一种用于石英晶体的高激励电清洗装置制造方法及图纸

一种用于石英晶体的高激励电清洗装置，包括底座，所述底座上固定有支撑架，所述支撑架上安装有清洗装置，所述清洗装置上设置有多组探针，所述探针与激励电路相连接，所述清洗装置的下方设置有托板，其特征在于：所述托板的下方设置有氮气吹扫装置，所述氮气吹扫装置固定在底座上，氮气吹扫装置上均匀分布有氮气吹管。本实用新型专利技术在托板底部设置安装有氮气吹管的氮气吹扫装置，这样可以在清洗过程中通过氮气将清洗过程中产生的杂物吹扫出托盘，使得杂物不会依附在石英晶体的表面，提高晶体生产的直通率。

High excitation electric cleaning device for quartz crystal

A quartz crystal for high excitation electric cleaning device, which comprises a base, the base is fixed on the support frame, the support frame is provided with a cleaning device, the cleaning device is provided with a plurality of probe, the probe and the driving circuit is connected with the cleaning device is arranged under the pallet, which is characterized in that: a nitrogen purge device is arranged below the supporting plate, wherein the nitrogen purging device is fixed on the base, nitrogen blowing nitrogen blowing and sweeping device on uniform distribution. The utility model is provided with installation of nitrogen nitrogen blowing blowing device in the bottom plate, so can the nitrogen in the cleaning process will be generated in the process of cleaning debris blowing out of the pallet, the debris will not attached on the surface of the quartz crystal, improve the yield of crystal production.

【技术实现步骤摘要】

本技术属于石英晶体生产领域，具体涉及一种用于石英晶体的高激励电清洗装置。
技术介绍
为清洗石英晶体产品，采用高激励电清洗装置，现有的高激励电清洗装置仅针对单个产品进行清洗，或者少量产品清洗，而且现有的高激励电清洗装置的结构非常复杂，故障率高；这些情况都影响到了产品的生产效率，需要花费大量的工作时间，远远无法满足现有的生产需要。中国专利授权公告号CN 201632449U，授权公告日为2010年11月17日的技术公开了一种石英晶体高激励电清洗装置，它包括基座、支撑臂、清洗装置，支撑臂竖直安装于基座上，清洗装置可上下移动的安装于支撑臂上；所述的清洗装置上具有多个探针工位，探针工位上安装有探针，探针与激励电路相连接；所述的基座上具有生产工装位置，生产工装位置内具有多个产品工位，各探针分别对应各产品工位；所述的支撑臂上安装有驱动清洗装置移动的汽缸。该技术采用汽缸控制移动臂移动，且探针与生产工装位置的产品工位对应，使装置实现自动化操作，且有效提高生产效率，保证物料质量。但是在电激励清洗过程中，清洗产生的杂物无处排泄会滞留在托板上，并很可能依附在石英晶体表面，影响晶体生产的直通率。
技术实现思路
本技术的目的是克服现有技术的缺点和不足，提供一种结构简单、能够有效去除生产过程中产生的杂物的用于石英晶体的高激励电清洗装置。为实现以上目的，本技术的技术解决方案是：一种用于石英晶体的高激励电清洗装置，包括底座，所述底座上固定有支撑架，所述支撑架上安装有清洗装置，所述清洗装置上设置有多组探针，所述探针与激励电路相连接，所述清洗装置的下方设置有托板，其特征在于：所述托板的下方设置有氮气吹扫装置，所述氮气吹扫装置固定在底座上，氮气吹扫装置上均匀分布有氮气吹管。所述氮气吹扫装置包括固定在底座上的底板和与底盘成90°的折边，所述氮气吹管设置在底板上，所述折边上设置有吸气孔所述吸气孔与吸气装置相连接。与现有技术相比，本技术的有益效果为：1、本技术在托板底部设置安装有氮气吹管的氮气吹扫装置，这样可以在清洗过程中通过氮气将清洗过程中产生的杂物吹扫出托盘，使得杂物不会依附在石英晶体的表面，提高晶体生产的直通率。2、本技术中设置在氮气吹扫装置上的吸气孔可以将散落在底座上的杂物直接吸走，避免杂物飞扬造成二次附着。附图说明图1是本技术的结构示意图。图中：底座1，支撑架2，清洗装置3，探针4，托板5，氮气吹扫装置6，氮气吹管7，底板8，折边9，吸气孔10。具体实施方式以下结合附图说明和具体实施方式对本技术作进一步详细的说明。参见图1，一种用于石英晶体的高激励电清洗装置，包括底座1，所述底座1上固定有可做升降运动的支撑架2，所述支撑架2上安装有清洗装置3，所述清洗装置3上设置有多组探针4，所述探针4与激励电路相连接，所述清洗装置3的下方设置有托板5，托板5侧部设置有可使托板5进行横向运动的步进马达，所述托板5的下方设置有氮气吹扫装置6，所述氮气吹扫装置6包括固定在底座1上的底板8和与底板8成90°的折边9，所述氮气吹管7设置在底板8上，所述折边9上设置有吸气孔10，所述吸气孔10与吸气装置相连接。本技术的工作过程为：将装有石英晶体的治具放置在托板5上，支撑架2下压探针4接触晶体脚位PAD，通过高激励电清洗装置3对晶体做电清洗动作，电清洗动作的同时托板5下方的氮气吹吸气6装置同时启动，氮气吹管7将晶体表面异物吹除下来，再通过折边9上的吸气孔10将异物排走，不会造成异物在环境内飞扬产生二次附着，一个电清洗动作完成后支撑架2升起，托板5侧部的步进马达步进，连续循环的做自动电清洗作业。本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种用于石英晶体的高激励电清洗装置，包括底座（1），所述底座（1）上固定有支撑架（2），所述支撑架（2）上安装有清洗装置（3），所述清洗装置（3）上设置有多组探针（4），所述探针（4）与激励电路相连接，所述清洗装置（3）的下方设置有托板（5），其特征在于：所述托板（5）的下方设置有氮气吹扫装置（6），所述氮气吹扫装置（6）固定在底座（1）上，氮气吹扫装置（6）上均匀分布有氮气吹管（7）。

【技术特征摘要】
1.一种用于石英晶体的高激励电清洗装置，包括底座（1），所述底座（1）上固定有支撑架（2），所述支撑架（2）上安装有清洗装置（3），所述清洗装置（3）上设置有多组探针（4），所述探针（4）与激励电路相连接，所述清洗装置（3）的下方设置有托板（5），其特征在于：所述托板（5）的下方设置有氮气吹扫装置（6），所述氮气吹扫装置（6）固定在...

【专利技术属性】
技术研发人员：王金涛，杨勇，叶秀忠，
申请(专利权)人：随州泰华电子科技有限公司，
类型：新型
国别省市：湖北;42