一种提高过渡性保护区域尺寸精度的方法技术

本发明专利技术提供了一种提高过渡性保护区域尺寸精度的方法，包括步骤：清洗触控面板的内表面，直至该表面的水滴角小于20°；将过渡性保护光阻材料喷涂在触控面板内表面上；喷涂速度为50～200mm/s，喷涂负压为1～10kPa；经过软烤、曝光、硬烤工艺后进行显影，在触控面板表面的过渡性保护光阻材料形成覆盖被保护区域的图案；覆盖在被保护区域之上的过渡性保护光阻材料的膜厚为1～10μm；纵截面的上表面宽度大于底面宽度。本发明专利技术采用喷涂过渡性保护光阻材料层，再经过黄光制程(软烤、曝光、硬烤、显影)制备出的过渡性保护层偏移公差为±5μm，极大的提高了过渡性保护区域的尺寸精度。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及制备触控面板的
，特别地，涉及一种在触控面板表面镀绝缘性的折射率匹配层前，制作一层临时性保护层保护需通电区域时，提高过渡性保护区域尺寸精度的方法。
技术介绍
触控面板的表面的部分区域覆盖有金属线路，在触控面板产品的最后成品状态，该线路需要与软性线路板导通进行电连接以实现触控功能。但在触控面板的加工过程中，其余区域需要覆盖绝缘性的折射率匹配层。因此，在加工过程中，覆盖有金属线路的触控面板表面需要有临时性的、易去除的过渡保护层。在现有技术中，常采用贴覆高温胶带或印刷可剥胶作为过渡保护层，如中国专利CN103311132A公开的一种金属框多层线路基板先镀后蚀工艺方法，所述方法包括以下步骤：取金属基板；金属基板表面镀铜箔；贴光阻膜作业；金属基板背面去除部分光阻膜；电镀第一金属线路层；贴光阻膜作业；金属基板背面去除部分光阻膜；电镀第二金属线路层；去除光阻膜；贴压不导电胶膜作业；研磨不导电胶膜；不导电胶膜表面金属化预处理，直至电镀第五层金属线路层，均采用贴覆光阻膜的方法来保护相应的金属线路层。该种方法产生了诸多问题：1、光阻膜、高温胶带的贴覆或可剥胶层的印刷工艺的误差较高：高温胶带的材料公差常规都在±0.20mm，印刷可剥胶的溢胶公差也有±0.20mm，同时高温胶带贴覆工艺过程中又产生公差±0.20mm、可剥胶印刷偏移公差也有±0.20mm，故高温胶带的材料及贴覆累计公差达到了±0.40mm、印刷可剥胶溢胶及印刷偏移累计公差就达到了±0.40mm，此范围的公差偏移会让触控面板的金属线路有部分暴露在空气中的危险，使得金属线路氧化或被其他物质覆盖而导致触控面板功能有可能失效；2、采用贴覆高温胶带或印刷可剥胶工艺做为过渡保护层，在3D或异形产品上是没有工业制程可行性的。尤其是在小尺寸的产品上如手表触控面板上等，设计的过渡性保护层区域长宽一般分别只有10×1毫米，手工或是治具贴覆高温胶带、或是采用网版在3D或异形产品上印刷可剥胶都不具备量产可操作性；3、在撕除高温胶带或可剥胶时，高温胶带及可剥胶边缘会产生残胶，需要人工擦拭，清除残胶的同时也存在刮伤产品、影响产品性能及外观的风险，并且，人工擦拭清除作业同样不具备量产可能性。综上，现有技术中缺乏一种可工业量产的、过渡保护层的偏移公差尽可能小的过渡保护层产生和去除方法。
技术实现思路
本专利技术目的在于提供一种提高过渡性保护区域尺寸精度的方法，以解决现有贴覆胶带、印刷可剥胶方法的偏移公差过大和不能工业量产的技术问题。为实现上述目的，本专利技术提供了一种提高过渡性保护区域精度的方法，包括步骤：A、清洗：清洗触控面板的内表面，直至该表面的水滴角小于20°；B、喷涂过渡性保护光阻材料层：将过渡性保护光阻材料喷涂在触控面板内表面上；喷涂速度为50～200mm/s，喷涂负压为1～10kPa；C、显影：经过软烤、曝光、硬烤工艺后进行显影，在触控面板表面的过渡性保护光阻材料形成覆盖被保护区域的图案；此时，覆盖在被保护区域之上的过渡性保护光阻材料的膜厚为1～10μm；其纵截面的上表面宽度大于底面宽度，上表面是过渡性保护光阻材料对着曝光灯照射方向的表面。优选的，步骤C之后还包括：D、镀折射率匹配层：在形成了过渡性保护光阻材料层的触控面板的内表面镀上折射率匹配层；E、去除过渡性保护光阻材料层：将完成步骤D折射率匹配制程的触控面板用纯丙酮药液浸泡，然后剥离过渡性保护光阻材料层，从而得到被保护区域不被折射率匹配层覆盖的触控面板。优选的，被保护区域为金属线路区域。优选的，过渡性保护光阻材料的纵截面形状为倒置的梯形。优选的，步骤B中，过渡性保护光阻为光刻胶，光阻粘度为5～12CP。优选的，步骤E中，将完成步骤D的触控面板用纯丙酮药液浸泡2-3分钟。优选的，步骤C中，软烤工艺的温度为50～110℃，时间为60～360秒。优选的，步骤C中，曝光工艺的曝光能量60～250mj/cm2。优选的，步骤C中，硬烤工艺的温度为120～200℃，时间为60～300秒。优选的，步骤C中，使用的显影液为浓度为0.5％～20％的KOH溶液，显影温度为15～40℃；显影速度为600～3600mm/min。本专利技术具有以下有益效果：本专利技术采用喷涂过渡性保护光阻材料层，再经过黄光制程(软烤、曝光、硬烤、显影)制备出的过渡性保护层偏移公差为±5μm，极大的提高了过渡性保护区域的尺寸精度，更精确地保护保护区域，避免部分金属线路被绝缘层覆盖而不能与软性线路板导通，而导致触控面板的功能失效。同时该方法使得过渡性保护光阻材料层的形成和去除在3D及异形触控面板产品上也具有制程可行性及优势，有效解决了产品功能失效及外观不良的风险。除了上面所描述的目的、特征和优点之外，本专利技术还有其它的目的、特征和优点。下面将参照图，对本专利技术作进一步详细的说明。附图说明构成本申请的一部分的附图用来提供对本专利技术的进一步理解，本专利技术的示意性实施例及其说明用于解释本专利技术，并不构成对本专利技术的不当限定。在附图中：图1是本专利技术优选实施例的触控面板正面结构示意图；图2是本专利技术优选实施例的A-A剖面结构示意图；图3是本专利技术优选实施例的喷涂了过渡性保护光阻材料层后的A-A剖面结构示意图；图4是本专利技术优选实施例的镀了折射率匹配层后的A-A剖面结构示意图；图5是本专利技术优选实施例的去除了过渡性保护光阻材料层后的A-A剖面结构示意图；图6是本专利技术优选实施例的过渡性保护光阻材料层被曝光灯照射的示意图；图7是本专利技术优选实施例光罩曝光方式中曝光和显影阶段的结构示意图；其中，1、触控面板，2、金属线路层，3、保护盖板，4、视窗边框区，5、过渡性保护光阻材料层，51、过渡性保护光阻材料层上表面，52、过渡性保护光阻材料层底层，6、折射率匹配层，7、光罩，71、不透光区域。具体实施方式以下结合附图对本专利技术的实施例进行详细说明，但是本专利技术可以根据权利要求限定和覆盖的多种不同方式实施。参见图1、图2，以使用者接触面为外表面，触控面板1包括保护盖板3和设置在保护盖板3内表面(朝向产品内侧的表面)上的视窗边框区4，视窗边框区4的部分区域覆盖有金属线路层2。在制备过渡性保护光阻材料层之前，先对该表面进行清洗，直至该表面的水滴角小于20°，使得过渡性保护光阻层在触控面板的制程面上有更好的附着力，在经过软烤、曝光、硬烤、显影工艺时过渡性保护光阻不会脱落。在清洗后，在该表面上喷涂过渡性保护光阻材料层，喷涂速度可为50～200mm/s，喷涂负压为1～10kPa。过渡性保护光阻材料可为光刻胶，光阻粘度为5～12CP。例如瑞红RFJ-7040T，主要成分为丙二醇单甲醚醋酸酯(浓度为70％～90％)、混酚树脂(浓度为12％～25％)、重氮衍生物(浓度为2％～6％)物质。经过软烤、曝光、硬烤工艺后进行显影(采用光罩曝光方式对软烤后的过渡性光阻进行曝光处理，使其被曝光区域的过渡性光阻在经过显影后可保留，未被曝光区域过渡性光阻在经过显影后被去除，可使偏移公差都在5um以内，光罩的作用主要可使感光材料在采用光罩曝光后，可在设定的区域形成设定的图形，具体可见图7)，在触控面板的表面的过渡性保护光阻材料形成覆盖被保护区域的图案。例如，需要保护A区域不被后续的绝缘材料覆盖，则将非A区域的过渡性保护本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种提高过渡性保护区域精度的方法，其特征在于，包括步骤：A、清洗：清洗触控面板的内表面，直至该表面的水滴角小于20°；B、喷涂过渡性保护光阻材料层：将过渡性保护光阻材料喷涂在触控面板内表面上；喷涂速度为50～200mm/s，喷涂负压为1～10kPa；C、显影：经过软烤、曝光、硬烤工艺后进行显影，在触控面板表面的过渡性保护光阻材料形成覆盖被保护区域的图案；此时，覆盖在被保护区域之上的过渡性保护光阻材料的膜厚为1～10μm；其纵截面的上表面宽度大于底面宽度，上表面是过渡性保护光阻材料对着曝光灯照射方向的表面。

【技术特征摘要】
1.一种提高过渡性保护区域精度的方法，其特征在于，包括步骤：A、清洗：清洗触控面板的内表面，直至该表面的水滴角小于20°；B、喷涂过渡性保护光阻材料层：将过渡性保护光阻材料喷涂在触控面板内表面上；喷涂速度为50～200mm/s，喷涂负压为1～10kPa；C、显影：经过软烤、曝光、硬烤工艺后进行显影，在触控面板表面的过渡性保护光阻材料形成覆盖被保护区域的图案；此时，覆盖在被保护区域之上的过渡性保护光阻材料的膜厚为1～10μm；其纵截面的上表面宽度大于底面宽度，上表面是过渡性保护光阻材料对着曝光灯照射方向的表面。2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，步骤C之后还包括：D、镀折射率匹配层：在形成了过渡性保护光阻材料层的触控面板的内表面镀上折射率匹配层；E、去除过渡性保护光阻材料层：将完成步骤D折射率匹配制程的触控面板用纯丙酮药液浸泡，然后剥离过渡性保护光阻材料层，从而得到被保护区域不被折射率匹配层覆盖的触控面板。3.根据权利...

【专利技术属性】
技术研发人员：周群飞，饶桥兵，陈加辉，
申请(专利权)人：蓝思科技长沙有限公司，
类型：发明
国别省市：湖南;43