【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】相关申请的交叉引用本申请要求于2014年5月28日提交的序号为62/003,637的美国临时申请和于2014年10月28日提交的美国专利申请14/525,863的权益,其公开内容由此通过引用并入本文,如同其全部内容被阐述一样。
技术介绍
本专利技术总体上涉及半导体切换器件和栅极驱动方法,并且特别地涉及包括处于共源共栅布置的常断型半导体器件和常通型高电压宽带隙半导体器件的驱动开关。化合物半导体诸如碳化硅(SiC)和氮化镓(GaN)在价带的顶部与导带的底部之间具有通常大于2电子伏的带隙或能量差,因此这些半导体被称为宽带隙半导体。宽带隙半导体具有比硅高得多的击穿场;例如,碳化硅的击穿场为每厘米约3×106伏,这大约为硅的击穿场的10倍。宽带隙和高击穿场的特性允许由宽带隙半导体制成的功率器件以较低的导通电阻阻断较高的电压、以较高的频率更高效地进行切换、并且以较低的冷却要求在较高的温度下工作。这些器件特性对于实现高电压、高温、高频和高功率密度的功率转换系统是至关重要的。已经投入大量的努力来开发SiC结型场效应晶体管(JFET)、SiC金属氧化物半导体场效应晶体管(MOSFET)和GaN高电子迁移率晶体管(HEMT)。与SiCMOSFET相比,SiCJFET不需要关键性的氧化物膜,因此在高电场和高结温工作条件下,不存在与氧化物相关的性能劣化和长期可靠性的问题。SiCJFET在高温下是可靠的,并且继续在比导通电阻和切换品质因子方面取得了巨大进步。通过控制沟道开口,可以使SiCJFET为常通型或常断型。常通型器件是当向其控制端或栅极施加零电压时具有高导电性或处于导通状态的器件。 ...
【技术保护点】
一种共源共栅切换电路,包括常通型半导体器件、常断型半导体器件和栅极驱动器,其中:所述常通型半导体器件和所述常断型半导体器件各自都具有栅极端、漏极端和源极端;所述栅极驱动器具有第一输出和第二输出;所述栅极驱动器的所述第一输出耦合到所述常通型半导体器件的所述栅极端;所述栅极驱动器的所述第二输出耦合到所述常断型半导体器件的所述栅极端;所述常断型半导体器件的所述漏极端耦合到所述常通型半导体器件的所述源极端,使得形成通过所述常通型半导体器件和所述常断型半导体器件的电流路径;所述栅极驱动器被配置为:通过控制所述常断型半导体器件来控制所述共源共栅切换电路的接通过程;通过控制所述常通型半导体器件来控制所述共源共栅切换电路的关断过程;以及在所述共源共栅切换电路的所述关断过程期间,所述栅极驱动器通过将所述栅极驱动器的所述第一输出从第一电压电平改变为第二电压电平来使所述常通型半导体器件关断,然后,在第一预定延迟时间之后,将所述栅极驱动器的所述第二输出从第三电压电平改变为第四电压电平来使所述常断型半导体器件关断,并且在第二预定延迟时间之后,将所述栅极驱动器的所述第一输出从所述第二电压电平改变为所述第一电压电平 ...
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2014.05.28 US 62/003,637;2014.10.28 US 14/525,8631.一种共源共栅切换电路,包括常通型半导体器件、常断型半导体器件和栅极驱动器,其中:所述常通型半导体器件和所述常断型半导体器件各自都具有栅极端、漏极端和源极端;所述栅极驱动器具有第一输出和第二输出;所述栅极驱动器的所述第一输出耦合到所述常通型半导体器件的所述栅极端;所述栅极驱动器的所述第二输出耦合到所述常断型半导体器件的所述栅极端;所述常断型半导体器件的所述漏极端耦合到所述常通型半导体器件的所述源极端,使得形成通过所述常通型半导体器件和所述常断型半导体器件的电流路径;所述栅极驱动器被配置为:通过控制所述常断型半导体器件来控制所述共源共栅切换电路的接通过程;通过控制所述常通型半导体器件来控制所述共源共栅切换电路的关断过程;以及在所述共源共栅切换电路的所述关断过程期间,所述栅极驱动器通过将所述栅极驱动器的所述第一输出从第一电压电平改变为第二电压电平来使所述常通型半导体器件关断,然后,在第一预定延迟时间之后,将所述栅极驱动器的所述第二输出从第三电压电平改变为第四电压电平来使所述常断型半导体器件关断,并且在第二预定延迟时间之后,将所述栅极驱动器的所述第一输出从所述第二电压电平改变为所述第一电压电平,从而使得所述共源共栅切换电路从导通状态转变为断开状态。2.根据权利要求1所述的共源共栅切换电路,其中,所述常通型半导体器件包括化合物半导体器件。3.根据权利要求2所述的共源共栅切换电路,其中,所述化合物半导体器件包括碳化硅器件。4.根据权利要求3所述的共源共栅切换电路,其中,所述碳化硅器件包括碳化硅结型场效应晶体管。5.根据权利要求2所述的共源共栅切换电路,其中,所述化合物半导体器件包括氮化镓器件。6.根据权利要求5所述的共源共栅切换电路,其中,所述氮化镓器件包括氮化镓高电子迁移率晶体管。7.根据权利要求1所述的共源共栅切换电路,其中,所述常断型半导体器件包括硅金属氧化物半导体场效应晶体管。8.根据权利要求1所述的共源共栅切换电路,其中,在所述共源共栅切换电路的所述接通过程期间,所述栅极驱动器通过将所述栅极驱动器的所述第二输出从所述第四电压电平改变为所述第三电压电平来使所述常断型半导体器件接通,同时将所述栅极驱动器的所述第一输出保持在所述第一电压电平,从而使得所述共源共栅切换电路从断开状态转变为导通状态。9.根据权利要求1所述的共源共栅切换电路,其中,所述第一预定延迟时间具有在约1纳秒至约500纳秒的范围内的值,并且所述第二预定延迟时间具有在约10纳秒至约500纳秒的范围内的值。10.根据权利要求1所述的共源共栅切换电路,其中,以所述常断型半导体器件的所述源极端作为接地参考的情况下,所述第一电压电平具有在约-2伏至3伏的范围内的值,所述第二电压电平具有在约-8伏至-30伏的范围内的值,所述第三电压电平具有在约3伏至15伏的范围内的值,并且所述第四电压电平具有在约0伏至-15伏的范围内的值。11.根据权利要求1所述的共源共栅切换电路,其中,所述常通型半导体器件包括具有在约300伏至约10,000伏的范围内的电压阻断能力的一个半导体器件或并联连接的多于一个的半导体器件。12.根据权利要求11所述的共源共栅切换电路,其中,所述常断型半导体器件包括具有在约10伏至约100伏的范围内的电压阻断能力的一个半导体器件或并联连接的多于一个的半导体器件。13.根据权利要求1所述的共源共栅切换电路,其中,所述...
【专利技术属性】
技术研发人员:李雪青,阿努普·巴拉,
申请(专利权)人:美国联合碳化硅公司,
类型:发明
国别省市:美国;US
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