【技术实现步骤摘要】
本技术涉及光刻胶
,尤其涉及一种用于光刻胶的自动显影设备。
技术介绍
光刻胶是集成电路制造工艺中的一种关键材料,其过程主要包括涂布、烘烤、曝光、显影等步骤。光刻胶经过曝光后发生聚合或分解反应,然后采用化学显影液来溶解光刻胶,利用光照反应前后的光刻胶在显影液中的溶解速度的差异,经过一定时间使易溶解区域迅速溶解完全,而不易溶解区域的胶则保留于衬底表面,从而形成光刻图形。光刻胶的显影工艺对后续光刻胶图形进行观察分析乃至刻蚀过程等至关重要,如果不能正确的控制显影工艺的稳定性,就会造成显影不足、不完全显影、过显影等问题,从而造成光刻胶图形异常。目前常见的显影方法为连续喷雾显影和旋覆浸没显影两种。此两种方法均为应用于工厂作业进行批量生产操作、采用大型仪器设备的成熟稳定的技术。但是对于光刻胶的实验室研发测试,通常实验人员一次处理量为1~2片含光刻胶的衬底,基于成本、能耗、效率等各方面的考量,显然不适用于大型仪器。国内专业研发光刻胶的单位很少,鲜有报道有专门用于实验室光刻胶显影的设备。实验人员一般采用手动显影方法,即在恒温实验环境中,量取一定量的固定浓度的显影液,倒入能盛放光刻胶衬底的浅盘中,将衬底放入浅盘中使显影液全部没过衬底并开始计时,显影过程为手动水平摇晃浅盘使显影液在衬底表面流动,尽量保证光刻胶与显影液均匀的溶解反应,经过一定时间显影完成后停止摇晃,由镊子取出衬底,即刻用去离子水冲洗衬底并甩干,以待观察光刻胶图形。在该过程中,采用手动显影方法,因实验人员的不同,乃至同一实验人员的每一次实验,其手动摇晃过程中摇晃力度不同会造成显影液与光刻胶的接触均匀程度不同 ...
【技术保护点】
一种用于光刻胶的自动显影设备,其特征在于:包括开关及晃动速度旋钮(1)、浅盘架(2)、发动机(3)、旋转盘(4)、活塞头(5)和水平槽(6),所述的开关及晃动速度旋钮(1)与发动机(3)相连接,所述的发动机(3)带动旋转盘(4)旋转,所述的旋转盘(4)与活塞头(5)相连接,所述的旋转盘(4)通过旋转带动活塞头(5)在水平槽(6)内滑动,所述的浅盘架(2)固定在活塞头(5)的上部。
【技术特征摘要】
1.一种用于光刻胶的自动显影设备,其特征在于:包括开关及晃动速度旋钮(1)、浅盘架(2)、发动机(3)、旋转盘(4)、活塞头(5)和水平槽(6),所述的开关及晃动速度旋钮(1)与发动机(3)相连接,所述的发动机(3)带动旋转盘(4)旋转,所述的旋转盘(4)与活塞头(5)相连接,所述的旋转盘(4)通过旋转带动活塞头(5)在水平槽(6)内滑动...
【专利技术属性】
技术研发人员:向容,梁永,
申请(专利权)人:潍坊星泰克微电子材料有限公司,
类型:新型
国别省市:山东;37
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