清洗装置、清洗系统、清洗方法以及清洗系统中的控制方法制造方法及图纸

清洗装置(30)为，通过清洗气体对保存被保存物的保存容器(F)的内部进行清洗处理，具备：载放保存容器的多个载放部(31)；向载放于载放部的保存容器供给清洗气体的多个供给管(33)；连接多个供给管并且向多个供给管供给清洗气体的主管(41)；以及对主管中的清洗气体的流量进行调节的MFC(43)。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及通过非活性气体或者洁净干燥空气等清洗气体对保存被保存物的保存容器的内部进行清洗处理的清洗装置、清洗系统、清洗方法以及清洗系统中的控制方法。
技术介绍
已知有一种清洗装置，通过向保存半导体晶片或者玻璃基板等被保存物的保存容器的内部注入清洗气体来保持洁净度(进行所谓的清洗处理)。在这样的清洗装置中，例如存在想要通过希望的流量以及/或者注入模式向保存容器内注入清洗气体的需求。作为满足这种需求的技术，存在以下的清洗装置(专利文献1)：按照配置于上下左右的每个架来设置向保存容器供给清洗气体的供给机构，并对该供给机构分别设置有能够调节清洗气体的供给流量的质量流量控制器(MFC：MassFlowController)。在该构成的清洗装置中，能够按照载放于架的每个保存容器自由地调节注入的流量以及/或者注入模式。现有技术文献专利文献专利文献1：日本特开2013-131712号公报
技术实现思路
专利技术要解决的课题但是，如上述那样按照设置于架的每个供给机构来设置该质量流量控制器的构成，较高价、构造变得复杂。因此，本专利技术的目的在于，通过廉价且简单的构成来提供能够通过希望的流量以及/或者注入模式注入清洗气体的清洗装置、清洗系统、清洗方法以及清洗系统中的控制方法。用于解决课题的手段本专利技术的一个方案的清洗装置为，通过清洗气体对保存被保存物的保存容器的内部进行清洗处理，具备：多个载放部，载放保存容器；多个供给管，向载放于载放部的保存容器供给清洗气体；主管，连接有多个供给管，并且向多个供给管供给清洗气体；以及流量调节部，调节主管中的清洗气体的流量。本专利技术的一个方案的清洗方法，是通过清洗气体对保存被保存物的保存容器的内部进行清洗处理时的清洗方法，其中，连接对载放保存容器的多个载放部分别供给清洗气体的供给管，并且连接对多个供给管供给清洗气体的主管，并调节主管中的清洗气体的流量。根据该构成的清洗装置或者清洗方法，由于在向多个供给管供给清洗气体的主管上设置有流量调节部，因此与按照每个供给管来设置流量调节部的构成相比，能够减少应设置的流量调节部的数量。因此，能够通过廉价且简单的构成来提供能够通过希望的流量以及/或者注入模式注入清洗气体的清洗装置。在一个实施方式中也可以为，在以目标的供给流量向保存容器供给清洗气体时，流量调节部使主管中的清洗气体的流量连续地或者阶段地增加以便成为目标的供给流量。根据该构成的清洗装置，能够防止保存容器内的气体流动急剧变化。由此，能够抑制保存容器内的尘埃被卷起。在一个实施方式中也可以为，在供给管上设置有调节部，该调节部进行调节，以使向保存容器供给的清洗气体的流量在多个供给管彼此之间变得相等。此时，也可以为，在以目标的供给流量向保存容器供给清洗气体时，流量调节部进行调节，以使主管中的所述清洗气体的流量成为将目标的供给流量乘以载放部的个数而得到的流量。根据该构成的清洗装置，通过配置调节部，由此也可以不考虑载放部中有无保存容器、由配管导致的压力损失等条件的不同。因此，仅通过将主管中的清洗气体的流量设为“将目标的供给流量乘以载放部的个数而得到的流量”这样简单的调节，就能够通过希望的流量以及/或者注入模式向保存容器注入清洗气体。在一个实施方式中也可以为，在供给管上设置有开闭阀，在向载放部载放有保存容器的情况下，该开闭阀使供给管中的清洗气体的流路成为打开状态，在向载放部未载放有保存容器的情况下，该开闭阀使清洗气体的流路成为关闭状态。此时，也可以为，在以目标的供给流量向保存容器供给清洗气体时，流量调节部进行调节，以使主管中的清洗气体的流量成为将目标的供给流量乘以载放于载放部的保存容器的个数而得到的流量。根据该构成的清洗装置，通过配置开闭阀，由此仅向在载放部载放有保存容器的供给管供给清洗气体。在载放部是否载放有保存容器的信息，例如能够根据来自对有无载放于载放部的保存容器进行检测的检测部、或者上位控制器的信息等来得到。由此，仅通过将主管中的清洗气体的流量设为“将目标的供给流量乘以载放于载放部的保存容器的个数而得到的流量”这样简单的调节，就能够通过希望的流量以及/或者注入模式向保存容器注入清洗气体。在一个实施方式中也可以为，清洗装置进一步具备检测部，该检测部检测载放部中有无载放保存容器。根据该构成的清洗装置，能够更可靠地取得在载放部是否载放有保存容器的信息。在本专利技术的一个方案的清洗系统中，具备：多个清洗装置；搬送装置，搬送保存容器；以及控制部，控制搬送装置中的保存容器的搬送，清洗装置是上述记载的清洗装置，控制部将搬送装置控制为，使保存容器优先向多个清洗装置中的特定清洗装置所包含的未载放保存容器的载放部入库，该特定清洗装置是存在载放有保存容器的载放部的清洗装置。本专利技术的一个方案的控制方法是清洗系统中的清洗方法，该清洗系统具备通过上述清洗方法进行清洗处理的多个清洗装置、搬送保存容器的搬送装置、以及控制搬送装置中的保存容器的搬送的控制部，在该清洗方法中，将搬送装置控制，使保存容器优先向多个清洗装置中的特定清洗装置所包含的未载放保存容器的载放部入库，该特定清洗装置是存在载放有保存容器的载放部的清洗装置。在该构成的清洗系统或者控制方法中，在多个载放部中配置有保存容器的载放部一个也不存在的情况下，以主管中的清洗气体的流量成为0的方式进行调节，在多个载放部中配置有保存容器的载放部即使存在一个的情况下，以主管中的清洗气体的流量成为规定流量的方式进行调节。因此，只要将搬送装置控制为，使保存容器优先向多个清洗装置中的特定清洗装置所包含的未载放保存容器的载放部入库，该特定清洗装置是存在载放有保存容器的载放部的清洗装置，则能够抑制浪费地排出的清洗气体。专利技术的效果根据本专利技术，能够通过廉价且简单的构成，通过希望的流量以及/或者注入模式注入清洗气体。附图说明图1是表示具备第一实施方式的清洗装置的清洗堆料机的侧视图；图2是表示第一实施方式的清洗装置的构成的概要构成图；图3是表示第一实施方式的流量控制的一例的时间图；图4是表示第三实施方式的清洗装置的构成的概要构成图；图5是表示第三实施方式的流量控制的一例的时间图。具体实施方式以下，参照附图对一个实施方式进行说明。在附图的说明中，对于相同要素赋予相同的符号，并省略重复的说明。附图的尺寸比例并不一定与说明的对象一致。(第一实施方式)对具备第一实施方式的清洗装置30的清洗堆料机(清洗系统)1进行说明。清洗堆料机1通过清洗气体(例如氮气)对保存有半导体晶片或者玻璃基板等被保存物的FOUP(FrontOpeningUnifiedPod：前开式晶圆盒)等保存容器F的内部进行清洗处理，并且具有作为保管多个保存容器F的保管库的功能。清洗堆料机1例如被设置于洁净室。如图1所示，清洗堆料机1主要具备隔板3、架子7、起重机(搬送装置)9、OHT(OverheadHoistTransfer：：吊运装置)口21、人工口23、清洗装置30以及控制部50(参照图2)。隔板3是清洗堆料机1的罩板，在其内侧形成有保管保存容器F的保管区域。架子7是保管保存容器F的部分，在保管区域内通常设置有1～2列(此处为2列)。各架子7在规定方向X上延伸，相邻的两个架子7、7以对置的方式大致平行地配置。在各架子7中，沿着规定方向X以及本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种清洗装置，通过清洗气体对保存被保存物的保存容器的内部进行清洗处理，具备：多个载放部，载放上述保存容器；多个供给管，向载放于上述载放部的上述保存容器供给上述清洗气体；主管，连接有上述多个供给管，并且向上述多个供给管供给上述清洗气体；以及流量调节部，调节上述主管中的上述清洗气体的流量。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2014.06.16 JP 2014-1233711.一种清洗装置，通过清洗气体对保存被保存物的保存容器的内部进行清洗处理，具备：多个载放部，载放上述保存容器；多个供给管，向载放于上述载放部的上述保存容器供给上述清洗气体；主管，连接有上述多个供给管，并且向上述多个供给管供给上述清洗气体；以及流量调节部，调节上述主管中的上述清洗气体的流量。2.如权利要求1所述的清洗装置，其中，在以目标的供给流量向上述保存容器供给上述清洗气体时，上述流量调节部使上述主管中的上述清洗气体的流量连续或者阶段地增加而成为上述目标的供给流量。3.如权利要求1或2所述的清洗装置，其中，在上述供给管上设置有调节部，该调节部进行调节，以使向上述保存容器供给的上述清洗气体的流量在上述多个供给管彼此之间变得相等，在以目标的供给流量向上述保存容器供给上述清洗气体时，上述流量调节部进行调节，以使上述主管中的上述清洗气体的流量成为将上述目标的供给流量乘以上述载放部的个数而得到的流量。4.如权利要求1或2所述的清洗装置，其中，在上述供给管上设置有开闭阀，在上述载放部载放有上述保存容器的情况下，上述开闭阀使上述供给管中的上述清洗气体的流路成为打开状态，在上述载放部未载放有上述保存容器的情况下，上述开闭阀使上述清洗气体的流路成为关闭状态，在以目标的供给流量向上述保存容器供给上述清洗气...

【专利技术属性】
技术研发人员：村田正直，山路孝，大西真司，
申请(专利权)人：村田机械株式会社，
类型：发明
国别省市：日本;JP