用于液晶显示器制造工艺的包含伯烷烃醇胺的光刻胶剥离组合物制造技术

本发明专利技术公开了一种用于液晶显示器(LCD)制造工艺的光刻胶剥离组合物，其用作所有薄膜晶体管-液晶显示器(TFT-LCD)制造工艺中通用的光刻胶剥离组合物。所述光刻胶剥离组合物包含：(a)1-20重量％的伯烷烃醇胺；(b)10-60重量％的醇；(c)0.1-50重量％的水；(d)5-50重量％的极性有机溶剂；以及(e)0.01-3重量％的阻蚀剂。所述剥离组合物具有在光刻工艺之后去除残留改性光刻胶的优良能力，适用于铝布线和铜布线，并用在有机膜形成工艺和正版标签(COA)工艺中。当所述剥离组合物用在由沸点为150℃或更高的醇和水组成的混合物中时，其防腐蚀能力提高并且预期寿命增加。

【技术实现步骤摘要】
本申请是2011年09月14日递交的申请号为201110271127.3，专利技术名称为“用于液晶显示器制造工艺的包含伯烷烃醇胺的光刻胶剥离组合物”的分案申请。
本专利技术涉及一种光刻胶剥离组合物(photoresiststrippingcomposition)，更具体地涉及一种可用在所有薄膜晶体管-液晶显示器(ThinFilmTransistor-LiquidCrystalDisplay，TFT-LCD)制造工艺的通用光刻胶剥离组合物。
技术介绍
平板显示器(FlatPanelDisplay，FPD)制造工艺中，光刻(photolithography)工艺广泛用于在基板上形成预定图案(pattern)。光刻工艺由一系列工艺组成，包括曝光工艺、干法或湿法蚀刻工艺(etchingprocess)和灰化工艺(ashingprocess)。在光刻工艺中，通过在基板上涂敷光刻胶(photoresist)，对光刻胶进行曝光，然后在基板上进行干法或湿法蚀刻工艺来形成图案。就这一点而言，使用光刻胶剥离剂去除残留在基板上的金属布线上的光刻胶。迄今为止，用于LCD制造工艺的光刻胶剥离剂组合物，大多是伯胺或仲胺和极性溶剂或二醇的无水有机混合物。一般而言，使用上述的光刻胶剥离剂去除蚀刻工艺后残留的光刻胶，然后用水清洗基板。在这种情况下，存在金属布线被腐蚀并且光刻胶再次附着到基板上产生杂质的问题。这是因为，如果烷烃醇胺与水混合，将产生对金属(包括铝)有很强腐蚀性的羟离子。为此，需要使用防止金属布线腐蚀的特定阻蚀剂。然而，常规阻蚀剂存在价格昂贵且性价比低的问题。特别是在最近几年中，在平板显示器面板(如LCD)的制造中，由于阻蚀剂的使用导致生产成本的增加是不可避免的。此外，在使用TFT-LCD铝布线膜(wiringfilm)的情况中，需要从布线膜上剥离改性(modified)光刻胶。如果将弱碱性胺用于该目的，不能完全剥离光刻胶，因为胺去除光刻胶的能力低。注册号为10-0950779的韩国专利公开了一种包含叔烷烃醇胺作为弱碱性烷烃醇胺的光刻胶剥离组合物。然而，该组合物存在不能完全去除改性光刻胶的问题。同时，如果使用通过水活化的强碱性烷烃醇胺，将不可避免地损害Al布线膜和Cu布线膜。为避免该问题，用于LCD制造工艺的常规有机光刻胶剥离溶液含有非常少量的阻蚀剂。然而，如果含有水的光刻胶剥离溶液用在TFT-LCD制造工艺中剥离光刻胶，剥离溶液中的水将随着时间的推移而挥发，从而剥离溶液中的含水量将发生变化，而且阻蚀剂的防腐蚀能力和剥离溶液的光刻胶剥离能力将发生迅速变化。为此，有很多有关用于LCD制造工艺的有机剥离组合物的报道，这些有机剥离组合物包含强碱性烷烃醇胺和阻蚀剂，但是很少发现用于LCD制造工艺的包含强碱性烷烃醇胺的水性光刻胶剥离组合物。因此，本专利技术人试图通过开发出相对稳定的、防腐蚀的光刻胶剥离组合物，以解决上述问题，所述组合物中包含含有巯基的唑基化合物作为阻蚀剂。
技术实现思路
技术问题本专利技术的目的是提供一种用于TFT-LCD制造工艺的水性光刻胶剥离组合物，包含含有巯基的唑基化合物作为阻蚀剂，其中，唑基化合物用于防止Cu和Al被腐蚀和稳定地维持组合物的光刻胶剥离能力，即使组合物的含水量发生变化也是如此。技术方案为达到以上目的，根据本专利技术的一个方面，提供了一种用于液晶显示器(LCD)制造工艺的光刻胶剥离组合物，该组合物包含：(a)1-20重量％的伯烷烃醇胺；(b)10-60重量％的醇；(c)0.1-50重量％的水；(d)5-50重量％的极性有机溶剂；以及(e)0.01-3重量％的阻蚀剂。根据本专利技术的一个实施例，提供了一种用于LCD制造工艺的光刻胶剥离组合物；其中，所述伯烷烃醇胺是选自单乙醇胺(monoethanolamine，MEA)、单异丙醇胺(monoisopropanolamine，MIPA)、2-氨基-2-甲基-1-丙醇(2-amino-2-methyl-1-propanol，AMP)、2-甲氨基乙醇(2-methylaminoethanol，2-MAE)和3-氨基丙醇胺(3-aminopropanolamine，3-APN)所组成的组中的一种或一种以上。根据本专利技术的另一实施例，提供了一种用于LCD制造工艺的光刻胶剥离组合物；其中，所述醇是选自乙二醇(ethyleneglycol，EG)、1-己醇、辛醇、1-庚醇、1-癸醇、2-庚醇和四氢糠醇(tetrahydrofurfurylalcohol，THFA)所组成的组中的一种或一种以上。根据本专利技术的另一实施例，提供了一种用于LCD制造工艺的光刻胶剥离组合物；其中，所述阻蚀剂是C5-C10杂环，该C5-C10杂环含有选自N、O和S所组成的组中的一个或多种杂原子，且该杂环的碳原子被巯基取代。根据本专利技术的再一实施例，提供了一种用于LCD制造工艺的光刻胶剥离组合物；其中，所述杂环是咪唑(imidazole)。根据本专利技术的另一实施例，提供了一种用于LCD制造工艺的光刻胶剥离组合物；其中，所述阻蚀剂是选自2-巯基苯并咪唑(2-mercaptobenzimidazole，MBI)、2,5-二巯基-1,3,4-噻二唑(2,5-dimercapto-1,3,4-thiadiazole,2,5-DTA)和2-巯基苯并噻唑(2-mercaptobenzothiazole，MBT)所组成的组中的一种或一种以上。根据本专利技术的另一实施例，提供了一种用于LCD制造工艺的光刻胶剥离组合物；其中，所述极性有机溶剂含有结构式为R-O(CH2CH2O)H的二醇，其中R是直链烃、支链烃和环烃中的任何一种。根据本专利技术的另一实施例，提供了一种用于LCD制造工艺的光刻胶剥离组合物；其中，所述极性有机溶剂是选自N-甲基吡咯烷酮(N-methylpyrollidone，NMP)、环丁砜、二甲基亚砜(dimethylsulfoxide，DMSO)、二甲基乙酰胺(dimethylacetamide，DMAC)和单甲基甲酰胺所组成的组中的一种或一种以上。根据本专利技术的另一方面，提供了一种用于LCD制造工艺的光刻胶剥离组合物，该组合物包含：(a)1-20重量％的伯烷烃醇胺；(b)10-60重量％的醇；以及(c)5-70重量％的极性有机溶剂。根据本专利技术的一个实施例，提供了一种用于LCD制造工艺的光刻胶剥离组合物；其中，所述伯烷烃醇胺是2-氨基-2-甲基-1-丙醇。根据本专利技术的另一实施例，提供了本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种用于液晶显示器(LCD)制造工艺的光刻胶剥离组合物，其特征在于，该组合物包含：(a)1‑20重量％的伯烷烃醇胺；(b)10‑60重量％的醇；(c)0.1‑50重量％的水；(d)5‑50重量％的极性有机溶剂；以及(e)0.01‑3重量％的阻蚀剂。

【技术特征摘要】
2010.12.02 KR 10-2010-01220011.一种用于液晶显示器(LCD)制造工艺的光刻胶剥离组合物，其特征在
于，该组合物包含：
(a)1-20重量％的伯烷烃醇胺；
(b)10-60重量％的醇；
(c)0.1-50重量％的水；
(d)5-50重量％的极性有机溶剂；以及
(e)0.01-3重量％的阻蚀剂。
2.根据权利要求1所述的光刻胶剥离组合物，其特征在于，所述伯烷烃醇
胺包括选自单乙醇胺、单异丙醇胺、2-氨基-2-甲基-1-丙醇、2-甲氨基乙醇和3-
氨基丙醇胺所组成的组中的至少一种。
3.根据权利要求1所述的光刻胶剥离组合物，其特征在于，所述醇包括选
自乙二醇、1-己醇、辛醇、1-庚醇、1-癸醇、2-庚醇和四氢糠醇所组成的组中的
至少一种。
4.根据权利要求1所述的光刻胶剥离组合物，其特征在于，所述阻蚀剂包
括C5-C10杂环，该C5-C10杂环含有选自N、O和S所组成的组中的至少一种杂
原子，且该杂环的碳原子被巯基取代。
5.根据权利要求4所述的光刻胶剥离组合物，其特征在于，所述杂环包括
咪唑。
6.根据权利要求1...

【专利技术属性】
技术研发人员：崔好星，全汶教，裵钟一，李钟淳，梁惠星，
申请(专利权)人：LTC有限公司，
类型：发明
国别省市：韩国;KR