基片升温装置制造方法及图纸
【技术实现步骤摘要】
本技术属于气相沉积薄膜领域，具体涉及一种基片升温装置。
技术介绍
薄膜的沉积涉及各种领域，沉积前及沉积过程中基片台的温度的控制非常重要，往往需要维持在几百甚至上千摄氏度，以保证沉积前的基片处理和沉积过程中薄膜的生长、均匀分布和品质的需要。在镀膜生产中，若温度不能维持或不能达到相应温度，会严重地影响膜层的品质，因此维持基片台温度非常重要。在常规气相沉积设备中，基片台置于加热系统周围，而外围就是水冷系统直接吸收辐射的能量，这样造成大量热直接的散失，延长了将基片加热到相应温度所需的时间，而且实测基片温度远远低于所设置的温度，而常规解决方案多为增大功率或使用两个或多个加热系统，这样的做法虽然使基片温度在一定程度上得到了提升，但是相对于所花费的成本来说是得到的效果是差强人意的，因此维持基片温度，减缓热量散失显得额外重要。
技术实现思路
本技术的目的是提供一种基片升温装置，该装置能减缓热量散失、实现快速加热，在相同功率下温度更高、维持温度更稳定。本技术所采用的技术方案是：一种基片升温装置，包括基片台、设在基片台上的加热系统、将基片台包围的水冷系统；基片台和水冷系统之间设有一圈或多圈耐高温隔热套，耐高温隔热套与基片台和水冷系统之间均存在间隙。进一步地，耐高温隔热套高于基片台。进一步地，耐高温隔热套材料为不锈钢。进一步地，加热系统为钼片加热系统。本技术的有益效果是：1.耐高温隔热套能减缓基片台和水冷系统之间的能量传递，能有效地集中热量、减缓热散失，使加热系统快速加热基片台，在相同功率下温度更高、维持温度更稳定。2.耐高温隔热套高于基片台，有效的减少了基片台径向的热散失。3.不锈...
【技术保护点】
一种基片升温装置，包括基片台、设在基片台上的加热系统、将基片台包围的水冷系统，其特征在于：基片台和水冷系统之间设有一圈或多圈耐高温隔热套，耐高温隔热套与基片台和水冷系统之间均存在间隙。
【技术特征摘要】
1.一种基片升温装置，包括基片台、设在基片台上的加热系统、将基片台包围的水冷系统，其特征在于：基片台和水冷系统之间设有一圈或多圈耐高温隔热套，耐高温隔热套与基片台和水冷系统之间均存在间隙。2.如权利要求...
【专利技术属性】
技术研发人员：王升高，崔丽佳，刘星星，陈睿，张维，皮小强，
申请(专利权)人：武汉工程大学，
类型：新型
国别省市：湖北;42
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