按键结构制造技术

本发明专利技术揭露一种利用磁吸力作为回复力的按键结构，其于底座与键帽之间设置提供键帽支撑及作动机制的支架、及与该支架以磁吸力互动的另一支架。当键帽不受外力按压时，磁吸力驱使该两个支架稳定支撑于该底座上，形成稳定的支撑结构，使得键帽位于相对于底座较远的位置。当键帽受外力按压而朝向底座移动时，磁吸力被外力克服，使得两个支架分开，即前述稳定的支撑结构暂时性地被破坏。一旦外力消失，两个支架即可因磁吸力而再次形成稳定的支撑结构。藉此，本发明专利技术的按键结构避免使用传统的弹性构件，升降机构仍能获得相对大的设置空间，有助于升降机构的结构强度及作动稳定度。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术关于一种按键结构，尤指一种利用磁吸力作为回复力的按键结构。
技术介绍
传统按键结构利用于键帽下方设置的弹性构件(例如硅胶圆突)，提供键帽回复力以直接驱使键帽回到原位(即未被按压时的位置)。为能提供使用者足够的按压回馈手感(即使用者按压时感受的反作用力大小及其变化)，此弹性构件通常体积难以缩小，使得此种按键结构难以适用于薄形键盘中。此外，采用具有相当体积的弹性构件，亦会影响其他构件(例如用于提供键帽上下移动的升降机构)的结构强度及稳定度，此问题于薄形键盘中将更形严重。因此，除非减损或牺牲键帽作动的稳定性或按压回馈手感，否则此种按键结构实难以适用于薄形键盘中。
技术实现思路
鉴于先前技术中传统的硅胶圆突等弹性构件无法适应薄形键盘的问题，本专利技术提供一种按键结构，利用能与底座以磁吸力互动的支架，用于对键帽升降作动的支架提供磁吸力，以作为键帽的回复力，使得该按键结构无需如传统硅胶圆突所需的设置、作动空间，亦能提供使用者足够的按压回馈手感。根据本专利技术的按键结构包含键帽、底座、第一支架及第三支架。该第一支架设置于该键帽与该底座之间，该第一支架包含第一磁吸部，该键帽支撑于该第一支架并经由该第一支架以相对于该底座上下移动。该第三支架设置于该键帽与该底座之间并包含支撑部及第二磁吸部，该第三支架以该支撑部支撑于该底座上，该第二磁吸部位于该键帽与该第一磁吸部之间且与该第一磁吸部之间产生磁吸力。其中，当该键帽不受外力按压时，该磁吸力驱使该第一磁吸部与该第二磁吸部靠近，使得该第一支架及该第三支架稳定支撑于该底座上，以及当该键帽受外力按压而朝向该底座移动时，该第一支架朝向该底座旋转使得该第一磁吸部与该第二磁吸部相互远离。于其它实施例中，磁吸力的大小不必然仅能由相互作用的结构的尺寸大小决定，亦可由结构的材质而决定，故用于产生该磁吸力的结构可仅占用相对小的空间来设置及作动，此特性有助于避免过度影响该第一支架的结构强度及作动稳定度，故有助于实施在薄形按键结构中。又，磁吸力随着该二磁吸部间的距离增加而呈非线性的减少，此特性有助于提供使用者明显的回馈手感。又，磁吸力可轻易地通过改变第一磁吸部与第二磁吸部的材质而获得所需的大小，亦即能提供使用者足够的回馈力量。作为可选的技术方案，该第三支架包含延伸臂，该延伸臂位于该键帽与该第一支架之间，该第三支架以该支撑部可旋转地支撑于该底座上，当该键帽受该外力按压而朝向该底座移动时，该磁吸力驱使该延伸臂朝向该底座施力于该第一支架。作为可选的技术方案，该底座包含开关，该延伸臂具有触发部，该触发部朝向该开关突出，当该键帽受该外力按压而朝向该底座移动时，该触发部触发该开关。作为可选的技术方案，于该键帽受该外力按压而朝向该底座的移动中，该键帽自初始位置、经过触发位置移动至按压位置，当该键帽经过该触发位置时，该触发部触发该开关。作为可选的技术方案，该底座包含开关，该第一支架包含触发部，该触发部朝向该开关突出，当该键帽受该外力按压而朝向该底座移动时，该触发部触发该开关。作为可选的技术方案，该延伸臂保持接触该第一支架。作为可选的技术方案，该当该键帽不受外力按压时，该磁吸力驱使该第一磁吸部与该第二磁吸部靠近，使得该第一支架及该第三支架相接触并稳定支撑于该底座上。作为可选的技术方案，该底座包含底板，该底板的一部分向上突出形成该第三支架。作为可选的技术方案，还包含第二支架，该第二支架设置于该键帽与该底座之间，该键帽支撑于该第一支架及该第二支架上并经由该第一支架及该第二支架以相对于该底座上下移动。作为可选的技术方案，该第一支架及该第二支架枢接。作为可选的技术方案，该第一支架及该第二支架形成剪刀结构。因此，相较于先前技术，本专利技术提供的按键结构的升降机构的第一支架与第三支架通过第一磁吸部与第二磁吸部的相吸作用而呈现暂时性的固定连接结构，且第一支架与第三支架分别连接于底板，故可形成状态固定的结构，而稳定支撑于底座上。藉此，可避免使用传统的弹性构件获得相对大的设置空间，以适用于薄形的按键装置及其键盘；第一支架与第二支架藉由磁吸力形成的暂时性的固定连接结构，有助于升降机构的结构强度及作动稳定度。此外，根据本专利技术的按键结构能提供使用者足够的按压回馈手感(即使用者按压时感受的反作用力大小及其变化)，且适于薄形设计，故本专利技术能有效解决先前技术中目前薄形键盘设计面临的两难问题。关于本专利技术之优点与精神可以藉由以下的专利技术详述及所附图式得到进一步的了解。附图说明图1为根据本专利技术的一实施例的按键结构的示意图。图2为图1中按键结构的局部爆炸图。图3为图1中按键结构的爆炸图。图4为图1中按键结构于其键帽未受外力按压而位于初始位置时沿线X-X的剖视图。图5为图1中按键结构于其键帽受外力按压而移动至触发位置时沿线X-X的剖视图。图6为图1中按键结构于其键帽受外力按压而移动至按压位置时沿线X-X的剖视图。图7为根据本专利技术的另一实施例的按键结构的爆炸图。图8为图7中按键结构于其键帽未受外力按压时的剖视图。图9为图7中按键结构于其键帽受外力按压时的剖视图。图10为根据本专利技术的另一实施例的按键结构的爆炸图。图11为图10中按键结构于其键帽未受外力按压时的剖视图。图12为图10中按键结构于其键帽受外力按压时的剖视图。图13为根据一实施例的底板与第三支架组合的示意图。图14为根据本专利技术的另一实施例的按键结构于其键帽未受外力按压而位于初始位置时的剖视图。图15为图14中按键结构于其键帽受外力按压而移动至触发位置位置时的剖视图。图16为图14中按键结构于其键帽受外力按压而移动至按压位置位置时的剖视图。具体实施方式请参阅图1至图3。根据本专利技术的一实施例的一按键结构1包含键帽10、底座12、升降机构14及第三支架16。键帽10设置于底座12之上，升降机构14连接于键帽10与底座12之间，使得键帽10能经由升降机构14以相对于底座12上下移动。第三支架16设置于键帽10与底座12之间，第三支架16与升降机构14通过磁吸力互动以提供复位键帽10所需的驱动力。藉此，根据本专利技术的按键结构1无需使用传统的弹性构件(例如硅胶圆突)以提供键帽10所需的回复力，升降机构14仍能获得相对大的设置空间而能够适用于薄形的按键装置及其键盘，有助于升降机构14的结构强度及作动稳定度。进一步来说，底座12包本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种按键结构，其特征在于，该按键结构包含：键帽；底座；第一支架，其设置于该键帽与该底座之间，该第一支架包含第一磁吸部，该键帽支撑于该第一支架并经由该第一支架以相对于该底座上下移动；以及第三支架，其设置于该键帽与该底座之间并包含支撑部及第二磁吸部，该第三支架以该支撑部支撑于该底座上，该第二磁吸部位于该键帽与该第一磁吸部之间且与该第一磁吸部之间产生磁吸力；其中，当该键帽不受外力按压时，该磁吸力驱使该第一磁吸部与该第二磁吸部靠近，使得该第一支架及该第三支架稳定支撑于该底座上，以及当该键帽受外力按压而朝向该底座移动时，该第一支架朝向该底座旋转使得该第一磁吸部与该第二磁吸部相互远离。

【技术特征摘要】
1.一种按键结构，其特征在于，该按键结构包含：
键帽；
底座；
第一支架，其设置于该键帽与该底座之间，该第一支架包含第一磁吸部，
该键帽支撑于该第一支架并经由该第一支架以相对于该底座上下移动；以及
第三支架，其设置于该键帽与该底座之间并包含支撑部及第二磁吸部，该
第三支架以该支撑部支撑于该底座上，该第二磁吸部位于该键帽与该第一磁吸
部之间且与该第一磁吸部之间产生磁吸力；
其中，当该键帽不受外力按压时，该磁吸力驱使该第一磁吸部与该第二磁
吸部靠近，使得该第一支架及该第三支架稳定支撑于该底座上，以及当该键帽
受外力按压而朝向该底座移动时，该第一支架朝向该底座旋转使得该第一磁吸
部与该第二磁吸部相互远离。
2.如权利要求1所述的按键结构，其特征在于，该第三支架包含延伸臂，
该延伸臂位于该键帽与该第一支架之间，该第三支架以该支撑部可旋转地支撑
于该底座上，当该键帽受该外力按压而朝向该底座移动时，该磁吸力驱使该延
伸臂朝向该底座施力于该第一支架。
3.如权利要求2所述的按键结构，其特征在于，该底座包含开关，该延伸
臂具有触发部，该触发部朝向该开关突出，当该键帽受该外力按压而朝向该底
座移动时，该触发部触发该开关。
4.如权利要求3所述的按键结构，...

【专利技术属性】
技术研发人员：许建士，
申请(专利权)人：苏州达方电子有限公司，达方电子股份有限公司，
类型：发明
国别省市：江苏;32