【技术实现步骤摘要】
本技术属于研磨液加工装置领域,尤其涉及一种研磨液配制装置。
技术介绍
研磨液由磨粒分散于介质制备而成,是一种具有优良化学机械性能的研磨产品,可用于硅片、化合物晶体、精密光学器件、液晶面板、宝石、金属工件等的研磨抛光。磨粒是研磨液机械作用的关键因素,不同种类、不同粒度的磨粒磨削效果不同,适合于不同的加工要求。一般来讲磨料硬度越高、颗粒越大,其磨削效率越高、加工表面光洁度越低;相反磨料硬度越低、颗粒越小,其磨削效率越低、加工表面光洁度越高。介质是磨粒的载体,影响着磨粒的分散,在加工过程中起到冷却、排屑等作用,有时还会起到化学腐蚀的作用。磨粒的粒度均一性能对研磨效果具有重要影响,其在配制过程中需要经过过滤装置过滤,滤除其中的大颗粒磨粒。现有的配置装置不具有过滤功能,使用非常不方便。
技术实现思路
本技术针对上述技术问题,提供了一种具有过滤功能的研磨液配制装置。本技术所采用的技术方案为:一种研磨液配制装置,其特征在于:包括底座、配制罐、转轴、电机、轴承、第一限位块、物料网、第二限位块、过滤网、残渣接收板、进液管、排液管、气缸,所述电机固定于所述底座上并且其输出轴与第一转轮相连,所述轴承固定于所述底座上,所述转轴的下端设置于所述轴承中并且其上端固定于所述配制罐的底部,所述转轴上固定有第二转轮,所述第一转轮、第二转轮通过皮带传动,所述配制罐的顶部设置有开启盖,所述开启盖的一端通过盖体转轴铰接于所述配制罐上并且其另一端通过锁体紧固于配制罐上,所述第一限位块固定于所述配制罐的内侧上部,所述物料网设置于所述第一限位块上方并且通过压紧块压紧,所述配制罐的中部设置有残渣开启盖,所 ...
【技术保护点】
一种研磨液配制装置,其特征在于:包括底座、配制罐、转轴、电机、轴承、第一限位块、物料网、第二限位块、过滤网、残渣接收板、进液管、排液管、气缸,所述电机固定于所述底座上并且其输出轴与第一转轮相连,所述轴承固定于所述底座上,所述转轴的下端设置于所述轴承中并且其上端固定于所述配制罐的底部,所述转轴上固定有第二转轮,所述第一转轮、第二转轮通过皮带传动,所述配制罐的顶部设置有开启盖,所述开启盖的一端通过盖体转轴铰接于所述配制罐上并且其另一端通过锁体紧固于配制罐上,所述第一限位块固定于所述配制罐的内侧上部,所述物料网设置于所述第一限位块上方并且通过压紧块压紧,所述配制罐的中部设置有残渣开启盖,所述第二限位块固定于所述配制罐的中部内侧,所述过滤网设置于所述第二限位块上并且其位于所述残渣开启盖的内侧,所述气缸固定于所述配制罐的外部并且其与配制罐内部的刮板相连,所述刮板贴合设置于所述过滤网的上方,所述残渣接收板固定于所述配制罐的外部并且其位于所述残渣开启盖的下方,所述进液管与配制罐的顶部相连通,所述排液管与配制罐底部相连通。
【技术特征摘要】
1.一种研磨液配制装置,其特征在于:包括底座、配制罐、转轴、电机、轴承、第一限位块、物料网、第二限位块、过滤网、残渣接收板、进液管、排液管、气缸,所述电机固定于所述底座上并且其输出轴与第一转轮相连,所述轴承固定于所述底座上,所述转轴的下端设置于所述轴承中并且其上端固定于所述配制罐的底部,所述转轴上固定有第二转轮,所述第一转轮、第二转轮通过皮带传动,所述配制罐的顶部设置有开启盖,所述开启盖的一端通过盖体转轴铰接于所述配制罐上并且其另一端通过锁体紧固于配制罐上,所述第一限位块固定于所述配制罐的内侧上部,所述物料网设置于所述第一限位块上方并且通过压...
【专利技术属性】
技术研发人员:不公告发明人,
申请(专利权)人:天津西美科技有限公司,
类型:新型
国别省市:天津;12
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