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一种LED用高导热率氮化硅‑氮化铝复相陶瓷基板及其制备方法技术

技术编号:14603395 阅读:175 留言:0更新日期:2017-02-09 10:17
本发明专利技术公开了一种LED用高导热率氮化硅‑氮化铝复相陶瓷基板,包括如下重量份原料:氮化硅80‑120份;氮化铝80‑120份;添加剂2‑10份;所述添加剂由如下重量份物质组成:氟化镁1‑3份;氟化钇1‑3份;碳酸锂1‑3份;最佳陶瓷基板的物化性能为,导热率为330W/(m·k),弯曲强度为950Mpa,维氏硬度为20GPa。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术属于LED用基板领域,特别涉及一种LED用高导热率氮化硅-氮化铝复相陶瓷基板及其制备方法。
技术介绍
作为第四代照明光源,发光二极管(LED)以其维护费用低、寿命长、抗震性好、功耗小和环境友好等优势而受到世界各国的重视,被广泛用于指示灯、显示屏、背光源、景观照明、交通等,市场潜力巨大。长沙鼎成新材料科技有限公司在2015年申请了系列的LED用陶瓷基板(如CN201510334118.2等),优化LTCC制备工艺中的各种原料,以氮化铝、氮化硼、氧化铝和氧化铍作为主要原料,同时,添加了玻璃烧结助剂、铜铝合金纳米颗粒、稀土氧化物、溶剂、增塑剂、分散剂和粘结剂等添加剂,进一步优化了陶瓷基板的物化性能,本申请的陶瓷基板热导率大于400W/(m·k),抗弯强度大于300Mpa,介电常数小于2。同时,通过常规的LTCC制备方法,即可将主要原料和添加剂制备成具有高导率的陶瓷基板,制备工艺简单,利于产业化,在其中也讲到,随着LED照明的需求日趋迫切,大功率LED的散热问题益发受到重视(过高的温度会导致LED发光效率衰减);LED使用所产生的废热若无法有效散出,则会对LED的寿命造成致命性的影响。现阶段较普遍的陶瓷散热基板有4种:直接覆铜陶瓷板(DBC)、直接镀铜基板(DPC)、高温共烧多层陶瓷基板(HTCC)和低温共烧多层陶瓷基板(LTCC)。而如何设计一种性能优越尤其是散热性能好的LED陶瓷基板是现在研究的难题。LED用复相陶瓷基板的研究较少,CN201110299348.1中公开了陶瓷为氧化铝,氮化铝,SiC,SiAlON中的一种或者他们之间的复相陶瓷;关于复相陶瓷基板的研究还存在较多的研究空白。对于陶瓷基板来说,烧结助剂是非常重要的,CN201510738040.0公开了一种大功率LED散热用陶瓷基板,其中采用复合烧结助剂,按质量百分比,包括:硅粉40%~60%、铝粉5%~10%、高岭土粉20%~30%、氟化钙10%~30%;CN201510321089.6公开了LED用氮化铝陶瓷基片的生产方法,其中包括了三元复合烧结助剂,其中为氧化物的组合或者其与BN等氮化物的组合;CN201510188853.7也公开的是三元氧化物体系的烧结助剂,没有更多的创新;CN201310531348.9公开了一种颗粒弥散增韧氮化铝陶瓷基板及其制备方法,并公开了烧结助剂为稀土金属氧化物、弱碱氧化物、稀土氟化物或弱碱氟化物中的任意一种或任意几种的复合;所述的稀土金属氧化物为Y2O3、Sm2O3、Dy2O3、Yb2O3中的一种或任意几种的复合;所述的弱碱氧化物为CaO、Li2O、BaO中的一种或任意几种的复合;所述的稀土金属氟化物为YF3、DyF3、YbF3中的一种或任意几种的复合;所述的弱碱金属氟化物为CaF2。在制备工艺上,一般而言,采用固体烧结或者流延烧结等工艺较多,传统的制备工艺,对于复相体系而言,是否适合使用还存在一定的需要验证。对于复相的体系而言,如何通过优化原料及其制备工艺,来获得高导热率的产品是现在亟待解决的问题。
技术实现思路
本专利技术的目的是针对上述问题,研制出一种LED用高导热率氮化硅-氮化铝复相陶瓷基板及其制备方法:一种LED用高导热率氮化硅-氮化铝复相陶瓷基板,包括如下重量份原料:氮化硅80-120份;氮化铝80-120份;添加剂2-10份;所述添加剂由如下重量份物质组成:氟化镁1-3份;氟化钇1-3份;碳酸锂1-3份。作为优选,所述添加剂由如下重量份物质组成:氟化镁2份;氟化钇3份;碳酸锂1份。作为优选,包括如下重量份原料:氮化硅100份;氮化铝100份;添加剂6份;。一种上述LED用高导热率氮化硅-氮化铝复相陶瓷基板的制备方法,包括如下步骤:(1)配料,按照配比称取氮化硅、氮化铝和添加剂;(2)混料,将原料混合,加入酒精作为分散介质,球磨混合10h;随后在50℃下干燥5h,过300-400目筛;(3)注凝成型,(4)排胶,在800℃下进行排胶处理1-2h;(5)烧结,烧结气氛为流动氮气、氢气复合气体,即可获得LED用高导热率氮化硅-氮化铝复相陶瓷基板。作为优选,所述注凝成型具体为:将过筛后的粉料和混合液加入真空搅拌机中,边搅拌边抽真空,直到真空度达到-0.2MPa,保持10-15min,得到初始浆料;在初始浆料中加入催化剂,在-0.2MPa的真空条件下充分搅拌均匀,再加入引发剂,继续搅拌直到均匀分散的成型胶料;将成型浆料注入陶瓷基板模型中,固化10-20min脱模得到坯体。作为优选,所述混合液为丙烯酰胺、聚甲基丙烯酸铵和阿拉伯树胶混合水溶液;催化剂为四甲基乙二胺TMEDA;引发剂为过硫酸铵。作为优选,烧结工艺条件为,烧结温度为1600-1650℃,保温时间为1-2h。除了氮化硅-氮化铝体系之外,本专利技术的专利技术思路还使用于氮化硅-碳化硅体系以及氮化硅-氮化铝-碳化硅体系。具体的制备方案如下:一种LED用高导热率氮化硅-碳化硅复相陶瓷基板,包括如下重量份原料:氮化硅80-150份;碳化硅80-150份;添加剂2-15份;所述添加剂由如下重量份物质组成:氟化镁1-4份;氟化钇1-4份;碳酸锂1-4份。作为优选,所述添加剂由如下重量份物质组成:氟化镁2份;氟化钇4份;碳酸锂1份。作为优选,包括如下重量份原料:氮化硅120份;碳化硅120份;添加剂7份;。一种上述LED用高导热率氮化硅-碳化硅复相陶瓷基板的制备方法,包括如下步骤:(1)配料,按照配比称取氮化硅、碳化硅和添加剂;(2)混料,将原料混合,加入酒精作为分散介质,球磨混合10h;随后在50℃下干燥5h,过300-400目筛;(3)注凝成型,(4)排胶,在700℃下进行排胶处理1-2h;(5)烧结,烧结气氛为流动氮气、氢气复合气体,即可获得LED用高导热率氮化硅-碳化硅复相陶瓷基板。作为优选,所述注凝成型具体为:将过筛后的粉料和混合液加入真空搅拌机中,边搅拌边抽真空,直到真空度达到-0.2MPa,保持10-15min,得到初始浆料;在初始浆料中加入催化剂,在-0.2MPa的真空条件下充分搅拌均匀,再加入引发剂,继续搅拌直到均匀分散的成型胶料;将成型浆料注入陶瓷基板模型中,固化10-20min脱模得到坯体。作为优选,所述混合液为丙烯酰胺、聚甲基丙烯酸铵和阿拉伯树胶混合水溶液;催化剂为四甲基乙二胺TMEDA;引发剂为过硫酸铵。作为优选,烧结工艺条件为,烧结温度为1500-1600℃,保温时间为1-2h。一种LED用高导热率氮化硅-氮化铝-碳化硅复相陶瓷基板,包括如下重量份原料:氮化硅80-120份;氮化铝80-120份;碳化硅80-120份;添加剂2-10份;所述添加剂由如下重量份物质组成:氟化镁1-5份;氟化钇1-5份;碳酸锂1-3份。作为优选,所述添加剂由如下重量份物质组成:氟化镁4份;氟化钇5份;碳酸锂1份。作为优选,包括如下重量份原料:氮化硅100份;氮化铝100份;碳化硅100份;添加剂6份;。一种上述LED用高导热率氮化硅-氮化铝-碳化硅复相陶瓷基板的制备方法,包括如下步骤:(1)配料,按照配比称取氮化硅、氮化铝、碳化硅和添加剂;(2)混料,将原料混合,加入酒精作为分散介质,球磨混合10h;随后在50℃下干燥5h,过300-400目筛;(本文档来自技高网
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【技术保护点】
一种LED用高导热率氮化硅‑氮化铝复相陶瓷基板,其特征在于:包括如下重量份原料:氮化硅 80‑120份;氮化铝 80‑120份;添加剂 2‑10份;所述添加剂由如下重量份物质组成:氟化镁 1‑3份;氟化钇 1‑3份;碳酸锂 1‑3份。

【技术特征摘要】
1.一种LED用高导热率氮化硅-氮化铝复相陶瓷基板,其特征在于:包括如下重量份原料:氮化硅80-120份;氮化铝80-120份;添加剂2-10份;所述添加剂由如下重量份物质组成:氟化镁1-3份;氟化钇1-3份;碳酸锂1-3份。2.一种如权利要求1所述的LED用高导热率氮化硅-氮化铝复相陶瓷基板,其特征在于:所述添加剂由如下重量份物质组成:氟化镁2份;氟化钇3份;碳酸锂1份。3.一种如权利要求1所述的LED用高导热率氮化硅-氮化铝复相陶瓷基板,其特征在于:包括如下重量份原料:氮化硅100份;氮化铝100份;添加剂6份;。4.一种如权利要求1-3任一项所述的LED用高导热率氮化硅-氮化铝复相陶瓷基板的制备方法,其特征在于:包括如下步骤:(1)配料,按照配比称取氮化硅、氮化铝和添加剂;(2)混料,将原料混合,加入酒精作为分散介质,球磨混合10h;随后在50℃下干燥5h,过300-400目筛;(3)注凝成型,(4)排胶,在800℃下进行排胶处理1-2h;(5)烧...

【专利技术属性】
技术研发人员:刘丽梅
申请(专利权)人:刘丽梅
类型:发明
国别省市:湖南;43

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