振膜及发声器件制造技术

本实用新型专利技术提供了一种振膜及发声器件。其中，振膜包括位于中央位置的振动主体部以及围绕所述振动主体部并突出于所述振动主体部的折环部；所述振动主体部的每一拐角处凹陷形成有多个间隔设置的压痕槽，且相邻两个所述压痕槽之间通过压痕部连接；所述压痕槽的凹陷方向与所述折环部的突出方向相反。本实用新型专利技术通过可在改善失真效果的同时减少拐角处的褶皱，从而改善谐振频率处的高次失真，提高折环的抗疲劳能力。

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及电声转换
，特别地，涉及一种振膜以及具有该振膜的发声器件。
技术介绍
随着电子信息技术的快速发展，越来越多的发声器件应用于各类电子产品上，尤其是广为人们应用的移动通讯设备，人们不但关心其微型化、多功能，更要求其语音效果高质量、无失真。而振膜作为发声器件的核心部件，其设计的好坏直接影响着该发声器件的性能。相关技术的发声器件通常包括磁路系统和振动系统。磁路系统包括磁碗及容纳于磁碗内的磁钢，磁碗和磁钢之间形成磁间隙。振动系统包括悬于磁间隙中的音圈及与音圈连接并受之驱动而振动的振膜。相关技术的振膜包括位于中央位置的振动主体部、围绕振动主体部的外周设置的主折环及自折环部延伸而出的固定部。其中，振动主体部与主折环之间还设有围绕振动主体部的外周设置的内折环，以增加发声器件振动系统的线性度，改善失真情况。然而，该种振膜的内折环在大振幅的情况下容易在拐角处发生褶皱，导致在谐振频率f0附近高次失真严重，振膜的抗疲劳能力减弱并容易发生破膜现象，可靠性较差。因此，有必要提供一种新型的振膜及发声器件以克服上述缺陷。
技术实现思路
本技术的目的在于提供一种可改善失真效果同时减少拐角处的褶皱且具有较强的抗疲劳能力的振膜及发声器件。本技术的技术方案如下：提供一种振膜，包括位于中央位置的振动主体部以及围绕所述振动主体部并突出于所述振动主体部的折环部；所述振动主体部的每一拐角处凹陷形成有多个间隔设置的压痕槽，且相邻两个所述压痕槽之间通过压痕部连接；所述压痕槽的凹陷方向与所述折环部的突出方向相反。优选地，所述压痕部与所述振动主体部共面。优选地，所述振动主体部的每一侧边上还凹陷形成有至少一个所述压痕槽。优选地，所述折环部包括突出于所述振动主体部的主弧面，以及位于所述主弧面外侧并与所述主弧面平滑连接的辅助弧面；所述辅助弧面的突出方向与所述主弧面的突出方向相反。优选地，所述主弧面的每一拐角处凹陷形成有多个间隔设置的凹槽，且多个所述凹槽的凹陷方向与所述主弧面的突出方向相反。优选地，所述主弧面的每一拐角处突出形成多个间隔设置的突出部；所述突出部的突出方向与所述主弧面的突出方向相同。本技术还提供一种发声器件，包括支撑系统，以及支撑在所述支撑系统中的磁路系统和振动系统，所述振动系统包括前面任意所述的振膜。优选地，所述振动系统还包括球顶和音圈，且所述球顶贴设于所述振动主体部远离所述磁路系统的表面上；所述球顶、所述振膜以及所述音圈沿靠近所述磁路系统的方向依次叠设。优选地，所述振膜沿靠近所述磁路系统的方向突出，且所述压痕槽沿远离所述磁路系统的方向凹陷。优选地，所述压痕槽突出于所述振动主体部远离所述磁路系统的表面。本技术的有益效果在于：通过在振膜的振动主体部的每一拐角处分别设置多个压痕槽，且相邻的压痕槽之间通过压痕部连接，因此可在改善失真效果的同时，消除相关技术的内折环在大振幅振动过程中出现的褶皱，从而改善谐振频率f0处的高次失真，提高了折环的抗疲劳能力。【附图说明】图1为本技术一实施例中的发声器件的立体分解图；图2为图1中的发声器件另一个角度的立体分解图；图3为图1中的振膜的立体图；以及图4为图3中A部分的局部放大示意图。【具体实施方式】下面结合附图和实施方式对本技术作进一步说明。图1-2示出了本技术实施例一的发声器件100。如图1所示，该发声器件100大体上包括具有容纳空间的支撑系统10以及支撑在该支撑系统10内的磁路系统20以及振动系统30。其中，支撑系统10大体上包括盆架11与盖设在该盆架11上以与盆架11配合形成容纳空间的盖板12。该磁路系统20以及振动系统30均容纳于该容纳空间内。该磁路系统20用于产生磁场，而振动系统30则在磁路系统20所产生的磁场的驱动下产生振动，从而发出声音。具体如图1-2所示，磁路系统20大体上包括磁碗21、容纳于该磁碗21内的磁钢22，以及贴设于磁钢22上的极芯23。磁碗21与磁钢22之间形成磁间隙(未示出)，以供振动系统30的音圈33插入。进一步如图1-2所示，该振动系统30大体上包括沿靠近磁路系统20的方向(从盖板12指向盆架11的方向)依次叠设的球顶31、振膜32以及驱动振膜32振动发声的音圈33。其中，该音圈33插入至磁路系统20的磁间隙中。在本实施例中，振膜32与球顶31之间，以及振膜32和音圈33之间优选地例如通过胶合的方式彼此固定。图3-4具体示出了该振膜32的具体结构。如图3-4所示，该振膜32大体上包括位于中央位置的振动主体部321、自该振动主体部321的外周向外延伸的折环部322，以及自折环部322的外周向外延伸的固定部323。其中，该折环部322围绕振动主体部321，并突出于该振动主体部321。而固定部323进一步围绕该折环部322。在本实施例中，振动主体部321大体上呈矩形平板状，其对应设有四个拐角，且四个拐角处优选地通过圆角过渡。球顶31贴设在该振动主体部321远离磁路系统20的表面上。折环部322为突出的弧形结构，并且折环部322突出于振动主体部321，以保证振膜可自由地上下振动。在本实施例中，该折环部322沿靠近磁路系统20的方向突出。而固定部323则夹设于盆架11和盖板12之间，用于将振膜32固定在发声器件100的支撑系统10中。进一步如图3-4所示，在本实施例中，在振动主体部321与折环部322的连接处还形成有沿振动主体部321的外周设置多个压痕槽324。其中，该压痕槽324在本实施例中可以为沿振动主体部321的侧边设置的长条状结构或者是沿振动主体部321的拐角设置的较短的圆弧段。具体地，在本实施例中，在振动主体部321的每一拐角处凹陷形成有多个间隔设置的压痕槽324。该压痕槽324为圆弧段结构，且相邻两个压痕槽324之间通过压痕部325连接。其中，该压痕部325优选地与振动主体部321共面。如图3-4所示，每一压痕槽324的凹陷方向与折环部322的突出方向相反，即压痕槽324沿远离磁路系统20的方向凹陷。另外，在本实施例中，在振动主体部321的每一侧边上还可凹陷形成有至少一个长条状的压痕槽324。采用这种结构时，由于在振动主体部321的每一拐角处分别设置有多个压痕槽324，且相邻的压痕槽324之间通过压痕部325连接，因此可在改善失真效果的同时，消除相关技术的内折环在大振幅振动过程中出现的褶皱，从而改善谐振频率f0处的高次失真，提高了折环的抗疲劳能力。在本实施例中，优选地，压痕槽324突出于该振动主体部321的远离磁路系统20的表面，由此可在局部区域增加折环部322的有效高度，增强振膜的折环强度并降低失真的影响。在本实施例中，优选地，在振动主体部321的每一拐角处分别设置有两个压痕槽324，并且在振动主体部321的每一侧边上对应设置一个压痕槽3242。然而，在根据本技术的其他实施例中，可根据实际需要在每一拐角处设置三个或以上的压痕槽324，并在振动主体部321的每一侧边上可设置多个压痕槽324。本技术对振动主体部321的拐角处以及每一侧边处的压痕槽324的数量不做具体限定。进一步如图3-4所示，在本实施例中，该折环部322大体上包括突出于振动主体部321的主弧面3221，以及位于主弧面3221外侧并与主弧本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种振膜，包括位于中央位置的振动主体部以及围绕所述振动主体部并突出于所述振动主体部的折环部；其特征在于，所述振动主体部的每一拐角处凹陷形成有多个间隔设置的压痕槽，且相邻两个所述压痕槽之间通过压痕部连接；所述压痕槽的凹陷方向与所述折环部的突出方向相反。

【技术特征摘要】
1.一种振膜，包括位于中央位置的振动主体部以及围绕所述振动主体部并突出于所述振动主体部的折环部；其特征在于，所述振动主体部的每一拐角处凹陷形成有多个间隔设置的压痕槽，且相邻两个所述压痕槽之间通过压痕部连接；所述压痕槽的凹陷方向与所述折环部的突出方向相反。2.根据权利要求1所述的振膜，其特征在于，所述压痕部与所述振动主体部共面。3.根据权利要求1或2所述的振膜，其特征在于，所述振动主体部的每一侧边上还凹陷形成有至少一个所述压痕槽。4.根据权利要求1所述的振膜，其特征在于，所述折环部包括突出于所述振动主体部的主弧面，以及位于所述主弧面外侧并与所述主弧面平滑连接的辅助弧面；所述辅助弧面的突出方向与所述主弧面的突出方向相反。5.根据权利要求4所述的振膜，其特征在于，所述主弧面的每一拐角处凹陷形成有多个间隔设置的凹槽，且多个所述凹槽的凹陷...

【专利技术属性】
技术研发人员：钟志威，钱莉芬，
申请(专利权)人：瑞声科技新加坡有限公司，
类型：新型
国别省市：新加坡;SG