【技术实现步骤摘要】
本技术涉及光伏刻蚀
,尤其涉及一种等离子刻蚀机。
技术介绍
湿法刻蚀是将刻蚀材料浸泡在腐蚀液内进行腐蚀的技术。简单来说,就是中学化学课中化学溶液腐蚀的概念,它是一种纯化学刻蚀,具有优良的选择性,刻蚀完当前薄膜就会停止,而不会损坏下面一层其他材料的薄膜。由于所有的半导体湿法刻蚀都具有各向同性,所以无论是氧化层还是金属层的刻蚀,横向刻蚀的宽度都接近于垂直刻蚀的深度。这样一来,上层光刻胶的图案与下层材料上被刻蚀出的图案就会存在一定的偏差,也就无法高质量地完成图形转移和复制的工作,因此随着特征尺寸的减小,在图形转移过程中基本不再使用。目前,湿法刻蚀一般被用于工艺流程前面的晶圆片准备、清洗等不涉及图形的环节,而在图形转移中干法刻蚀已占据主导地位。但是市场上却没有一种可满足湿法和干法刻蚀同时工作的装置,对此我们推出一种等离子刻蚀机。
技术实现思路
本技术的目的是为了解决现有技术中存在的缺点,而提出的一种等离子刻蚀机。为了实现上述目的,本技术采用了如下技术方案:设计一种等离子刻蚀机,包括箱体和隔板,所述隔板将箱体的内腔分为上腔室和下腔室,所述上腔室内通过支架安装有盒体,所述箱体的外侧分别安装有溶液箱和气泵,且溶液箱和气泵与盒体通过管道相连接,在两个管道上均安装有电磁阀,所述盒体上安装有喷头,所述支架上安装有发热灯,所述隔板的上端安装有托盘,所述下腔室内安装有集液箱,集液箱与托盘通过管道相连接,且管道上安装有电磁阀,所述下腔室内安装有真空泵,真空泵与上腔室通过管道相连接,所述上腔室的一侧设有加气口,所述箱体的外侧安装有射频电源,所述射频电源的外侧安装有射频电感线圈,所述托 ...
【技术保护点】
一种等离子刻蚀机,包括箱体(1)和隔板(2),所述隔板(2)将箱体(1)的内腔分为上腔室(3)和下腔室(4),其特征在于,所述上腔室(3)内通过支架(13)安装有盒体(9),所述箱体(1)的外侧分别安装有溶液箱(10)和气泵(11),且溶液箱(10)和气泵(11)与盒体(9)通过管道相连接,在两个管道上均安装有电磁阀,所述盒体(9)上安装有喷头(14),所述支架(13)上安装有发热灯(12),所述隔板(2)的上端安装有托盘(5),所述下腔室(4)内安装有集液箱(6), 集液箱(6)与托盘(5)通过管道相连接,且管道上安装有电磁阀,所述下腔室(4)内安装有真空泵(7), 真空泵(7)与上腔室(3)通过管道相连接,所述上腔室(3)的一侧设有加气口(17),所述箱体(1)的外侧安装有射频电源(15),所述射频电源(15)的外侧安装有射频电感线圈(16),所述托盘(5)内安装有静电吸盘(8),且所述射频电源(15)分别与射频电感线圈(16)和静电吸盘(8)电连接。
【技术特征摘要】
1.一种等离子刻蚀机,包括箱体(1)和隔板(2),所述隔板(2)将箱体(1)的内腔分为上腔室(3)和下腔室(4),其特征在于,所述上腔室(3)内通过支架(13)安装有盒体(9),所述箱体(1)的外侧分别安装有溶液箱(10)和气泵(11),且溶液箱(10)和气泵(11)与盒体(9)通过管道相连接,在两个管道上均安装有电磁阀,所述盒体(9)上安装有喷头(14),所述支架(13)上安装有发热灯(12),所述隔板(2)的上端安装有托盘(5),所述下腔室(4)内安装有集液箱(6),集液箱(6)与托盘(5)通过管道相连接,且管...
【专利技术属性】
技术研发人员:孙显强,
申请(专利权)人:温州市赛拉弗能源有限公司,
类型:新型
国别省市:浙江;33
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