一种支撑件及减压干燥设备制造技术

本实用新型专利技术公开了一种支撑件，其中，所述支撑件包括支撑柱和与所述支撑柱一端连接的支撑帽，所述支撑柱包括支撑底座和支撑针，所述支撑针的一端与所述支撑帽连接，所述支撑针的另一端与所述支撑底座连接，所述支撑针的沿垂直于所述支撑针的轴线方向的横截面积小于所述支撑帽的沿垂直于所述支撑针的轴线方向的横截面积，且所述支撑针的沿垂直于所述支撑针的轴线方向的横截面积小于所述支撑底座的沿垂直于所述支撑针的轴线方向的横截面积。本实用新型专利技术还提供一种减压干燥设备。本实用新型专利技术提供的支撑件能够使得所支撑的基板上各部分的光刻胶均匀挥发。

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及设备制造领域，具体涉及一种支撑件及包括该支撑件的减压干燥设备。
技术介绍
在显示器的生产制造过程中，通常需要进行多次曝光，每次曝光前都需要对基板进行光刻胶的涂覆和涂覆后的减压干燥等工艺。减压干燥指的是快速将密闭空间内的气压降低，使得光刻胶在低压下沸腾以达到溶剂快速挥发的目的。光刻胶涂布后通过减压干燥，能够快速将光刻胶内的溶剂物质挥发，使得光刻胶厚度均一性满足后续工艺要求。在减压干燥过程中，支撑装置的形状和材料结构等对减压干燥的效果都会产生一定的影响。如图1所示，为现有技术中减压干燥设备结构示意图，包括减压干燥腔2以及设置在减压干燥腔2内的支撑装置1，支撑装置1包括多个支撑件10，每个支撑件10包括支撑柱11和支撑帽12，其中支撑帽12在支撑基板时与基板直接接触。但是，图1中的减压干燥设备会导致基板上光刻胶溶剂挥发不均匀的现象发生。
技术实现思路
本技术旨在至少解决现有技术中存在的技术问题之一，提出了一种支撑件及减压干燥设备。为实现上述目的，作为本技术的第一个方面，提供一种支撑件，所述支撑件用于减压干燥设备中，所述减压干燥设备包括减压干燥腔和设置在所述减压干燥腔中的支撑装置，所述支撑装置包括多个支撑件，其中，所述支撑件包括支撑柱和与所述支撑柱一端连接的支撑帽，所述支撑柱包括支撑底座和支撑针，所述支撑针的一端与所述支撑帽连接，所述支撑针的另一端与所述支撑底座连接，所述支撑针的沿垂直于所述支撑针的轴线方向的横截面积小于所述支撑帽的沿垂直于所述支撑针的轴线方向的横截面积，且所述支撑针的沿垂直于所述支撑针的轴线方向的横截面积小于所述支撑底座的沿垂直于所述支撑针的轴线方向的横截面积。优选地，所述支撑底座和所述支撑针均为圆柱状，所述支撑针的直径与所述支撑底座的直径之比为1:15至1:8。优选地，所述支撑针的高度不小于10mm。优选地，所述支撑针的直径在0.4mm至1mm之间。优选地，所述支撑帽包括本体和尖部，所述本体与所述支撑针相连，所述尖部背离所述支撑针。优选地，所述本体为圆柱状，所述本体的直径在0.6mm至2mm之间。作为本技术的第二个方面，提供一种减压干燥设备，所述减压干燥设备包括减压干燥腔和设置在所述减压干燥腔中的支撑装置，所述支撑装置包括多个支撑件，其中，所述支撑件为前文所述的支撑件。优选地，所述支撑装置还包括支撑台，所述支撑底座固定设置在所述支撑台上。优选地，所述支撑底座与所述支撑台相对的表面上沿各自厚度方向分别形成有连接孔，所述支撑底座与所述支撑台之间通过连接件连接，所述连接件的一端插入到所述支撑底座的连接孔内，所述连接件的另一端插入到所述支撑台的连接孔内。优选地，所述支撑台包括磁性支撑台，所述支撑底座由铁磁材料制成，所述支撑底座设置在所述支撑台的表面。本技术提供的支撑件，通过将支撑柱设置成支撑底座和支撑针的形式，且支撑针的沿垂直于支撑针的轴线方向的横截面积小于支撑帽的沿垂直于支撑针的轴线方向的横截面积，当该支撑件应用于减压干燥设备中，在支撑帽支撑的基板进行减压干燥时，支撑针和支撑帽不会影响基板上支撑点周围的气流流动，解决了现有技术中由于支撑柱的体积大而影响气流速度造成的基板上光刻胶挥发不均匀的问题，能够使得所支撑的基板上各部分的光刻胶溶剂均匀挥发。附图说明附图是用来提供对本技术的进一步理解，并且构成说明书的一部分，与下面的具体实施方式一起用于解释本技术，但并不构成对本技术的限制。在附图中：图1为现有技术中的减压干燥设备结构示意图；图2为本技术提供的一种减压干燥设备结构示意图；图3为本技术提供的支撑件的结构示意图；图4为本技术提供的支撑件与支撑台之间连接的一种结构示意图。其中，1、支撑装置；10、支撑件；11、支撑柱；111、支撑底座；112、支撑针；12、支撑帽；13、支撑台；14、连接件；2、减压干燥腔。具体实施方式以下结合附图对本技术的具体实施方式进行详细说明。应当理解的是，此处所描述的具体实施方式仅用于说明和解释本技术，并不用于限制本技术。经本技术的专利技术人研究发现，图1中所示的减压干燥设备导致基板上光刻胶溶剂挥发不均匀的现象发生的原因如下：图1中支撑柱11由于体积较大，影响了周围环境的气流，使得基板上位于支撑柱11上方的光刻胶溶剂的散热速度与基板上其他位置的光刻胶溶剂的散热速度不一样，从而导致基板上光刻胶厚度不均一的现象发生。需要说明的是，本技术中所提到的方位词“上”、“下”均是针对本技术附图中所示的方向。所述的“支撑针的轴线方向”是指图2和图3中的上下方向，而“垂直于支撑针的轴线方向”是指图2和图3中的左右方向。作为本技术的第一个方面，如图2和图3所示，提供一种支撑件10，支撑件10用于减压干燥设备中，所述减压干燥设备包括减压干燥腔2和设置在减压干燥腔2中的支撑装置1，支撑装置1包括多个支撑件10，其中，支撑件10包括支撑柱11和与支撑柱11一端连接的支撑帽12，支撑柱11包括支撑底座111和支撑针112，支撑针112的一端与支撑帽12连接，支撑针112的另一端与支撑底座111连接，支撑针112的沿垂直于支撑针112的轴线方向的横截面积小于支撑帽12的沿垂直于支撑针112的轴线方向的横截面积，且支撑针112的沿垂直于支撑针112的轴线方向的横截面积小于支撑底座111的沿垂直于支撑针112的轴线方向的横截面积。本技术提供的支撑件，通过将支撑柱设置成支撑底座和支撑针的形式，且支撑针的沿垂直于支撑针的轴线方向的横截面积小于支撑帽的沿垂直于支撑针的轴线方向的横截面积，当该支撑件应用于减压干燥设备中，在支撑帽支撑的基板进行减压干燥时，支撑针和支撑帽不会影响基板上支撑点周围的气流流动，解决了现有技术中由于支撑柱的体积大而影响气流速度造成的基板上光刻胶挥发不均匀的问题，能够使得所支撑的基板上各部分的光刻胶溶剂均匀挥发。具体地，如图2所示，所述减压干燥设备包括的减压干燥腔2为密闭真空腔。支撑装置1设置在减压干燥腔2内，支撑装置1由多个支撑件10组成，多个支撑件10能够共同支撑基板。基板上存在多个与支撑件10接触的支撑点。本技术中支撑柱11通过采用支撑针112和支撑底座111相结合的形式，支撑针112的横截面积远小于支撑底座111的横截面积，支撑针112的体积不会影响到气流的流动，所以该支撑装置1不会影响支撑点附近光刻胶溶剂的挥发速度。另外，本技术中由于支撑柱11为分体式结构，所以支撑针112和支撑底座111可以分别采用不同的材料制成。例如，支撑底座111可以采用强度较大的工程塑料，如聚醚醚酮(PEEK)、酰亚胺(PAI)或聚酰亚胺(PI)等，而支撑针112由于直径较小，为了保证支撑强度，可以采用不锈钢材料或者钨钢材料制成，支撑帽12由于直接与基板接触，为了避免与基板之间产生热交换及对基板造成划伤等，支撑帽12的制作材料为工程塑料，如聚醚醚酮(PEEK)、酰亚胺(PAI)或聚酰亚胺(PI)等。作为一种优选地实施方式，支撑帽12的制作材料优选为聚醚醚酮(PEEK)，支撑针112的制作材料优选为钨钢，支撑底座111的制作材料优选为聚醚醚酮(PEEK)。支撑底座111的制作材料采用工程塑料等热导率低的材料，本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种支撑件，所述支撑件用于减压干燥设备中，所述减压干燥设备包括减压干燥腔和设置在所述减压干燥腔中的支撑装置，所述支撑装置包括多个支撑件，其特征在于，所述支撑件包括支撑柱和与所述支撑柱一端连接的支撑帽，所述支撑柱包括支撑底座和支撑针，所述支撑针的一端与所述支撑帽连接，所述支撑针的另一端与所述支撑底座连接，所述支撑针的沿垂直于所述支撑针的轴线方向的横截面积小于所述支撑帽的沿垂直于所述支撑针的轴线方向的横截面积，且所述支撑针的沿垂直于所述支撑针的轴线方向的横截面积小于所述支撑底座的沿垂直于所述支撑针的轴线方向的横截面积。

【技术特征摘要】
1.一种支撑件，所述支撑件用于减压干燥设备中，所述减压干燥设备包括减压干燥腔和设置在所述减压干燥腔中的支撑装置，所述支撑装置包括多个支撑件，其特征在于，所述支撑件包括支撑柱和与所述支撑柱一端连接的支撑帽，所述支撑柱包括支撑底座和支撑针，所述支撑针的一端与所述支撑帽连接，所述支撑针的另一端与所述支撑底座连接，所述支撑针的沿垂直于所述支撑针的轴线方向的横截面积小于所述支撑帽的沿垂直于所述支撑针的轴线方向的横截面积，且所述支撑针的沿垂直于所述支撑针的轴线方向的横截面积小于所述支撑底座的沿垂直于所述支撑针的轴线方向的横截面积。2.根据权利要求1所述的支撑件，其特征在于，所述支撑底座和所述支撑针均为圆柱状，所述支撑针的直径与所述支撑底座的直径之比为1:15至1:8。3.根据权利要求2所述的支撑件，其特征在于，所述支撑针的高度不小于10mm。4.根据权利要求2所述的支撑件，其特征在于，所述支撑针的直径在0.4mm至1mm之间。5.根据权利要求1至4中任意一项所述的支撑件，其...

【专利技术属性】
技术研发人员：张心杰，吴昌樺，赵武，张卫帅，丁瑞，
申请(专利权)人：合肥鑫晟光电科技有限公司，京东方科技集团股份有限公司，
类型：新型
国别省市：安徽;34