循环供液桶制造技术

本发明专利技术涉及湿法刻蚀、清洗工艺技术领域，尤其涉及一种循环供液桶，用于向湿法刻蚀、清洗设备提供化学液，并将湿法刻蚀、清洗设备的工艺处理腔中的化学液回收，所述循环供液桶包括：桶体，用于盛装化学液，所述桶体的底部设有出液口，所述出液口通过管道与供液泵相连通，所述桶体内的化学液进入所述供液泵；桶盖，所述桶盖设置在所述桶体上端，所述桶盖上设有回收液进口；桶体支架，用于支撑所述桶体。本发明专利技术实施例所提供的循环供液桶，在向湿法刻蚀、清洗设备的工艺处理腔提供化学液的同时，将工艺处理腔中的化学液通过桶盖上的回收液进口回收至桶体内，再通过桶体底部的出液口进入供液泵，实现化学液的循环利用。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及湿法刻蚀、清洗工艺
，尤其涉及一种循环供液桶。
技术介绍
在半导体、集成电路及LED芯片制造领域湿法刻蚀、清洗工艺中化学液出于成本考虑通常需要循环使用，即化学液会回收回来通过过滤等处理后反复使用，到一定时间后才会更换。而现有用于清洗设备的化学液桶基本只具有供液作用，没有考虑设计用于化学液回收，具有循环使用的功能。这就需要一种可以满足循环使用要求，且可以耐受包括强酸、强碱、有机溶剂等多种化学品的供液桶。
技术实现思路
本专利技术实施例的目的在于提供一种可与湿法刻蚀、清洗设备上配套使用的循环供液桶，实现强酸、强碱、有机溶剂等多种化学液的循环使用。为了达到上述目的，本专利技术实施例采用的技术方案如下：一种循环供液桶，用于向湿法刻蚀、清洗设备提供化学液，并将湿法刻蚀、清洗设备的工艺处理腔中的化学液回收，所述循环供液桶包括：桶体，用于盛装化学液，所述桶体的底部设有出液口，所述出液口通过管道与供液泵相连通，所述桶体内的化学液进入所述供液泵，所述化学液通过所述供液泵喷洒至湿法刻蚀、清洗设备的工艺处理腔内的基片表面；桶盖，所述桶盖设置在所述桶体上端，所述桶盖上设有回收液进口，所述回收液进口通过管路与所述湿法刻蚀、清洗设备的工艺处理腔内的化学液收集口相连；桶体支架，用于支撑所述桶体。进一步地，所述桶体底部为凹形，所述出液口设置在所述凹形的最低点。进一步地，所述桶体侧壁上部设有排液口，当所述桶体内的化学液液位过高时，用于将过量化学液排出所述桶体外。进一步地，所述循环供液桶包括液位传感器，用于监测所述桶体内化学液的液位，并将液位信号传输至所述湿法刻蚀、清洗设备的控制部分；所述桶盖上设有自动补液进口，所述自动补液进口与补液泵连接，所述湿法刻蚀、清洗设备的控制部分根据所述液位信号控制所述补液泵通过所述自动补液进口向所述桶体供液或停止向所述桶体供液。进一步地，所述桶盖上设有补液口，用于向所述桶体内手动补充化学液。进一步地，所述循环供液桶包括温度传感器，用于监控所述桶体内化学液的温度。进一步地，所述桶盖上设有清洗液进口，用于在需要清洗所述桶体时通入清洗液。进一步地，所述桶体的材质为聚四氟乙烯。进一步地，所述桶体支架的材质为pp板材。与现有技术相比，本专利技术的有益效果是：本专利技术实施例所提供的循环供液桶，与湿法刻蚀、清洗设备配合使用，在向湿法刻蚀、清洗设备提供化学液的同时，将湿法刻蚀、清洗设备的工艺处理腔中的化学液通过桶盖上的回收液进口回收至桶体内，再通过桶体底部的出液口进入供液泵，实现化学液的循环利用。附图说明图1为本专利技术实施例提供的循环供液泵的结构示意图；图2为本专利技术实施例提供的循环供液泵的剖面图。具体实施方式为了更好的理解上述技术方案，下面将结合说明书附图以及具体的实施方式对上述技术方案进行详细的说明。如图1和图2所示，本专利技术实施例公开了一种循环供液桶，用于向湿法刻蚀、清洗设备提供化学液，并将湿法刻蚀、清洗设备的工艺处理腔中的化学液回收再利用，所述循环供液桶包括：桶体1、桶盖2和桶体支架3。桶体1用于盛装化学液，所述桶体1的底部设有出液口4，所述出液口4通过管道与供液泵相连通，所述桶体1内的化学液进入所述供液泵，化学液通过所述供液泵喷洒向湿法刻蚀、清洗设备的工艺处理腔中放置的圆盘状基片表面；所述桶盖2设置在所述桶体1上端，所述桶盖2上设有回收液进口5，所述回收液进口5与湿法刻蚀、清洗设备的工艺处理腔的化学液收集口相连；桶体支架3用于支撑所述桶体1。本实施例中，所述桶体1底部为凹形，便于桶体底部的化学液排出；所述出液口4设置在所述凹形的最低点。本实施例中，所述桶体1侧壁上部设有排液口6，当所述桶体1内的化学液液位过高时，用于将过量化学液排出所述桶体1外。本实施例中，所述循环供液桶包括液位传感器7，用于监测所述桶体1内化学液的液位，并将液位信号传输至所述湿法刻蚀、清洗设备的控制部分；所述桶盖2上设有自动补液进口8，所述自动补液进口8与补液泵连接，所述湿法刻蚀、清洗设备的控制部分根据所述液位信号控制所述补液泵通过所述自动补液进口8向所述桶体1供液或停止向所述桶体供液。具体地，当所述液位传感器7检测到化学液的液位过低，就会向所述湿法刻蚀、清洗设备的控制部分发出补液信号，所述湿法刻蚀、清洗设备的控制部分就会控制补液泵向所述桶体1内自动补液；当所述液位到达设定要求是，所述液位传感器7也可以向所述湿法刻蚀、清洗设备的控制部分发出信号，然后所述湿法刻蚀、清洗设备的控制部分静止补液泵停止向所述桶体1供液。在本实施例中，所述补液泵可以为所述供液泵。本实施例中，所述桶盖2上设有补液口9，当液位传感器7检测到化学液的液位过低时，会发出报警信号，提醒工作人员及时向所述桶体1内手动补充化学液。本实施例中，所述循环供液桶包括温度传感器10，用于监控所述桶体1内化学液的温度，当化学液温度不符合工艺要求时可以提供报警信号。本实施例中，所述桶盖2上设有清洗液进口11，用于在需要清洗所述桶体1时通入清洗液。本实施例中，所述桶体1的材质为聚四氟乙烯，采用聚四氟乙烯板材可以耐受多种化学品并可以耐受较高温度。桶体1的容量可以根据需要进行设计。本实施例中，所述桶体支架3的材质为pp板材，具有足够强度和一定的耐腐蚀性。本专利技术提供的循环供液桶可装在半导体、集成电路及LED芯片制造领域湿法刻蚀、清洗设备上配套使用。本专利技术提供的循环供液桶的桶体1中的化学液通过出液口4进入供液泵，供液泵泵出桶体1中化学液，流经湿法刻蚀、清洗设备中所配过滤器，去除化学液中的的颗粒状杂质，再进入加热器使化学液保持一定温度，然后化学液进入湿法刻蚀、清洗设备的工艺处理腔，对工艺处理腔中放置的圆盘状基片处理后，化学液再通过工艺处理腔中的化学液收集口，经过管路进入与本专利技术中的回收液进口5，进入本专利技术中的桶体1。本专利技术实施例具有如下优点：1、本专利技术实施例所提供的循环供液桶，与湿法刻蚀、清洗设备配合使用，将湿法刻蚀、清洗工艺中的化学液通过桶盖上的回收液进口回收至桶体内，在重力的作用下再通过桶体底部的出液口进入供液泵，使供液泵不会干运行，既保护了供液泵，又实现化学液的循环利用。2、本专利技术实施例中的液位传感器与机台的控制部分相连，可以通过自动补液进口向桶体内自动补液，一是节省了人力，二是及时补液可以保护供液泵，使供液泵不会干运行。<本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种循环供液桶，用于向湿法刻蚀、清洗设备提供化学液，并将湿法刻蚀、清洗设备的工艺处理腔中的化学液回收，其特征在于，所述循环供液桶包括：桶体，用于盛装化学液，所述桶体的底部设有出液口，所述出液口通过管道与供液泵相连通，所述桶体内的化学液进入所述供液泵，所述化学液通过所述供液泵喷洒至湿法刻蚀、清洗设备的工艺处理腔内的基片表面；桶盖，所述桶盖设置在所述桶体上端，所述桶盖上设有回收液进口，所述回收液进口通过管路与所述湿法刻蚀、清洗设备的工艺处理腔内的化学液收集口相连；桶体支架，用于支撑所述桶体。

【技术特征摘要】
1.一种循环供液桶，用于向湿法刻蚀、清洗设备提供化学液，并将湿法刻
蚀、清洗设备的工艺处理腔中的化学液回收，其特征在于，所述循环供液桶包
括：
桶体，用于盛装化学液，所述桶体的底部设有出液口，所述出液口通过管
道与供液泵相连通，所述桶体内的化学液进入所述供液泵，所述化学液通过所
述供液泵喷洒至湿法刻蚀、清洗设备的工艺处理腔内的基片表面；
桶盖，所述桶盖设置在所述桶体上端，所述桶盖上设有回收液进口，所述
回收液进口通过管路与所述湿法刻蚀、清洗设备的工艺处理腔内的化学液收集
口相连；
桶体支架，用于支撑所述桶体。
2.如权利要求1所述的循环供液泵，其特征在于，所述桶体底部为凹形，
所述出液口设置在所述凹形的最低点。
3.如权利要求1所述的循环供液泵，其特征在于，所述桶体侧壁上部设有
排液口，当所述桶体内的化学液液位过高时，用于将过量化学液排出所述桶体
外。
4.如权利要求1所述的循环供液泵，...

【专利技术属性】
技术研发人员：陈波，李楠，夏洋，
申请(专利权)人：中国科学院微电子研究所，
类型：发明
国别省市：北京;11