【技术实现步骤摘要】
本专利技术主要涉及到真空溅射镀膜设备领域，特指一种用于提高成膜均匀性的基片台装置。
技术介绍
在真空溅射镀膜设备领域，成膜均匀性是设备的关键技术指标。溅射镀膜的原理是利用高能离子轰击材料靶，从其表面溅射出粒子并沉积在基片表面上形成薄膜。一般情况下，基片表面的薄膜均匀性由两个方面来决定，一是从材料靶表面溅射出来的粒子的分布情况，二是基片表面接收材料靶粒子的情况。改善成膜均匀性也是从这两个方面考虑。如果材料靶位置不改变，从其表面溅射出粒子的分布规律一般也不变，因此想改善成膜均匀性，可以通过改变基片相对溅射粒子的位置来实现，最常见的方法为基片承载台旋转。但是，当基片较大时（如6英寸、8英寸等），基片台仅能装载单片，此时基片台仅围绕中心旋转，则沿其径向基片相对溅射粒子的分布没有变化，因此基片沿径向均匀性差。
技术实现思路
本专利技术要解决的技术问题就在于：针对现有技术存在的技术问题，本专利技术提供一种结构简单紧凑、能够提高成膜均匀性的基片台装置。为解决上述技术问题，本专利技术采用以下技术方案：一种基片台装置，包括驱动件、基座、从动齿轮、载片盘和支撑杆；所述驱动件用来驱动基座旋转，所述载片盘的支撑轴上套设有偏心齿轮；所述基座的中间开有中心孔和偏心的支撑孔，所述中心孔内套入支撑杆，所述载片盘的支撑轴套入偏心的支撑孔中；所述支撑杆的下端为固定端，所述支撑杆的顶端固定有从动齿轮，所述偏心齿轮与从动齿轮啮合。作为本专利技术的进一步改进：所述基座的下端设置有齿轮部，所述驱动件通过主动齿轮来驱动基座旋转。作为...
【技术保护点】
一种基片台装置，其特征在于，包括驱动件（1）、基座（5）、从动齿轮（6）、载片盘（8）和支撑杆（9）；所述驱动件（1）用来驱动基座（5）旋转，所述载片盘（8）的支撑轴上套设有偏心齿轮（7）；所述基座（5）的中间开有中心孔和偏心的支撑孔，所述中心孔内套入支撑杆（9），所述载片盘（8）的支撑轴套入偏心的支撑孔中；所述支撑杆（9）的下端为固定端，所述支撑杆（9）的顶端固定有从动齿轮（6），所述偏心齿轮（7）与从动齿轮（6）啮合。
【技术特征摘要】
1.一种基片台装置，其特征在于，包括驱动件（1）、基座（5）、从动齿轮（6）、载片盘（8）和支撑杆（9）；所述驱动件（1）用来驱动基座（5）旋转，所述载片盘（8）的支撑轴上套设有偏心齿轮（7）；所述基座（5）的中间开有中心孔和偏心的支撑孔，所述中心孔内套入支撑杆（9），所述载片盘（8）的支撑轴套入偏心的支撑孔中；所述支撑杆（9）的下端为固定端，所述支撑杆（9）的顶端固定有从动齿轮（6），所述偏心齿轮（7）与从动齿轮（6）啮合。
2.根据权利要求1所述的基片台装置，其特征在于，所述基座（5）的下端设置有齿轮部，所述驱动件（1）通过主动齿轮（4）来驱动基座（5）旋转。
3.根据权利要求2所述的基片台装置，其特征在于，所述驱动件（1...
【专利技术属性】
技术研发人员：胡凡，陈特超，陈庆广，
申请(专利权)人：中国电子科技集团公司第四十八研究所，
类型：发明
国别省市：湖南;43
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