半导体设备用波纹管密封性能检验工装制造技术

技术编号:14766411 阅读:106 留言:0更新日期:2017-03-08 10:51
半导体设备用波纹管密封性能检验工装,它主要包括上法兰盖板、双头螺柱、底部盲板及密封圈等。使用时,在波纹管的法兰孔位中分别穿入双头螺柱,用六角螺母固定使波纹管处于自然长度状态,避免了抽气时波纹管的负压收缩变形,对波纹管本身起到保护作用,再将密封圈安装在波纹管两端的法兰密封槽中,然后压在底部盲板上,再将上法兰盖板压在波纹管的上法兰上,最后在上法兰盖板的接口处连接检漏仪进行抽气检漏操作,记录检漏仪检测的波纹管的真空度结果,最后判定波纹管的密封性能是否合格。本工装适用于焊接圆形、椭圆形、三角形等任意形状法兰的波纹管,具有通用性。有效的提高了检漏的可靠性,减少了检漏时间,同时排除了波纹管存在漏点的可能性,从更深层意义上来说提高了设备的总产能。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种半导体设备用波纹管密封性能检验工装,此工装主要应用于波纹管密封性能检验的过程中,属于半导体薄膜设备的应用

技术介绍
半导体镀膜设备中常用波纹管来实现某些部件的升降功能,同时实现大气与真空环境的互换,所以必须保证波纹管的密封性能满足设备的要求。另外,在波纹管安装到设备之前,如果不进行密封性能的检测,增加了不确定因素可能会出现漏率不合格等现象,如此会增加设备检漏时间及零部件的更换装配时间。因而设计了此检验工装,减少了设备的检漏时间及更换零部件的时间,同时提高设备的可靠性能。
技术实现思路
本专利技术以解决上述问题为目的,设计了一种波纹管密封性能检验工装结构,有效的提高了检漏的可靠性,减少了检漏时间,同时排除了波纹管存在漏点的可能性。为实现上述目的,本专利技术采用下述技术方案:半导体设备用波纹管密封性能检验工装,包括:上法兰盖板。所述上法兰盖板通过设有六角螺母的双头螺柱与底部盲板固定连接;所述上法兰盖板及底部盲板两端的法兰密封槽与双头螺柱连接处分别装有密封圈;所述上法兰盖板与底部盲板同心,其上安装波纹管。使用时,在波纹管的法兰孔位中分别穿入三个双头螺柱,用六角螺母固定使波纹管处于自然长度状态,将密封圈安装在波纹管两端的法兰密封槽中,然后压在底部盲板上,再将上述法兰盖板压在波纹管的上法兰上,最后在上法兰盖板的接口处连接检漏仪进行抽气检漏操作。本专利技术的有益效果及特点在于:1、结构合理,通过螺母与双头螺柱保证了波纹管的自然长度,避免了抽气时波纹管的负压收缩变形,对波纹管本身起到保护作用;2、适用范围广泛,本设计不仅仅适用于焊接圆形法兰的波纹管,还适用于焊接椭圆形、三角形等任意形状法兰的波纹管,具有通用性;3、本设计结构小巧简单,拆卸方便,提高了波纹管的检漏效率。附图说明图1是本专利技术的结构示意图。图2是图1的A-A剖面视图。具体实施方式实施例参照图1和图2,半导体设备用波纹管密封性能检验工装,该工装包括:上法兰盖板1。所述上法兰盖板1通过设有六角螺母4的双头螺柱2与底部盲板5固定连接;所述上法兰盖板1及底部盲板5两端的法兰密封槽与双头螺柱2连接处分别装有密封圈6;所述上法兰盖板与底部盲板5同心,其上安装波纹管3;所述双头螺柱2至少设3个。使用前先对所有零部件进行擦拭或清洗,以确保密封效果。使用时,在波纹管3的法兰孔位中分别穿入三个双头螺柱2,用六角螺母4固定使波纹管3处于自然长度状态,避免了抽气时波纹管的负压收缩变形,对波纹管本身起到保护作用,再将密封圈6安装在波纹管3两端的法兰密封槽中,然后压在底部盲板5上,再将上法兰盖板1压在波纹管3的上法兰上,最后在上法兰盖板1的接口处连接检漏仪7进行抽气检漏操作,记录检漏仪检测的波纹管的真空度结果,最后判定波纹管的密封性能是否合格。本设计适用于焊接圆形、椭圆形、三角形等任意形状法兰的波纹管,具有通用性。此工装结构有效的提高了检漏的可靠性,减少了检漏时间,同时排除了波纹管存在漏点的可能性,从更深层意义上来说提高了设备的总产能。本文档来自技高网...
半导体设备用波纹管密封性能检验工装

【技术保护点】
半导体设备用波纹管密封性能检验工装,它包括上法兰盖板,其特征在于:所述上法兰盖板通过设有六角螺母的双头螺柱与底部盲板固定连接;所述上法兰盖板及底部盲板两端的法兰密封槽与双头螺柱连接处分别装有密封圈;所述上法兰盖板与底部盲板同心,其上安装波纹管。

【技术特征摘要】
1.半导体设备用波纹管密封性能检验工装,它包括上法兰盖板,其特征在于:所述上法兰盖板通过设有六角螺母的双头螺柱与底部盲板固定连接;所述上法兰盖板及底部盲板两端的法兰密封槽与双头螺柱连接处分别装有密封圈;所述上法兰盖板与底部盲板同心,其上安装波纹管。2.如权利要求1所述的半导体设备用波纹管密封性能检验工装,其特征在于:双头螺柱至少设3个。3.使用如权利要求1所述的半导体设备用波纹管密封性能检验工装的方法,其特征在于:...

【专利技术属性】
技术研发人员:方仕彩国建花吴凤丽廉杰杜广宇
申请(专利权)人:沈阳拓荆科技有限公司
类型:发明
国别省市:辽宁;21

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