用于真空灭弧室的触头及真空灭弧室制造技术

本实用新型专利技术公开一种用于真空灭弧室的触头，包括：触头盘；与所述触头盘配合形成一个触头功能单元的外壁面设有斜槽的触头杯；位于所触头杯内的与该触头杯一体制成的支撑座；其中，所述支撑座与所述触头盘之间具有间隙。它的回路电阻小，在产生相对均匀的纵向磁场的同时，减小了回路电阻，提升了真空灭弧室的使用性能，从而能够有效地克服现有触头的不足。本实用新型专利技术还公开一种真空灭弧室。

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及高压电器
，具体涉及用于真空灭弧室的触头及真空灭弧室。
技术介绍
真空灭弧室又名真空开关管，是中高压电力开关的核心部件，其主要作用是：通过管内真空优良的绝缘及灭弧性，使中高压电路切断电源后能迅速熄弧并抑制电流，避免事故和意外的发生。具有节能、节材、防火、防爆、体积小、寿命长、维护费用低、运行可靠和无污染等特点。因此，真空灭弧室被广泛的应用于电力的输配电控制系统，还应用于冶金、矿山、石油、化工、铁路、广播、通讯、工业高频加热等配电系统。真空灭弧室利用高真空作为绝缘及灭弧介质，靠密封在真空中的一对触头来实现电力电路的通断功能。当其断开一定数值的电流时，动静触头在分离的瞬间，电流收缩到触头刚分离的一点上，出现电极间电阻剧烈增大和温度迅速提高，直至发生电极金属的蒸发，同时形成极高的电场强度，导致极强烈的发射和间隙击穿，产生真空电弧。当工频电流接近零时，同时随着触头开距的增大，真空电弧的等离子体很快向四周扩散，电弧电流过零后，触头间隙的介质迅速由导电体变为绝缘体，于是电流被分断。真空灭弧室是真空开关的核心元件，能够实现高压电力线路工作电流的承载、开断、关合，也能实现线路故障电流的短时耐受、开断、关合。而触头是真空灭弧室的核心部件，真空灭弧室就是依靠触头产生的磁场来实现故障电流的开断和关合的。目前，真空灭弧室的触头的触头杯、支撑座之间通常为分体结构，常见的杯状纵磁触头的触头杯为无氧铜材料，支撑座为不锈钢材料，回路电阻偏大。为此，期望寻求一种技术方案，以至少减轻上述问题。
技术实现思路
一方面，本技术要解决的技术问题是，提供一种回路电阻小的真空灭弧室的触头。另一方面，本技术要解决的技术问题是，提供一种回路电阻小的真空灭弧室。为解决一方面技术问题，本技术采用下述技术方案。一种用于真空灭弧室的触头，包括：触头盘；与所述触头盘配合形成一个触头功能单元的外壁面设有斜槽的触头杯；以及位于所述触头杯内的与该触头杯一体制成的支撑座；其中，所述支撑座与所述触头盘之间具有间隙。所述间隙为0.4-0.6mm。所述触头杯及支撑座均由无氧铜制成。为解决另一方面技术问题，本技术采用下述技术方案。一种真空灭弧室，包括上述结构的用于真空灭弧室的触头。本技术具有下述有益技术效果。本技术回路电阻小，在产生相对均匀的纵向磁场的同时，减小了回路电阻，提升了真空灭弧室的使用性能，从而能够有效地克服现有触头的不足。附图说明图1示意性示出本技术的结构图。具体实施方式下面结合实施例对本技术的内容做进一步详细说明，但本技术的实施例不限于此。图1示意性示出本技术众多实施例中的一种用于真空灭弧室的触头的实施例。该用于真空灭弧室的触头包括触头杯1、支撑座2及触头盘4。触头杯1外壁面开有斜槽，斜槽能产生磁场。触头杯1与触头盘4配合形成一个触头功能单元，共同完成真空灭弧室承载电流和开断电流功能。支撑座2位于触头杯1内，与该触头杯1一体制成，均由无氧铜材料制成。支撑座2与触头盘4之间具有间隙3。在真空灭弧室承载电流时，在操动机构触头压力作用下，支撑座2与触头盘4贴合，电流直接流经支撑座2到达触头盘4，回路电阻小。在真空灭弧室开断电流时，触头压力释放使得支撑座2与触头盘4之间的间隙3恢复，电流流经触头杯1外壁斜槽之间部分，产生磁场从而达到开断电流之目的。由此可见，当将本技术装配到灭弧室，再将灭弧室装配到整机后，在合闸状态下支撑座2与触头盘4直接接触，在完成触头正常的使用功能前提下，回路电阻更小。由于本技术的缓冲作用，装配到整机后的合闸弹跳更小。在一些实施例中，间隙的尺寸在0.4-0.6mm之间选择，例如，具体可选择0.4mm、0.5mm、0.6mm等等。本技术还描述一种真空灭弧室，包括上述结构的用于真空灭弧室的触头。需要说明的是，上述具体实施方式中所描述的各个具体技术特征，在不矛盾的情况下，可以通过任何适合的方式进行组合。不同具体实施方式中所描述的各个具体技术特征，在不矛盾的情况下，彼此之间也可以通过任何适合的方式进行组合。为了避免不必要的重复，本技术对各种可能的组合方式不再进行描述。上面参照实施例对本技术进行了详细描述，是说明性的而不是限制性的，在不脱离本技术总体构思下的变化和/或修改，均在本技术的保护范围之内。本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种用于真空灭弧室的触头，其特征在于，包括：触头盘；与所述触头盘配合形成一个触头功能单元的外壁面设有斜槽的触头杯；以及位于所述触头杯内的与该触头杯一体制成的支撑座；其中，所述支撑座与所述触头盘之间具有间隙。

【技术特征摘要】
1.一种用于真空灭弧室的触头，其特征在于，包括：触头盘；与所述触头盘配合形成一个触头功能单元的外壁面设有斜槽的触头杯；以及位于所述触头杯内的与该触头杯一体制成的支撑座；其中，所述支撑座与所述触头盘之间具有间隙。2.根据权利要求1所述的用于...

【专利技术属性】
技术研发人员：王强，冉隆科，肖红，
申请(专利权)人：成都凯赛尔电子有限公司，
类型：新型
国别省市：四川;51