一种自适应调节机械运动虚位的双导轨运动机构制造技术

本实用新型专利技术涉及舞台灯机械技术领域，更具体地，涉及一种自适应调节机械运动虚位的双导轨运动机构。一种自适应调节机械运动虚位的双导轨运动机构，包括双导轨、导轨固定座、滑块、支撑板和滑块驱动装置，所述导轨固定座设在所述支撑板上，所述双导轨固定在所述导轨固定座上，所述滑块设于所述双导轨上，所述滑块驱动装置设在所述支撑板上并与所述滑块连接，其中，所述双导轨的两根导轨之间设有公差虚位调节装置。本实用新型专利技术结构简单，使用方便，可以有效补偿导轨与滑块之间的公差虚位，从而提高运动机构的精度。

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及舞台灯机械
，更具体地，涉及一种自适应调节机械运动虚位的双导轨运动机构。
技术介绍
在舞台灯
中，为了实现多样化的舞台灯效果，通常会使用到CMY滤光组件、镜头组件等功能组件，而这些功能组件往往需要通过双导轨机构来实现其运动。在现有的舞台灯中，传统使用的双导轨的原理如图1所示，原理上当导轨和滑块的加工精度实现超高精度时，所固定在滑块上的支架将不会有任何的公差和虚位。但实际上加工的精度不可能做到零公差，而且尺寸之间的公差配合也必须遵循的原理是：固定导轨轴负公差，运动滑块正公差。这样才能保证整个机构装置在过去过程中保持顺滑。否则将会由于加工精度或公差搭配不当造成的虚位问题导致无法安装或移动过程中出现卡死无法移动的问题。大多数情况下，由于使用环境和产品整体设计需求（结构紧凑性）的限制，导轨使用的是单边支撑的模式，为减小公差和虚位，同时使用双轴机构以适当减小公差虚位。即使这样，微小的公差虚位仍会被放大，如图2所示，双导轨之间由于移动物体自身的重力或其他情况，双导轨上的滑块将会产生一定的偏角θ，这个偏角θ经过移动物体的臂长L进行放大后产生偏离指定位置的位移h=L*tanθ。
技术实现思路
本技术为克服上述现有技术所述的至少一种缺陷，提供一种自适应调节机械运动虚位的双导轨运动机构。本技术结构简单，使用方便，可以有效补偿导轨与滑块之间的公差虚位，从而提高运动机构的精度。为解决上述技术问题，本技术采用的技术方案是：一种自适应调节机械运动虚位的双导轨运动机构，包括双导轨、导轨固定座、滑块、支撑板和滑块驱动装置，所述导轨固定座设在所述支撑板上，所述双导轨由两根导轨组成且固定在所述导轨固定座上，所述双导轨固定在所述导轨固定座上，所述滑块设于所述双导轨上，所述滑块驱动装置设在所述支撑板上并与所述滑块连接，其中，所述双导轨运动机构还包括用于调整双导轨两根导轨之间间距的公差虚位调节装置。在滑块驱动装置驱动所述滑块在双导轨上移动时，所述公差虚位调节装置可以自适应的调节导轨与滑块之间的公差虚位，避免出现移动过程中滑块卡死无法移动的问题。进一步的，所述公差虚位调节装置为设于双导轨两根导轨之间的弹性装置，所述双导轨的两根导轨上分别固定有第一弹簧固定座和第二弹簧固定座，所述弹性装置两端分别与第一弹簧固定座和第二弹簧固定座固定连接。所述弹性装置为调节弹簧或弹性筋条。利用调节弹簧或弹性筋条的张力或者拉力，对双导轨之间的间距进行一个自适应的调节，以保证导轨与滑块之间始终是绷紧状态，同时要保证由于调节弹簧或弹性筋条的弹力作用于导轨和滑块上的阻尼小于滑块驱动装置作用于滑块上的驱动力，这样滑块在运动过程中，在滑块驱动装置作用于滑块上的驱动力的作用强制使双导轨间的间距发生变化并达到移动的目的，同时导轨与滑块之间的公差虚位也会得到补偿。调节弹簧或弹性筋条弹力的使用方法视导轨位置的设置而定，当调节弹簧或弹性筋条设置于双导轨的开口一端时，调节弹簧或弹性筋条应使用压缩状态产生的张力使双导轨处于开口状态；当调节弹簧或弹性筋条设置于双导轨闭口一端时，调节弹簧或弹性筋条应使用拉升状态产生的拉力使用双导轨处于闭口状态。进一步的，所述导轨固定座包括第一导轨固定座和第二导轨固定座，所述双导轨的两端分别固定在所述第一导轨固定座和第二导轨固定座上。进一步的，所述滑块驱动装置包括驱动电机、驱动轮、从动轮和传动装置，所述驱动电机设在所述支撑板上所述第一导轨固定座所在的一端，所述从动轮设在所述支撑板上所述第二导轨固定座所在的一端，所述驱动轮设在所述驱动电机的输出轴上，所述传动装置设在所述驱动轮和从动轮之间并与所述滑块连接。所述驱动电机带动驱动轮转动，驱动轮带动传动装置在驱动轮和从动轮之间往复运行，由于传动装置与所述滑块连接，所以所述滑块在传动装置的带动下在所述双导轨上移动。进一步的，所述传动装置包括多种形式。其中一种形式为驱动钢丝绳圈，所述驱动轮和从动轮设有驱动槽，所述驱动钢丝绳圈与所述滑块固定连接，且所述驱动钢丝绳圈套设在所述驱动轮和从动轮的驱动槽上。所述传动装置的另一种形式为环形齿条，所述驱动轮和从动轮为与所述环形齿条配合的齿轮，所述环形齿条套设在所述驱动轮和从动轮上，所述滑块上设有与所述环形齿条配合的齿状结构，且所述齿状结构与所述环形齿条啮合。进一步的，所述滑块上设有功能件，所述功能件在其功能实现的过程中需要移动，所以将其设在滑块上，利用滑块来带动所述功能件的移动；当然也可以是将功能件直接作为滑块设置在双导轨上。所述功能件常用的是设于舞台灯具内部的光学元件。与现有技术相比，本技术的有益效果：本技术在双导轨的两个导轨之间设置公差虚位调节装置，该公差虚位调节装置上设置调节弹簧或弹性筋条，利用调节弹簧或弹性筋条的张力或者拉力，对双导轨之间的间距进行一个自适应的调节，以保证导轨与滑块之间始终是绷紧状态，同时保证由于调节弹簧或弹性筋条的弹力作用于导轨和滑块上的阻尼小于滑块驱动装置作用于滑块上的驱动力，这样滑块在运动过程中，在滑块驱动装置作用于滑块上的驱动力的作用强制使双导轨间的间距发生变化并达到移动的目的，同时导轨与滑块之间的公差虚位也会得到补偿。因此，本技术结构简单，使用方便，可以有效补偿导轨与滑块之间的公差虚位，从而提高运动机构的精度。附图说明图1是导轨与滑块机械结构运动原理示意图。图2是存在公差虚位的导轨与滑块机械结构运动原理示意图。图3是使用公差虚位调节装置的导轨与滑块机械结构运动原理示意图。图4是使用公差虚位调节装置的导轨与滑块机械结构运动原理示意图。图5是实施例1的整体结构示意图。图6是图5的爆炸示意图。图7是图5中A处的局部放大示意图。图8是实施例2的整体结构示意图。图9是图8的爆炸示意图。具体实施方式附图仅用于示例性说明，不能理解为对本专利的限制；为了更好说明本实施例，附图某些部件会有省略、放大或缩小，并不代表实际产品的尺寸；对于本领域技术人员来说，附图中某些公知结构及其说明可能省略是可以理解的。附图中描述位置关系仅用于示例性说明，不能理解为对本专利的限制。实施例1本实施例是将多组自适应调节机械运动虚位的双导轨运动机构应用于舞台灯的CMY滤光组件中。如图5到图7所示，一种自适应调节机械运动虚位的双导轨运动机构，包括双导轨1、导轨固定座、滑块2、支撑板3和滑块驱动装置，所述导轨固定座设在所述支撑板3上，所述双导轨1是指由两个导轨组成的组合，双导轨1固定在所述导轨固定座上，所述滑块2套设于所述双导轨1上，所述滑块驱动装置设在所述支撑板3上并与所述滑块2连接，其中，所述双导轨1的两根导轨之间设有公差虚位调节装置。在滑块驱动装置驱动所述滑块2在双导轨1上移动时，所述公差虚位调节装置可以自适应的调节导轨与滑块2之间的公差虚位，避免出现移动过程中滑块2卡死无法移动的问题。如图5到图7所示，所述公差虚位调节装置包括调节弹簧4、第一弹簧固定座5和第二弹簧固定座6，所述第一弹簧固定座5和第二弹簧固定座6分别固定在所述双导轨1的两根导轨上，所述调节弹簧4的两端分别连接所述第一弹簧固定座5和第二弹簧固定座6。如图3和图4所示，利用调节弹簧4的张力或者拉力，对双导轨1之间的间距进行一个自适应的调节，以保证导轨与滑块2之间始终是绷紧本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种自适应调节机械运动虚位的双导轨运动机构，包括双导轨（1）、导轨固定座、滑块（2）、支撑板（3）和滑块驱动装置，所述导轨固定座设在所述支撑板（3）上，所述双导轨（1）由两根导轨组成且固定在所述导轨固定座上，所述滑块（2）设于所述双导轨（1）上，所述滑块驱动装置设在所述支撑板（3）上并与所述滑块（2）连接，其特征在于，所述双导轨运动机构还包括用于调整双导轨（1）两根导轨之间间距的公差虚位调节装置。

【技术特征摘要】
1.一种自适应调节机械运动虚位的双导轨运动机构，包括双导轨（1）、导轨固定座、滑块（2）、支撑板（3）和滑块驱动装置，所述导轨固定座设在所述支撑板（3）上，所述双导轨（1）由两根导轨组成且固定在所述导轨固定座上，所述滑块（2）设于所述双导轨（1）上，所述滑块驱动装置设在所述支撑板（3）上并与所述滑块（2）连接，其特征在于，所述双导轨运动机构还包括用于调整双导轨（1）两根导轨之间间距的公差虚位调节装置。2.根据权利要求1所述的自适应调节机械运动虚位的双导轨运动机构，其特征在于，所述公差虚位调节装置为设于双导轨（1）两根导轨之间的弹性装置。3.根据权利要求2所述的自适应调节机械运动虚位的双导轨运动机构，其特征在于，所述双导轨（1）的两根导轨上分别固定有第一弹簧固定座（5）和第二弹簧固定座（6），所述弹性装置两端分别与第一弹簧固定座（5）和第二弹簧固定座（6）固定连接。4.根据权利要求3所述的自适应调节机械运动虚位的双导轨运动机构，其特征在于，所述弹性装置为调节弹簧（4）或弹性筋条。5.根据权利要求1所述的自适应调节机械运动虚位的双导轨运动机构，其特征在于，所述导轨固定座包括第一导轨固定座（7）和第二导轨固定座（8），所述双导轨（1）的两端分别固定在所述第一导轨固定座（7）和第二导轨固定座（8）上。6.根据权利要求5所述的自适应调节机械运动虚位的双导轨运动机构，其特征在于...

【专利技术属性】
技术研发人员：蒋伟楷，
申请(专利权)人：广州市浩洋电子有限公司，
类型：新型
国别省市：广东;44