加工衬底的装置制造方法及图纸

一种用于加工衬底的装置，包括：加载口，其上设有容纳衬底的衬底传送容器；加工部件，其被配置以加工衬底；以及包括索引机器人的索引部件，其被配置以在所述衬底传送容器和所述加工部件之间运载衬底，其中所述加工部件包括：第一传送室，其被配置以具有运载衬底并邻近所述索引部件布置的第一主运载机器人；第二传送室，其被配置以具有运载衬底并邻近所述第一传送室布置的第二主运载机器人；以及穿梭缓冲部件，其被配置以在所述第一传送室和所述第二传送室之间移动从而在所述第二主运载机器人和所述索引机器人之间传送衬底。

Apparatus for processing substrate

An apparatus for processing a substrate including the loading port, a substrate transfer container is arranged on the substrate; processing unit configured to process a substrate; and the robot including index index component, which is configured to transfer the substrate between the container and the processing part of the carrier substrate, wherein the the processing component includes a first transfer chamber, which is configured to carry the substrate and adjacent to the layout of the first main index component carrying robot; second transfer chambers configured to have a carrier substrate and adjacent to the second main transport robot first transfer chamber arrangement; and the shuttle buffer member is configured to in between the first transfer chamber and the second transfer chambers moved to transfer the substrate between the second main transport robot and the robot index.

【技术实现步骤摘要】

本文中描述的专利技术构思的实施方式涉及一种加工衬底的装置，更具体地涉及一种用于清洁衬底的装置。
技术介绍
在制造衬底的一般工艺中，单元加工步骤(沉积、蚀刻、涂覆光致抗蚀剂、显影和去灰)被重复许多次以形成微细图案的排列。在此工艺之后，在衬底中可能存在通过蚀刻或去灰步骤未完全去除的残余物。去除这种残余物的工艺为使用去离子水或化学品的湿法清洁工艺。在衬底清洁装置中，通过置于衬底上方的喷嘴，将化学品或去离子水提供给在被固定至能够加工一张衬底的小室中的卡盘之后正通过马达而旋转的衬底。于是化学品或去离子水通过衬底的旋转而在衬底上铺展开，从而从衬底上去除附着于衬底的残余物。图1示出一般衬底清洁装置1000的配置结构，包括加载/卸载部件1100、索引机器人1200、缓冲部件1300、加工室1400和来自其中一侧的主传送机器人1500。索引机器人1200在缓冲部件1300和加载/卸载部件1100之间传送衬底，并且主传送机器人1500在缓冲部件1300和加工室1400之间传送衬底。在衬底清洁装置1000中，当主传送机器人1500的一个构件用于将衬底送入和运出多个加工室1400时，由于主传送机器人1500的移动距离变长，所以传送衬底的间隔时间增加。为了增加产自衬底清洁装置1000的产品的量，已提出增加索引机器人1200和主传送机器人1500的手和缓冲槽的数量的方法。然而，在需要产品的量等于或大于500张的情况下，即使所提出的方法也仍有限制。同时，如图2中所示，在为了增加产品量而在两个构件中设置主传送机器人1500的情况下，存在该装置的宽度(L)从2230mm增大到2800mm的问题。
技术实现思路
本专利技术构思的实施方式提供一种为了缩短间隔时间而加工衬底的装置。本专利技术构思的实施方式提供一种为了最大化其产量而加工衬底的装置。通过本专利技术构思的实施方式待解决的课题可以不限于此并且本文中未定义的其他课题可以由以下描述被本领域技术人员清楚地理解。本专利技术构思的实施方式的一方面涉及提供一种加工衬底的装置。所述装置可以包括：加载口，其上设有容纳衬底的衬底传送容器；加工部件，其被配置以加工衬底；和包括索引机器人的索引部件，其被配置以在所述衬底传送容器和所述加工部件之间运载所述衬底，其中所述加工部件可以包括：第一传送室，其被配置以具有运载衬底并邻近所述索引部件设置的第一主运载机器人；第二传送室，其被配置以具有运载衬底并邻近所述第一传送室设置的第二主运载机器人；和穿梭缓冲部件，其被配置以在所述第一传送室和所述第二传送室之间移动从而在所述第二主运载机器人和所述索引机器人之间传送衬底。此外，所述穿梭缓冲部件可包括被配置以独立地移动的两个穿梭缓冲器，其中所述两个穿梭缓冲器中的一个可以被配置以在加工之前将衬底运载到第二主运载机器人并且所述两个穿梭缓冲器中的另一个可以被配置以在加工之后将衬底运载到所述索引机器人。此外，所述穿梭缓冲部件可以还包括移动轴，其可以被配置以允许所述穿梭缓冲器移动并被配置以从所述第一传送室延伸到所述第二传送室。此外，所述装置可以还包括怠工控制部件，其被配置以将所述第一主运载机器人移出所述穿梭缓冲部件的传送路径从而防止所述穿梭缓冲部件移动时与所述第一主运载机器人碰撞。此外，加工部件可以包括：设置于所述第一传送室周围的第一室部件，其中堆叠至少两个或更多个加工室；和设置于所述第二传送室周围的第二室部件，其中堆叠至少两个或更多个加工室。此外，索引室、第一传送室和第二传送室可以配置在第一方向上，所述第一室部件可以在与所述第一方向不同的第二方向上对于所述第一传送室的一侧对称，并且所述第二室部件可以在与所述第一方向不同的第二方向上对于所述第二传送室的一侧对称。本专利技术构思的实施方式的另一方面涉及提供一种加工衬底的装置，包括：第一加工部件；设置于所述第一加工部件的后方的第二加工部件；设置于所述第一加工部件的前方并被配置以具有索引机器人的索引部件；和穿梭缓冲器，其被配置以从所述索引部件直接运载在所述第二加工部件中待加工的衬底并将在所述第二加工部件中经加工的衬底直接运载到所述索引部件。本专利技术构思的实施方式的再一方面涉及提供一种加工衬底的装置，包括：被配置以具有索引机器人的索引部件；与所述索引部件接触的固定缓冲器；与所述固定缓冲器连接的第一加工部件，其中加工室设置于第一主运载机器人周围；邻近于所述第一加工部件设置的第二加工部件，其中加工室设置于第二主运载机器人周围；和穿梭缓冲器，其被配置以在所述第二主运载机器人和所述索引部件之间传送衬底。此外，穿梭缓冲器可以被配置以在所述第二主运载机器人可接近的第一位置和所述索引机器人可接近的第二位置之间移动。此外，所述装置还可以包括怠工控制部件，其被配置以将所述第一主运载机器人移出所述穿梭缓冲部件的传送路径从而防止所述穿梭缓冲部件移动时与所述第一主运载机器人碰撞。附图说明参考附图，通过以下描述，上述及其他目的和特征将变得明显，其中在整个附图中，相同的附图标记是指相同的部件，除非另有规定，并且其中：图1和图2示出一般的配置结构；图3是示出根据本专利技术构思的实施方式的衬底加工装置的构成的俯视图；图4是示出图3的衬底加工装置的侧视图；并且图5示出第二加工部件。具体实施方式在下文中将结合附图描述本专利技术的各种实施方式。然而，本文中描述的各种实施方式并非有意局限在具体的实施方式中，但应该被视为包括各种变形、等同方案和/或备选方案。在描述本专利技术构思的实施方式时，将从中排除会动摇对本专利技术构思的理解的描述。在本说明书中使用的术语仅用于描述本专利技术的各种实施方式，并无意限制本专利技术的范围。单数形式的术语也可以包括复数形式，除非另有规定。本文中所使用的术语“包括”或“具有”可以理解成：特征、数量、操作、步骤、要素、部件和/或它们的组合中的任一个并不排除存在或添加一个或更多个不同的特征、数量、操作、步骤、元素、部件和/或它们的组合。术语“第一”和“第二”等可以用于表示各种要素，但并非用于限制所述要素。这些术语可仅用于将一个要素与其他要素区分开。现在将结合附图描述本专利技术构思的实施方式。在所有附图中，相同的附图标记将表示相同的要素，并且，无论是具有相同还是相应的附图标记，相同的要素将不会重复描述。将使用半导体晶片作为衬底的例子描述以下实施方式。然而，衬底的类型可以变成光掩模、平板显示面板或除了半导体晶片之外的另一个。此外，实施方式将被例示为：其中的衬底加工装置是一种用于清洁衬底的装置。参照图3，根据本专利技术构思的衬底加工装置1可以包括索引部件10和加工部件20。索引部件10和加工部件20可以排成一行。在下文中，布置所述索引部件10和加工部件20的方向被称为“第一方向X”，并且从顶部看与所述第一方向正交的方向被称为“第二方向Y”。垂直于包括第一方向X和第二方向Y的面的方向将是“第三方向Z”。索引部件10可以在第一方向X上设置于衬底加工装置的前侧。近年来，索引部件10可以是接口，该接口在下文中被称作设备前端模块(EFEM)，近年来通常用作300-mm晶片运载装置。索引部件10可以包括：索引室100；加载口130，其中设有承载器C，在承载器C中堆叠衬底；以及在常压下操作的索引机器人120。加载口130可以打开和关闭所述承载器的盖。可以提供多个加本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种用于加工衬底的装置，所述装置包括：加载口，其上设有容纳衬底的衬底传送容器；加工部件，其被配置以加工所述衬底；和包括索引机器人的索引部件，其被配置以在所述衬底传送容器和所述加工部件之间运载所述衬底，其中所述加工部件包括：第一传送室，其被配置以具有运载衬底并邻近所述索引部件布置的第一主运载机器人；第二传送室，其被配置以具有运载衬底并邻近所述第一传送室布置的第二主运载机器人；和穿梭缓冲部件，其被配置以在所述第一传送室和所述第二传送室之间移动从而在所述第二主运载机器人和所述索引机器人之间传送衬底。

【技术特征摘要】
2015.05.29 KR 10-2015-00765101.一种用于加工衬底的装置，所述装置包括：加载口，其上设有容纳衬底的衬底传送容器；加工部件，其被配置以加工所述衬底；和包括索引机器人的索引部件，其被配置以在所述衬底传送容器和所述加工部件之间运载所述衬底，其中所述加工部件包括：第一传送室，其被配置以具有运载衬底并邻近所述索引部件布置的第一主运载机器人；第二传送室，其被配置以具有运载衬底并邻近所述第一传送室布置的第二主运载机器人；和穿梭缓冲部件，其被配置以在所述第一传送室和所述第二传送室之间移动从而在所述第二主运载机器人和所述索引机器人之间传送衬底。2.根据权利要求1所述的装置，其中所述穿梭缓冲部件包括被配置以独立地移动的两个穿梭缓冲器，其中所述两个穿梭缓冲器中的一个被配置以在加工之前将衬底运载到所述第二主运载机器人，并且所述两个穿梭缓冲器中的另一个被配置以在加工之后将衬底运载到所述索引机器人。3.根据权利要求2所述的装置，其中所述穿梭缓冲部件还包括：移动轴，其被配置以允许所述穿梭缓冲器移动并被配置以从所述第一传送室延伸到所述第二传送室。4.根据权利要求1或2所述的装置，还包括：怠工控制部件，其被配置以将所述第一主运载机器人移出所述穿梭缓冲部件的传送路径从而防止所述穿梭缓冲部件移动时与所述第一主运载机器人碰撞。5.根据权利要求1所述的装置，其中所述加工部件包括：置于所述第一传送室周围的第一室部件，其中堆叠至少两个或更多个...

【专利技术属性】
技术研发人员：金大勋，朴贵秀，
申请(专利权)人：细美事有限公司，
类型：发明
国别省市：韩国;KR