设置腐蚀液喷管(10)与所述腐蚀液收集箱(16)正对，工作传送带(12)上方设置钝化液喷管(8)与所述钝化液收集箱(18)正对，工作传送带(12)上方设置清洗液喷管(6)与所述清洗液收集箱(20)正对，所述腐蚀液喷管(10)、钝化液喷管(8)、清洗液喷管(6)之间通过隔料板(27)分隔；工作传送带(12)出料端外设置漂洗箱(23)，所述漂洗箱(23)内倾斜设置漂洗传送带(3)，漂洗传送带(3)出料端高于水面，漂洗传送带(3)进料端低于水面，漂洗传送带(3)进料端与工作传送带(12)出料端之间固定倾斜设置滑板(4)，漂洗箱(23)一侧壁设置进水口(2)，底面远离进水口(2)位置设置排水口(22)；漂洗传送带(3)出料端外侧设置超声波清洗槽(1)，超声波清洗槽(1)底部设置超声波发生器(24)；超声波清洗槽(1)后端设置离心脱水装置(25)，离心脱水装置(25)后端设置酒精清洗箱(26)。...

【技术特征摘要】
1.一种二极管管芯总成酸洗装置，其特征是，包括机架(15)，机架(15)上设置工作传送带(12)，工作传送带(12)进料端侧面设置进料板(31)，工作传送带(12)进料端设置与工作传送带(12)正对的推料气缸(14)，推料气缸(14)的缸杆自由端设置推料块(13)，工作送料带下方沿送料方向依次设置腐蚀液收集箱(16)、钝化液收集箱(18)，清洗液收集箱(20)，工作传送带(12)上方设置腐蚀液喷管(10)与所述腐蚀液收集箱(16)正对，工作传送带(12)上方设置钝化液喷管(8)与所述钝化液收集箱(18)正对，工作传送带(12)上方设置清洗液喷管(6)与所述清洗液收集箱(20)正对，所述腐蚀液喷管(10)、钝化液喷管(8)、清洗液喷管(6)之间通过隔料板(27)分隔；工作传送带(12)出料端外设置漂洗箱(23)，所述漂洗箱(23)内倾斜设置漂洗传送带(3)，漂洗传送带(3)出料端高于水面，漂洗传送带(3)进料端低于水面，漂洗传送带(3)进料端与工作传送带(12)出料端之间固定倾斜设置滑板(4)，漂洗箱(23)一侧壁设置进水口(2)，底面远离进水口(2)位置设置排水口(22)；漂洗传送带(3)出料端外侧设置超声波清洗槽(1)，超声波清洗槽(1)底部设置超声波发生器(24)；超声波清洗槽(1)后端设置离心脱水装置(25)，离心脱水装置(25)后端设置酒精清洗箱(26)。2.根据权利要求1所述的半导体二极管管芯总成酸洗装置，其特征是，所述离心脱水装置(25)包括设置于外部的离心壳体(25a)，所述离心壳体(25a)为顶部开放的中空圆筒，离心壳体(25a)内部设置离心转子(25b)，离心转子(25b)中轴位置设置中心固定架(25c)，所述离心转子(25b)内部圆壁设置转子卡槽(25e)，所述转子卡槽(25e)与中心固定架(25c)外圆壁上设置的中心卡槽(25d)相配对。3.根据权利要求1所述的二极管管芯总成酸洗装置，其特征是，收集箱顶部设置清洗液储存箱(5)，所述清洗液储存箱(5)通过清洗液进料管(28)与清洗液喷管(6)连接，收集箱顶部设置钝化液储存箱(7)，所述钝化液储存箱(7)通过钝化液进料管(29)与钝化液喷管(8)连接，收集箱顶部设置...

【专利技术属性】
技术研发人员：欧金荣，李平生，
申请(专利权)人：广安市嘉乐电子科技有限公司，
类型：发明
国别省市：四川;51