【技术实现步骤摘要】
本技术涉及一种用于生产铸锭的模具,尤其涉及一种铸锭锻造拔长模具。
技术介绍
溅射靶材作为镀膜领域的一种关键材料,其原理是采用物理气相沉积技术,利用经过电场加速的气态离子轰击靶材,离子和靶材原子发生动能交换,将靶材原子溅射出,沉积到基体上形成薄膜。钽溅射靶材可用来制备集成电路中防止Cu原子向Si原子扩散的阻挡层,铌溅射靶材常用于LCD等离子显示屏、照相机镜头、建筑和汽车工业用玻璃的镀膜。为保证溅射时薄膜的沉积速率高及均匀的薄膜厚度,溅射靶材应该具有均匀的内部组织结构,包括均匀细小的晶粒、均匀的织构分布。而传统钽、铌铸锭的生产方法是采用电子束轰击炉熔炼,生产出的铸锭晶粒粗大,这就必须对铸锭进行锻造加工,破碎其内部粗大的柱状晶粒,同时锻合铸锭内部的气孔,使铸锭更致密。拔长是破碎晶粒的一种有效手段,一般拔长采用平砧、V型砧、胎模等模具。平砧拔长铸锭受力方向比较单一,很难保证锻造铸锭组织的均匀性。而V型砧在同等砧宽比条件下所需压力达到平砧两倍以上,对于变形抗力大、冷锻易开裂的金属,难以锻造加工。胎模拔长存在模子多、效率低、人工劳动强度大等缺点。为解决上述问题,专利(201120106622.4)提出了一种《轴类锻件锻造用胎膜》并将这种胎模安装于压机内替代人工手持胎膜,提高了拔长效率。但该专利的弧形凹槽没有对凹槽进行外圆倒角,也没有在弧形凹槽内设计变径区,对于冷锻这种变形抗力大的钽、铌铸锭来说,容易造成铸锭锻造表面的包夹以及金属流动的不均。因此,如何提高钽、铌铸锭拔长工序中锻件质量及锻造效率依然是需要解决的技术问题。
技术实现思路
本技术的目的在于提供一种结构简单、使用方便 ...
【技术保护点】
一种铸锭锻造拔长模具,包括上模具及与上模具相互对合的下模具,上模具的下表面及下模具的上表面均开有弧形凹槽,上模具与下模具对合后弧形凹槽形成圆弧型腔,其特征在于:所述弧形凹槽轴向的中部为定径区,端部为变径区,两端变径区的直径均自内向外增大。
【技术特征摘要】
1.一种铸锭锻造拔长模具,包括上模具及与上模具相互对合的下模具,上模具的下表面及下模具的上表面均开有弧形凹槽,上模具与下模具对合后弧形凹槽形成圆弧型腔,其特征在于:所述弧形凹槽轴向的中部为定径区,端部为变径区,两端变径区的直径均自内向外增大。2.根据权利要求1所述的铸锭锻造拔长模具,其特征在于:所述弧形凹槽轴向两端对应所述变径区外的实体处均设有圆弧倒角。3.根据权利要求1所述的铸锭锻造拔长模具,其特征在于:所述弧形凹槽弧长方向的两端均设有过渡圆弧。4.根据权利要求1所述的...
【专利技术属性】
技术研发人员:刘辉江,张斌,贺文亮,吴建国,卢正清,刘乾坤,
申请(专利权)人:株洲硬质合金集团有限公司,
类型:新型
国别省市:湖南;43
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