一种改进的印染废水深度处理工艺制造技术

技术编号:14644532 阅读:218 留言:0更新日期:2017-02-16 00:58
本发明专利技术公开了一种改进的印染废水深度处理工艺。该工艺为:印染废水调节池+水解酸化池+絮凝沉淀池+接触氧化池+MBR池+臭氧反应器+超滤(UF)预处理机组+反渗透系统。本发明专利技术中印染废水经混凝沉淀去除部分有机物、悬浮物等,减小生化部分的处理压力、经水解酸化将难降解和大分子污染物处理分解成小分子,以及一定的强化调试,使出水满足膜系统的进水要求,采用超滤(UF)预处理机组、反渗透系统组成双膜工艺,使排放水质不仅达到环保部门的要求,而且可回用于生产的任何阶段。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及了一种污水处理工艺,属于环保
,特别涉及了一种改进的印染废水深度处理工艺
技术介绍
随着印染工业的发展,其生产废水已成为当前最主要的水体污染源之一。印染废水具有污染水量大,有机污染物含量高,碱性大,水质变化大,不易生化等特点,属难处理的工业废水之一。目前纺织行业年用水量超过100亿立方米,已排在我国制造业的首位,但印染废水的回收率却只有7%,低于全国制造业的最低水平,印染废水深度处理的重要性日益突出。废水中含有染料、浆料、助剂、油剂、酸碱、纤维杂质、砂类物质、无机盐等,其复杂性、多变性为印染废水的深度处理增加了难度,目前用于印染废水处理的主要方法有物化法、生化法、化学法以及几种工艺结合的处理方法。随着环保要求的提高,为使废水达到回用要求,需进一步通过反渗透膜进行处理达到印染废水的深度处理。现有的印染废水深度处理工艺或工艺路线设计不合理,或成本太高,未能解决印染废水深度处理的实际问题。
技术实现思路
本专利技术的目的在于,克服现有技术的不足,提供一种经济合理,可大大提高印染废水深度处理效率的工艺。本专利技术的目的是通过以下技术方案实现的:本专利技术一种改进的印染废水深度处理工艺,该工艺为:印染废水调节池+水解酸化池+絮凝沉淀池+接触氧化池+MBR池+臭氧反应器+超滤(UF)预处理机组+反渗透系统。进一步的由超滤(UF)预处理机组、反渗透系统组成的双膜法(UF+RO),辅以UF的化学清洗、水反洗及化学反洗系统、加药系统,反渗透的化学清洗及加药系统,定期水反洗、化学反洗及化学清洗对保持膜组件的透水能力起着极大的作用,使排放水质不仅达到环保部门的要求,而且可回用于生产的任何阶段。本专利技术的优点和积极效果是:本专利技术一种改进的印染废水深度处理工艺,具有以下特点:1.增加预处理系统该部分主要是在印染废水进入生化系统之前,对原水进行混凝沉淀处理,去除部分有机物、悬浮物等,减小生化部分的处理压力。2.设置缺氧段将原有调节池改为水解酸化池,起到缺氧处理作用,能将难降解和大分子污染物处理分解成小分子,提高污水的可生化性,提高好氧段处理效率。3.增加膜系统根据印染废水水质及产水的质量要求、水量等因素确定膜系统采用双膜工艺。双膜法(UF+RO)水处理系统主要是由超滤(UF)预处理机组、反渗透系统组成。辅以UF的化学清洗、水反洗及化学反洗系统、加药系统,反渗透的化学清洗及加药系统,定期水反洗、化学反洗及化学清洗对保持膜组件的透水能力起着极大的作用,使排放水质不仅达到环保部门的要求,而且可回用于生产的任何阶段。附图说明图1为本专利技术的工艺路线图;具体实施方式下面结合附图并通过具体实施例对本专利技术作进一步详述,以下实施例只是描述性的,不是限定性的,不能以此限定本专利技术的保护范围。实施例本专利技术一种改进的印染废水深度处理工艺,包括:印染废水调节池+水解酸化池+絮凝沉淀池+接触氧化池+MBR池+臭氧反应器+超滤(UF)预处理机组+反渗透系统。将本专利技术的印染废水深度处理及回用工艺,应用于某毛纺制品有限公司污水处理站印染废水的深度处理,原有工艺处理出水情况如下:表1现状出水水质与排放标准要求处理过程为:先使印染废水原水通过调节池,再经过起到缺氧处理作用的水解酸化池,将难降解和大分子污染物处理分解成小分子,提高污水的可生化性,提高好氧段处理效率。再通过混凝沉淀处理,去除部分有机物、悬浮物等,减小生化部分的处理压力。经过接触氧化池+MBR池+臭氧反应器后可使系统出水达到膜系统的进水要求。最后根据原水水质及产水的质量要求、水量等因素确定膜系统采用由超滤(UF)预处理机组、反渗透系统组成的双膜工艺。辅以UF的化学清洗、水反洗及化学反洗系统、加药系统,反渗透的化学清洗及加药系统,定期水反洗、化学反洗及化学清洗对保持膜组件的透水能力起着极大的作用,经过双膜系统的出水不仅能够达到环保部门的排放标准,而且水质好,可以在生产过程中的回用于任何阶段。由此可见,本专利技术的工艺,可大大提高印染废水深度处理效率。以上所述仅为本专利技术的较佳实施案例而已,并不用以限制本专利技术,凡在本专利技术的精神和原则之内,所作的任何修改、等同替换、改进等,均应包含在本专利技术的保护范围之内。本文档来自技高网...
一种改进的印染废水深度处理工艺

【技术保护点】
一种改进的印染废水深度处理工艺,其特征在于,该工艺为:印染废水调节池+水解酸化池+絮凝沉淀池+接触氧化池+MBR池+臭氧反应器+超滤(UF)预处理机组+反渗透系统。

【技术特征摘要】
1.一种改进的印染废水深度处理工艺,其特征在于,该工艺为:印染废水调节池+水解酸化池+絮凝沉淀池+接触氧化池+MBR池+臭氧反应器+超滤(UF)预处理机组+反渗透系统。2.根据权利要求1所述的改进的印染废水深度处理工艺,其特征在于:由超滤(UF)预处理...

【专利技术属性】
技术研发人员:杨宗政宁立群张洁武莉娅曹井国王春虎吴志国周颖张睿轩常丹青师育良韩朝喜
申请(专利权)人:天津科技大学
类型:发明
国别省市:天津;12

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