一种感光膜旋转涂布装置制造方法及图纸

本发明专利技术公开了一种感光膜旋转涂布装置，包括以真空吸附方式支撑基板的卡盘，设于基板上方的喷嘴以及固定在卡盘的底部用于驱动卡盘旋转的旋转轴，还包括设于基板外围，固定在卡盘上，用于阻断、集结没在基板上面涂布而脱离基板散开的感光膜的阻隔单元，所述阻隔单元的外围还设有壳体；阻隔单元包括水平部和侧壁部，侧壁部为面向基板呈凹状，面向壳体呈凸状的曲线结构，越往上越接近卡盘的中心，侧壁部的上端呈倒三角形。本发明专利技术所提供的感光膜旋转涂布装置可提高被旋转涂布的感光膜的可靠性。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术属于感光膜旋转涂布
，具体涉及一种能防止基板上的旋转涂布的感光膜被污染和提高涂布厚度的均匀性的感光膜旋转涂布装置。
技术介绍
一般来讲，有机发光器件的制造工序之一的光刻工序采用旋转涂布装置在有机发光器件面板的透明绝缘性基板上面涂布感光膜。旋转涂布装置上采用的涂布方式分为静态涂布方式和动态旋转涂布方式。上述静态涂布方式为，在旋转涂布装置的卡盘上真空吸附基板后，通过上述基板的表面上方的感光膜吐出用喷嘴吐出一定量的感光膜后，将上述基板高速旋转，以此在上述基板的表面整体上涂布感光膜。因此，上述静态涂布方式由于实质上只使用上述感光膜全体量中的一部分比如10～20％涂布在上述基板上，剩余的从上述基板脱离的感光膜作为废液处理，这样不仅浪费感光膜，而且还具有能产生大量的引发环境污染的感光膜的废液的缺点。相反，上述动态涂布方式是为改善上述静态涂布方式的方法，在旋转涂布装置的卡盘上将基板真空吸附后，将上述基板高速旋转的同时，通过上述基板的表面上方的感光膜吐出用喷嘴，吐出一定量的感光膜，以此在上述基板的表面整体上涂布感光膜。因此，上述动态涂布方式将上述感光膜的绝大部分实际地使用在上述基板的涂布上，而且将从上述基板脱离的只有一部分的感光膜作为废液处理。因此，上述动态涂布方式比起上述静态涂布方式，不仅能控制上述感光膜的浪费，以此减少原材料的使用，而且还能减少上述感光膜的废液量，控制环境污染。但是，采用上述动态涂布方式的旋转涂布装置上，配在上述卡盘的周围的阻隔单元的侧壁部的上端部由于成垂直的内侧面，因此，脱离到上述基板的外侧的感光膜撞在上述阻隔单元的侧壁部时，上述感光膜的一部分会以微粒子的形式落到上述基板的涂布的感光膜上面，污染上述基板上面已涂布的感光膜。而且，上述卡盘上面基板的表面由于比上述阻隔单元的水平部的表面高，两者之间存在高度之差，因此，在上述基板旋转时，有可能产生涡流在上述基板周围，会恶化上述感光膜的涂布厚度的均匀性。
技术实现思路
本专利技术的目的是解决上述问题，提供一种可提高被旋转涂布的感光膜的可靠性的感光膜旋转涂布装置。为解决上述技术问题，本专利技术的技术方案是：一种感光膜旋转涂布装置，包括以真空吸附方式支撑基板的卡盘，设于基板上方的喷嘴以及固定在卡盘的底部用于驱动卡盘旋转的旋转轴，还包括设于基板外围，固定在卡盘上，用于阻断、集结没在基板上面涂布而脱离基板散开的感光膜的阻隔单元，所述阻隔单元的外围还设有壳体；阻隔单元包括水平部和侧壁部，侧壁部为面向基板呈凹状，面向壳体呈凸状的曲线结构，越往上越接近卡盘的中心，侧壁部的上端呈倒三角形。优选地，所述水平部和侧壁部之间设有至少一个感光膜排出口。优选地，所述水平部与基板表面高度相同。本专利技术的有益效果是：本专利技术所提供的感光膜旋转涂布装置，侧壁部的上端防止没在基板上面涂成而脱离的感光膜撞在侧壁部以微细粒子的形态弹到涂布在基板上的感光膜的位置上，以此防止涂布在基板上的感光膜不被上述粒子污染；而且，由于水平部与基板表面高度相同，因此在基板旋转的时候发生的涡流最小化，最后达到提高上述基板上面涂布的感光膜的涂布厚度均匀性的效果。因此，本专利技术可提高被旋转涂布的感光膜的可靠性。附图说明图1是本专利技术中感光膜旋转涂布装置的结构示意图。具体实施方式下面结合附图和具体实施例对本专利技术做进一步的说明：如图1所示，本专利技术的感光膜旋转涂布装置，包括基板1、卡盘11、旋转轴13、阻隔单元25、壳体17和喷嘴19，卡盘11以真空吸附方式固定用于涂布感光膜的基板1，旋转轴13固定在卡盘11的底部，在动力机构的作用下水平旋转，从而卡盘11和基板1也随之水平旋转，阻隔单元25用于阻碍从基板1脱离散开的感光膜，以此防止阻隔单元25外侧的各部位被感光膜污染。阻隔单元25的水平部25a设于基板1外围，与基板1保持一定的距离，侧壁部25b为面向基板呈凹状，面向壳体呈凸状的曲线结构，越往上越接近卡盘11的中心，侧壁部25b的上端25c呈倒三角形，水平部25a的上表面与基板1的上表面高度相同，水平部25a和侧壁部25b之间设有至少一个感光膜排出口25d，在本实施例中，感光膜排出口25d的数量为四，均匀间隔分布。在图1中，阻隔单元25看起来与卡盘11完全分离，但实际上，阻隔单元25的水平部25a与卡盘11的上侧部分离的同时，与卡盘11的下侧部相连。壳体17设于卡盘11和阻隔单元25的外围，将卡盘11和阻隔单元25包围，壳体17上部为开放口，壳体17用于阻断、集结越过阻隔单元25的感光膜。感光膜吐出用喷嘴19设于基板1的表面中心处的正上方，在卡盘11上面水平放置基板1，比如用于有机发光器件的透明绝缘性基板等后，将基板1用真空吸附方式固定住。然后，动力机构高速旋转旋转轴13的同时，基板1也高速旋转，通过喷嘴19将一定量的感光膜吐出到基板1的中心处。此时，虽然上述感光膜的大部分涂布在基板1的表面上，但剩下的一部分感光膜会脱离基板1，撞在阻隔单元25的侧壁部25b的内侧面散开，从侧壁部25b弹出来的感光膜呈微粒子形态，由于侧壁部25b的上端25c呈倒三角形，可把感光膜的微粒子降落到水平部25a上，由此防止基板1上面涂布的感光膜不被上述感光膜的微粒子所污染。又由于水平部25a的表面高度与基板1的表面高度位置相同，因此可最小化水平部25a和基板1之间的高度差异。因此，当基板1旋转时产生的涡流也可进行最小化，提高感光膜的涂布厚度均匀性。因此，本专利技术可提高被旋转涂布的感光膜的可靠性。另外，集结在阻隔单元25的水平部25a及侧壁部25b上的感光膜在离心力的作用下最终通过感光膜排出口25d储藏到感光膜废液储藏库里。本领域的普通技术人员将会意识到，这里所述的实施例是为了帮助读者理解本专利技术的原理，应被理解为本专利技术的保护范围并不局限于这样的特别陈述和实施例。本领域的普通技术人员可以根据本专利技术公开的这些技术启示做出各种不脱离本专利技术实质的其它各种具体变形和组合，这些变形和组合仍然在本专利技术的保护范围内。本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种感光膜旋转涂布装置，包括以真空吸附方式支撑基板的卡盘，设于基板上方的喷嘴以及固定在卡盘的底部用于驱动卡盘旋转的旋转轴，其特征在于：还包括设于基板外围，固定在卡盘上，用于阻断、集结没在基板上面涂布而脱离基板散开的感光膜的阻隔单元，所述阻隔单元的外围还设有壳体；阻隔单元包括水平部和侧壁部，侧壁部为面向基板呈凹状，面向壳体呈凸状的曲线结构，越往上越接近卡盘的中心，侧壁部的上端呈倒三角形。

【技术特征摘要】
1.一种感光膜旋转涂布装置，包括以真空吸附方式支撑基板的卡盘，设于基板上方的喷嘴以及固定在卡盘的底部用于驱动卡盘旋转的旋转轴，其特征在于：还包括设于基板外围，固定在卡盘上，用于阻断、集结没在基板上面涂布而脱离基板散开的感光膜的阻隔单元，所述阻隔单元的外围还设有壳体；阻隔单元包括水平部和侧壁部...

【专利技术属性】
技术研发人员：任海，
申请(专利权)人：四川虹视显示技术有限公司，
类型：发明
国别省市：四川;51