本实用新型专利技术公开了一种蚀刻设备及其蚀刻装置，该蚀刻装置包括机架以及喷液装置，该机架包括用于收容蚀刻液的蚀刻腔以及水平贯穿该蚀刻腔的输送通道，该喷液装置安装于该机架内与该输送通道正对；该喷液装置包括上喷液单元以及与该上喷液单元连成一体的下喷液单元，该上喷液单元位于该输送通道上方且向下正对该输送通道，该下喷液单元位于该输送通道下方且向上正对该输送通道。本实用新型专利技术的蚀刻装置中，由于喷液装置的上喷液单元与下喷液单元为连成一体的构造，为周边配套装置的安装提供了便利。
【技术实现步骤摘要】
本技术涉及一种成型设备，尤其涉及一种蚀刻设备及其蚀刻装置。
技术介绍
现有的诸如集成电路引线框架在制作过程中，通常都会通过精密冲压的方式在料带上形成通孔或引脚等。冲压的方式一定程度上的满足了引线框架的制作需求。然而，随着电子技术的飞速发展，集成电路的体积越来越小，引脚的数量越来越多。此时，如果仍然采用传统的冲压方式进行成型，模具的花费非常高昂。因此，有必要采用新的技术来替代。
技术实现思路
本技术要解决的技术问题在于，提供一种改进的蚀刻设备及其蚀刻装置。本技术解决其技术问题所采用的技术方案是：提供一种蚀刻设备用蚀刻装置，包括机架以及喷液装置，该机架包括用于收容蚀刻液的蚀刻腔以及水平贯穿该蚀刻腔的输送通道，该喷液装置安装于该机架内与该输送通道正对；该喷液装置包括上喷液单元以及与该上喷液单元连成一体的下喷液单元，该上喷液单元位于该输送通道上方且向下正对该输送通道，该下喷液单元位于该输送通道下方且向上正对该输送通道。在一些实施例中，该喷液装置呈U型，其包括U型支架以及安装于该U型支架上的U型管网。在一些实施例中，该U型支架包括U型前框、U型后框以及将该前框与该后框相连接的连接框，该前框和后框分别与第一滚轮组和第二滚轮组相配合。在一些实施例中，该U型管网包括水平布置在该输送通道上方的上管网单元、水平布置在输送通道下方的下管网单元以及将上管网单元和下管网单元相连通的连接管网单元；该上管网单元和该下管网单元均包括若干个平行间隔布置的喷管，每一喷管上均布置有若干个喷嘴；且该上管网单元上的喷嘴朝下，该下管网单元上的喷嘴朝上。在一些实施例中，所述上喷液单元与所述下喷液单元的液流通道相隔离，并分别与第一蚀刻液入口和与第二蚀刻液入口相连通。在一些实施例中，该喷液装置安装于该机架内与该输送通道正对，并可在该机架横向上来回移动；该蚀刻装置还包括驱动装置，该驱动装置安装于机架上，并与喷液装置相连接，以驱动喷液装置相对于机架在横向上来回移动。在一些实施例中，该驱动装置包括驱动马达、安装于该驱动马达输出轴上的转盘以及转动连接于转盘上的连杆，该连杆一端与该转盘上与该输出轴相隔一定距离处，另一端转动连接于该喷液装置上。在一些实施例中，该机架前侧和后侧还分别设置第一滚轮组和第二滚轮组，该喷液装置的前后两侧分别配合于该第一滚轮组和第二滚轮组上，让该喷液装置能够在机架横向上来回移动地安装于该机架上。在一些实施例中，该机架包括用于方便蚀刻腔内维护的维护窗以及可拆卸地密封覆盖于该维护窗的透明盖板，该盖板的外侧还可拆卸地密封覆盖有透明保护板。在一些实施例中，该透明盖板与该透明保护板之间形成有间隔，且该间隔内设置有照明装置和喷淋装置。还提供一种蚀刻设备，包括卷式放料装置、片料放料装置、显影装置、拉料装置、上述任一项中的蚀刻装置、片式收料装置以及卷式收料装置。本技术的有益效果：本技术的蚀刻装置中，由于喷液装置的上喷液单元与下喷液单元为连成一体的构造，为周边配套装置的安装提供了便利。附图说明下面将结合附图及实施例对本技术作进一步说明，附图中：图1是本技术一些实施例中的蚀刻设备的侧视图；图2是图1所示蚀刻设备的俯视图；图3是图2所示蚀刻装置的立体结构示意图；图4是图3所示蚀刻装置的第一纵向剖面结构示意图，示出了驱动装置与喷液装置之间的连接关系；图5是图4所示蚀刻装置的平面剖视图；图6是图3所示蚀刻装置第二纵向剖面结构示意图，示出了喷液装置前侧与机架之间的配合关系；图7是图3所示蚀刻装置横向剖面结构示意图，示出了驱动装置与喷液装置之间的连接关系；图8是图3所示蚀刻装置第三纵向剖面结构示意图，示出了喷液装置的中部的结构。具体实施方式为了对本技术的技术特征、目的和效果有更加清楚的理解，现对照附图详细说明本技术的具体实施方式。本技术一些实施例提供了一种蚀刻设备，该蚀刻设备可用于诸如集成电路引线框架等结构的蚀刻成型，具备成型精度高、成本低廉的优点。另外，本蚀刻设备还能实现卷对卷(卷料进卷料出)、卷对片(卷料进片料出)以及片对片(片料进片料出)等多功能，极大地满足了用户的不同需求。如图1及图2所示，本技术一些实施例中的蚀刻设备可依序包括卷式放料装置A、输送辊道B、校平装置C、拉料装置D、显影装置E、第一水洗装置F、第一烘干装置G、蚀刻装置H、第二水洗装置I、剥离装置J、第三水洗装置K、第二烘干装置L、片式收料装置M以及卷式收料装置N。卷式放料装置A用于承载并平稳放出卷料，该卷料可为按照需要曝光后的材料。可以理解地，在一些实施例中也可以把曝光设备整合到蚀刻设备，从而可以在蚀刻设备中进行曝光。该输送辊道B大致贯穿整个蚀刻设备，以将料带或片料由上游向下游平稳输送，该输送辊道B可包括一个可敞开的前端，以供片料放入，形成片料放料装置。校平装置C可布置在该片料放料装置的紧邻下游，用于对料带进行校平，防止料带不够平整而影响到后续的蚀刻效果。拉料装置D用于拉动料带驱动料带向下游行进，使得卷料被蚀刻呈片料时，料带仍然能够很好地移动。显影装置E用于对曝光后的料带或片料进行显影。第一水洗装置F用于对显影后的料带或片料进行清洗，防止显影药水被带入下游的蚀刻装置H中，而对蚀刻装置H内药水造成污染。第一烘干装置G用于对清洗后的料带进行烘干，在一些实施例中，在第一水洗装置F和第一烘干装置G之间还设置有吸水装置P。蚀刻装置H用于对显影后的料带或片料进行蚀刻，以形成需要的成型结构；蚀刻装置H可以将料带蚀刻成片料。第二水洗装置I用于对蚀刻后的料带或片料进行清洗，剥离装置J用于对清洗后的料带或片料上的菲林膜进行剥离，并具备菲林膜废渣回收功能，以节约剥离药水的使用。第三水洗装置K用于对剥离菲林膜的料带或片料进行清洗，第二烘干装置L则用于对清洗后的料带或片料进行烘干；同样，第三水洗装置K和第二烘干装置L之间也可以设置吸水装置P。片式收料装置M用于收取片料，卷式收料装置N用于收取卷料。在上述的蚀刻设备中，由于同时具备了卷式放料装置A、片料放料装置、显影装置E、拉料装置D、蚀刻装置H、片式收料装置M以及卷式收料装置N，使得该蚀刻设备具备卷对卷、卷对片以及片对片三种蚀刻成型模式。具体而言，当需要卷料进和卷料出时，则只要片料放料装置和片式收料装置M不工作即可。当需要卷料进和片料出时，只要卷式收料装置N不工作即可。而当需要片料进和片料出时，只要卷式放料装置A和卷式收料装置N不工作即可。如此，该蚀刻设备为用户的使用带来了极大的便利。如图3至图5所示，蚀刻装置H在一些实施例中可包括机架1、输送辊道2、喷液装置3以及驱动装置4，该机架1包括用于收容蚀刻液的蚀刻腔11以及水平贯穿该蚀刻腔11的输送通道12，输送辊道2纵向穿置于该输送通道12中。喷液装置3安装于机架1内与输送通道12正对，并可在机架1横向上来回移动；喷液装置3的来回移动可以防止蚀刻液在料带表面的局部积聚，而形成水池效应，亦即，蚀刻液在料带表面的局部积聚会造成蚀刻液中离子浓度不均，进而影响蚀刻效果。驱动装置4安装于机架1上，并与喷液装置3相连接，以驱动喷液装置3相对于机架1在横向上来回移动。该机架1还可包括用于方便蚀刻腔11内维护的维护窗13以及可拆卸地密封覆盖于该维护窗13的透明盖板14，该盖板14的外本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种蚀刻设备用蚀刻装置，包括机架(1)以及喷液装置(3)，该机架(1)包括用于收容蚀刻液的蚀刻腔(11)以及水平贯穿该蚀刻腔(11)的输送通道(12)，该喷液装置(3)安装于该机架(1)内与该输送通道(12)正对；其特征在于：该喷液装置(3)包括上喷液单元以及与该上喷液单元连成一体的下喷液单元，该上喷液单元位于该输送通道(12)上方且向下正对该输送通道(12)，该下喷液单元位于该输送通道(12)下方且向上正对该输送通道(12)。
【技术特征摘要】
1.一种蚀刻设备用蚀刻装置，包括机架(1)以及喷液装置(3)，该机架(1)包括用于收容蚀刻液的蚀刻腔(11)以及水平贯穿该蚀刻腔(11)的输送通道(12)，该喷液装置(3)安装于该机架(1)内与该输送通道(12)正对；其特征在于：该喷液装置(3)包括上喷液单元以及与该上喷液单元连成一体的下喷液单元，该上喷液单元位于该输送通道(12)上方且向下正对该输送通道(12)，该下喷液单元位于该输送通道(12)下方且向上正对该输送通道(12)。2.根据权利要求1所述的蚀刻装置，其特征在于，该喷液装置(3)呈U型，其包括U型支架(31)以及安装于该U型支架(31)上的U型管网(32)；该U型支架(31)包括U型前框(311)、U型后框(312)以及将该前框(311)与该后框(312)相连接的连接框(313)，该前框(311)和后框(312)分别与第一滚轮组(17)和第二滚轮组(18)相配合。3.根据权利要求2所述的蚀刻装置，其特征在于，该U型管网32包括水平布置在该输送通道(12)上方的上管网单元(321)、水平布置在输送通道(12)下方的下管网单元(322)以及将上管网单元(321)和下管网单元(322)相连通的连接管网单元(323)；该上管网单元(321)和该下管网单元(322)均包括若干个平行间隔布置的喷管，每一喷管上均布置有若干个喷嘴；且该上管网单元(321)上的喷嘴朝下，该下管网单元(322)上的喷嘴朝上。4.根据权利要求1所述的蚀刻装置，其特征在于，所述上喷液单元与所述下喷液单元的液流通道相隔离，并分别与第一蚀刻液入口(3230)和与第二蚀刻液入口(3232)相...
【专利技术属性】
技术研发人员：苏骞，刘全胜，金永哲，乌磊，孟敏，
申请(专利权)人：深圳市奥美特科技有限公司，
类型：新型
国别省市：广东;44
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