膜形成装置及膜形成方法制造方法及图纸

本发明专利技术提供一种无需进行膜形成后的基板表面的图像分析即可去除卫星液滴的膜形成装置。从与保持于载物台的基板对置的喷嘴头朝向基板吐出经液滴化的膜材料。移动机构使保持于载物台的基板和喷嘴头中的一个相对于另一个移动。存储装置存储待形成膜的图像数据及膜厚补正信息。控制装置根据图像数据控制喷嘴头及移动机构，由此在基板上形成膜。数据通过输入装置输入到控制装置。若从输入装置输入有膜厚指令值，则控制装置根据膜厚补正信息来补正膜厚指令值，由此计算比膜厚指令值厚的膜厚目标值，并且控制装置控制喷嘴头及移动机构以形成相当于膜厚目标值厚度的膜。

【技术实现步骤摘要】
本申请主张基于2014年10月10日申请的日本专利申请第2014-208562号的优先权。该日本申请的全部内容通过参考援用于本说明书中。
本专利技术涉及一种从喷嘴头吐出经液滴化的膜材料从而在基板上形成膜的膜形成装置及膜形成方法。
技术介绍
已知有从喷嘴头吐出阻焊剂的液滴以在印刷基板上形成阻焊剂膜的方法(专利文献1)。从喷嘴头的喷嘴孔所吐出的液滴分离的小液滴有时会着落于偏离目标地点的位置。若小液滴着落于阻焊剂膜的开口部的内侧，则在开口部内形成阻焊剂的微小的区域(以下，称为“卫星液滴”)。已知通过向卫星液滴照射激光束来去除卫星液滴的技术(专利文献2)。由此，能够抑制阻焊剂膜形成工序中的成品率的下降。专利文献1：日本特开平7-263845号公报专利文献2：日本特开2012-96286号公报为了执行通过激光照射来去除卫星液滴的方法，需要具有拍摄形成有阻焊剂膜的基板的表面的图像传感器及根据所拍摄的图像检测卫星液滴的位置的图像分析装置。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种无需进行膜形成后的基板表面的图像分析即可去除卫星液滴的膜形成装置。本专利技术的另一目的在于提供一种无需进行膜形成后的基板表面的图像分析即可去除卫星液滴的膜形成方法。根据本专利技术的一种观点，提供一种膜形成装置，其具有：载物台，用于保持基板；喷嘴头，与保持于所述载物台的所述基板对置，并朝向所述基板吐出经液滴化的膜材料；移动机构，使保持于所述载物台的所述基板与所述喷嘴头中的一个相对于另一个移动；存储装置，存储待形成膜的图像数据及膜厚补正信息；控制装置，根据所述图像数据控制所述喷嘴头及所述移动机构，由此在所述基板形成具有所述图像数据所定义的图案的膜；及输入装置，用于向所述控制装置输入数据，若从所述输入装置输入有膜厚指令值，则所述控制装置根据所述膜厚补正信息补正所述膜厚指令值，由此计算比所述膜厚指令值厚的膜厚目标值，并且所述控制装置控制所述喷嘴头及所述移动机构，以形成相当于所述膜厚目标值厚度的膜。根据本专利技术的另一种观点，提供一种膜形成方法，其具有如下工序：根据图像数据从喷嘴头朝向基板吐出膜材料的液滴，由此形成具有所述图像数据所定义的图案的膜；及对形成有所述膜的所述基板的整个区域进行等离子体处理，由此去除附着于不必要区域的所述膜材料。通过等离子体处理能够去除附着于不必要区域的膜材料(卫星液滴)。由于对基板的整个区域进行等离子体处理，因此无需进行用于确定卫星液滴的位置的图像分析等。附图说明图1为实施例的膜形成装置的概要图。图2为在实施例的膜形成装置中使用的涂布装置的概要图及控制装置的框图。图3为实施例的膜形成方法的流程图。图4A至图4C为膜形成方法的中间阶段及膜形成后的基板及膜的剖视图。图5A至图5C为表示在另一实施例的膜形成装置中使用的多个装置的配置的示意图。图中：20-搬入装置，21-输送辊，22-挡块，30、30A-涂布装置，31-平台，32-移动机构，33-载物台，34-升降销，35-喷嘴单元，36-喷嘴头，37-临时固化用光源，38-膜材料供给装置，40、40A-正式固化装置，41-输送辊，42-正式固化用光源，50-输送装置，51-引导件，52-升降机，60-控制装置，61-成膜处理部，62-膜厚补正处理部，63-存储装置，65-输入装置，66-输出装置，70-基板，71-膜，72-卫星液滴，73-开口部，75-等离子体，80、80A-等离子体处理装置，80B-双面等离子体处理装置，83-反转装置，85-热处理装置，Tr-膜厚指令值，Tt-膜厚目标值。具体实施方式图1中示出实施例的膜形成装置的概要图。实施例的膜形成装置包括：搬入装置20、涂布装置30、正式固化装置40、输送装置50及控制装置60。定义将水平面作为xy面，将铅垂上方作为z轴的正向的xyz正交坐标。搬入装置20、涂布装置30、正式固化装置40依次朝向x轴的正向配置。控制装置60控制搬入装置20、涂布装置30、正式固化装置40及输送装置50。输送装置50从搬入装置20搬出作为处理对象的基板70，并搬入到涂布装置30中。并且，从涂布装置30搬出基板70，并搬入到正式固化装置40中。搬入装置20包括输送辊21及挡块22。输送辊21输送作为处理对象的基板70直至与挡块22接触。通过基板70与挡块22的接触，基板70在输送方向上被大致定位。输送装置50包括引导件51及升降机52。升降机52被引导件51所引导而向x方向移动。在搬入装置20中被大致定位的基板70被升降机52保持而输送至涂布装置30。在涂布装置30中涂布了膜材料的基板70被升降机52保持而输送至正式固化装置40。涂布装置30包括平台31、移动机构32及载物台33。载物台33经由移动机构32支承于平台31上。移动机构32受到控制装置60的控制而向x方向及y方向移动载物台33，并且以与z轴平行的直线为旋转中心而改变载物台33的旋转方向的姿势。载物台33上组装有多个升降销34。升降销34在其上端保持基板70，并使基板70相对于载物台33进行升降。在使基板70上升的状态下，在基板70与载物台33之间形成有空间。通过将升降机52的支承臂插入该空间，升降机52能够从载物台33接收基板70。相反，能够从升降机52将基板70移交到载物台33。通过使升降销34下降，能够使基板70紧贴于载物台33。载物台33例如通过真空卡盘固定基板70。涂布装置30对保持于载物台33的基板70的表面涂布由光固化性的树脂构成的膜材料。正式固化装置40包括输送辊41及正式固化用光源42。在涂布装置30中处理后的基板70通过输送装置50被输送到正式固化装置40，并搭载于输送辊41之上。输送辊41向x轴的正方向输送基板70。在基板70的输送路径的上方配置有正式固化用光源42。正式固化用光源42向被输送辊41输送的基板70照射包含使膜材料固化的波长成分的光。图2中示出涂布装置30的概要图及控制装置60的框图。如图1所示，涂布装置30包括平台31、移动机构32及载物台33。此外，涂布装置30包括喷嘴单元35及膜材料供给装置38。控制装置60控制移动机构32，由此能够向x方向及y方向这2个方向移动载物台33。基板70保持于载物台33。在基板70的上方支承有喷嘴单元35。喷嘴单元35包括与载物台33对置的喷嘴头36及临时固化用光源37。膜材料供给装置38向喷嘴头36供给液态的光固化性膜材料，并从喷嘴头36回收多余的膜材料。喷嘴头36上设有多个喷嘴孔，从喷嘴孔朝向基板70吐出经液滴化的膜材料。从喷嘴孔吐出而附着于基板70的膜材料通过从临时固化用光源37发出的光而被临时固化。其中，所谓“临时固化”表示固化至膜材料的表面经固化而形成保护膜，但内部仍旧保持液态的状态。而所谓“正式固化”表示使膜材料的内部也固化。通过正式固化装置40(图1)进行膜材料的正式固化处理。...

【技术保护点】
一种膜形成装置，其具有：载物台，用于保持基板；喷嘴头，与保持于所述载物台的所述基板对置，并朝向所述基板吐出经液滴化的膜材料；移动机构，使保持于所述载物台的所述基板和所述喷嘴头中的一个相对于另一个移动；存储装置，存储待形成膜的图像数据及膜厚补正信息；控制装置，根据所述图像数据控制所述喷嘴头及所述移动机构，由此在所述基板形成具有所述图像数据所定义的图案的膜；及输入装置，用于向所述控制装置输入数据，若从所述输入装置输入有膜厚指令值，则所述控制装置根据所述膜厚补正信息补正所述膜厚指令值，由此计算比所述膜厚指令值厚的膜厚目标值，并且所述控制装置控制所述喷嘴头及所述移动机构，以形成相当于所述膜厚目标值厚度的膜。

【技术特征摘要】
2014.10.10 JP 2014-2085621.一种膜形成装置，其具有：
载物台，用于保持基板；
喷嘴头，与保持于所述载物台的所述基板对置，并朝向所述基板吐出经液
滴化的膜材料；
移动机构，使保持于所述载物台的所述基板和所述喷嘴头中的一个相对于
另一个移动；
存储装置，存储待形成膜的图像数据及膜厚补正信息；
控制装置，根据所述图像数据控制所述喷嘴头及所述移动机构，由此在所
述基板形成具有所述图像数据所定义的图案的膜；及
输入装置，用于向所述控制装置输入数据，
若从所述输入装置输入有膜厚指令值，则所述控制装置根据所述膜厚补正
信息补正所述膜厚指令值，由此计算比所述膜厚指令值厚的膜厚目标值，
并且所述控制装置控制所述喷嘴头及所述移动机构，以形成相当于所述膜
厚目标值厚度的膜。
2.根据权利要求1所述的膜形成装置，其还具有：
等离子体处理装置，对所述基板实施等离子体处理，从而去除形成于所述
基板上的膜的表层部；及
输送装置，将保持于所述载物台的膜形成后的所述基板搬入到所述等离子
体处理装置中，
所述控制装置控制所述输送装置，从而将膜形成后的所述基板搬入到所述
等离子体处...

【专利技术属性】
技术研发人员：冈本裕司，
申请(专利权)人：住友重机械工业株式会社，
类型：发明
国别省市：日本;JP